專利名稱：一種青霉素g亞砜dmf復合晶體及其制備方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及醫(yī)藥領域，尤其涉及一種青霉素G亞砜復合晶體及其制備方法。
背景技術(shù)：
青霉素G 亞砜(penicillin G sulfoxide)，化學名為(2S, 5R, 6R)-3，3-二甲基-6-(2-苯乙酰氨基)7-氧代-4-硫雜-1-氮雜雙環(huán)[3. 2. O]庚烷-2-甲酸亞砜，分子式為C16H18O5N2S,分子量為350. 2，化學結(jié)構(gòu)式為
權(quán)利要求
1.一種青霉素G亞砜DMF復合晶體，其化學結(jié)構(gòu)式為
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的青霉素G亞砜DMF復合晶體，其特征在于所述青霉素G亞砜復合晶體熔點不低于101°c ;青霉素G亞砜DMF復合晶體中元素含量為C 53. 6%> N :9. 9%、 O 22. 8%、H :5. 9%、S :7. 55%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的青霉素G亞砜DMF復合晶體，其特征在于所述青霉素G亞砜復合晶體的X—射線粉末衍射圖譜如說明書第3頁表I所示。
4.一種制備權(quán)利要求1所述的青霉素G亞砜DMF復合晶體的方法，其特征在于包括以下步驟A、將青霉素G亞砜溶解于DMF、含DMF的水溶液或含DMF的有機溶液中，得青霉素G亞砜的DMF混合溶液，溶解溫度為10°C 50°C，所述青霉素G亞砜與DMF的用量比按質(zhì)量體積比計為1:0. 5g/ml l:10g/ml;B、將上述混合溶液降溫至_30°C 10°C，靜置24h，使青霉素G亞砜和DMF逐步達到飽和或過飽和狀態(tài)，析出青霉素G亞砜DMF復合晶體,過濾,并對濾出的晶體進行洗漆、干燥。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的青霉素G亞砜復合晶體的制備方法，其特征在于所述含DMF 的水溶液或含DMF的有機溶液中，溶質(zhì)DMF與溶劑的體積百分比> 1:4。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的青霉素G亞砜復合晶體的制備方法，其特征在于所述含DMF 的水溶液或含DMF的有機溶液中，溶質(zhì)DMF與溶劑的體積百分比> 7:3。
7.根據(jù)權(quán)利要求4 6任一項所述的青霉素G亞砜復合晶體的制備方法，其特征在于 所述含DMF的有機溶液中，有機溶劑為甲苯、乙酸乙酯、苯中的一種或幾種的混合。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的青霉素G亞砜復合晶體的制備方法，其特征在于所述青霉素G亞砜與DMF的用量比按質(zhì)量體積比計為1:2.0 g/mr1:6. 5g/mL·
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的青霉素G亞砜復合晶體的制備方法，其特征在于所述步驟A 中青霉素G亞砜的溶解溫度為10°C 30°C。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的青霉素G亞砜復合晶體的制備方法，其特征在于所述步驟 B中混合溶液降溫至-20°C I (TC。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種青霉素G亞砜DMF復合晶體及其制備方法，所述復合晶體熔點不低于101℃，元素含量為C53.6%、N9.9%、O22.8%、H5.9%、S7.55%。其制備方法為首先將青霉素G亞砜溶解于DMF、含DMF的水溶液或含DMF的有機溶液中，得青霉素G亞砜的DMF混合溶液；然后將上述混合溶液降溫靜置，析出青霉素G亞砜DMF復合晶體，過濾、洗滌、干燥得青霉素G亞砜DMF復合晶體。該復合晶體穩(wěn)定性好，水份含量極低，且不含對酯化保護反應起破壞作用的雜質(zhì)，確保了用其生產(chǎn)頭孢烷酸過程中的酯化保護和擴環(huán)重排反應的順利進行，擴環(huán)重排反應所得的頭孢烷酸的收率高、品質(zhì)好。
文檔編號C07D499/46GK103059044SQ20121055752
公開日2013年4月24日 申請日期2012年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月20日
發(fā)明者米振瑞, 魏青杰, 段志鋼, 付成名, 張苗靜, 鄭寶麗 申請人:華北制藥河北華民藥業(yè)有限責任公司