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一種低輻射鍍膜節(jié)能玻璃的制作方法

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一種低輻射鍍膜節(jié)能玻璃的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及玻璃技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種浮法白?;戮G玻的低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002]綠玻低輻射鍍膜玻璃具有良好的外觀(guān)裝飾效果和節(jié)能效果,在現(xiàn)代商業(yè)建筑中得到了廣泛應(yīng)用?,F(xiàn)有技術(shù)中,要想得到綠玻低輻射鍍膜玻璃的外觀(guān)效果,就必須采用綠玻作為鍍膜基片,其它基片無(wú)法實(shí)現(xiàn)。但由于綠玻生產(chǎn)周期和庫(kù)存時(shí)間較長(zhǎng),原片不如浮法白玻新鮮,導(dǎo)致在鍍膜過(guò)程中,綠玻鍍膜產(chǎn)品合格率低,且綠玻原片成本比白玻高。另外,綠玻低輻射鍍膜玻璃透過(guò)色偏綠,影響采光效果,產(chǎn)生失真感。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中綠玻鍍膜制作低輻射玻璃成本高、透過(guò)色偏綠等缺陷,提供一種以浮法白玻為玻璃基片仿綠玻的低輻射鍍膜玻璃。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
在優(yōu)質(zhì)浮法白?;希来五冇械谝唤橘|(zhì)層、阻擋層、第二介質(zhì)層、功能層、第一保護(hù)層、第二保護(hù)層,夠成了穩(wěn)定的膜系。
[0005]所述第一介質(zhì)層,可以是SiNx、ZnO、ZnSnO或T1x,厚度為l~10nm,提高膜層對(duì)表面的附著力;所述阻擋層,可以是NiCr或Cr,厚度為5~10nm,提升Ag層在膜層中的附著力,提高Ag層的抗氧化能力;所述第二介質(zhì)層,可以是SiNx、ZnO、ZnSnO或T1x,厚度為40~75nm,提高膜層透過(guò)率,可以調(diào)節(jié)白玻鍍膜后的顏色,使其從外部觀(guān)察時(shí)更接近綠玻,使白玻鍍膜后具有更好商業(yè)使用低福射玻璃的外觀(guān)裝飾效果;所述功能層為Ag,厚度為5~15nm,可以反射掉大部分太陽(yáng)能中的熱輻射,起到低輻射節(jié)能效果;所述第一保護(hù)層,可以是NiCr或Cr,厚度為l~10nm,保護(hù)功能層Ag層不被后續(xù)鍍膜過(guò)程和其后的加工過(guò)程所氧化。所述第二保護(hù)層,可以是SiNx、ZnO、AZO,ZnSnO或T1x,厚度為20~50nm,可以隔絕氧氣和其他物質(zhì),保護(hù)內(nèi)部膜層免受侵蝕,提高膜系耐化學(xué)腐蝕和機(jī)械摩擦的性能,同時(shí)可以起到調(diào)節(jié)顏色的作用。
[0006]進(jìn)一步,當(dāng)上述低輻射鍍膜玻璃為:優(yōu)質(zhì)浮法白?;弦来五冎芐iNx、NiCr、21^0^8、附0^凡時(shí),制備得到的低輻射鍍膜玻璃具有更接近綠玻低輻射鍍膜玻璃的外觀(guān)、透過(guò)色更加中性等優(yōu)點(diǎn)。
[0007]有益效果本發(fā)明提供的低輻射鍍膜節(jié)能玻璃,實(shí)現(xiàn)了浮法白玻仿制綠玻的低輻射鍍膜的外觀(guān)效果,同時(shí)使低輻射鍍膜節(jié)能玻璃的透過(guò)色更接近中性。降低了低輻射鍍膜節(jié)能玻璃的基材玻璃成本,減少了鍍膜過(guò)程中的報(bào)廢率,大幅度的降低了低輻射鍍膜節(jié)能玻璃的生產(chǎn)成本,具有極大的商業(yè)價(jià)值。
【具體實(shí)施方式】
[0008]實(shí)施例1
選用6_優(yōu)質(zhì)浮法白玻基片,利用真空磁控陰極濺射法鍍膜,由內(nèi)到外膜系依次為:第一層采用SiNx厚度8nm、第二層采用NiCr厚度10nm、第三層采用ZnSnO x厚度78nm、第四層采用Ag厚度9nm、第五層采用NiCr厚度3.6nm、第六層采用SiNx厚度20nmo
[0009]實(shí)施例2
選用6_優(yōu)質(zhì)浮法白?;?,利用真空磁控陰極濺射法鍍膜,由內(nèi)到外膜系依次為:第一層采用SiNx厚度llnm、第二層采用NiCr厚度7nm、第三層采用SiNx厚度67nm、第四層采用Ag厚度6.5nm、第五層采用NiCr厚度3.3nm、第六層采用ΑΖ0Χ厚度20nmo
[0010]上述實(shí)施例,只是本發(fā)明的較佳實(shí)施例,并非用來(lái)限制本發(fā)明實(shí)施范圍,故凡以本發(fā)明權(quán)利要求所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾,均應(yīng)包括在本發(fā)明權(quán)利要求范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,以浮法白玻為玻璃基片,依次鍍有第一介質(zhì)層、阻擋層、第二介質(zhì)層、功能層、第一保護(hù)層、第二保護(hù)層。2.如權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,所述第一介質(zhì)層,可以是SiNx、ZnO、ZnSnO 或 T1x,厚度為 l~10nm。3.如權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,所述阻擋層,可以是NiCr或Cr,厚度為5~10nmo4.如權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,所述第二介質(zhì)層,可以是SiNx、ZnO、ZnSnO 或 T1x,厚度為 40~75nm。5.如權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,所述功能層為Ag,厚度為5?15nm06.如權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,所述第一保護(hù)層,可以是NiCr或Cr,厚度為 l~10nm。7.如權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,所述第二保護(hù)層,可以是SiNx、ZnO、AZO,ZnSnO 或 T1x,厚度為 20~50nm。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種低輻射鍍膜節(jié)能玻璃。本發(fā)明的低輻射鍍膜采用浮法白玻為玻璃基片,依次鍍有第一介質(zhì)層、阻擋層、第二介質(zhì)層、功能層、第一保護(hù)層、第二保護(hù)層;所述介質(zhì)層,可以是SiNx、ZnO、ZnSnO或TiOx;所述阻擋層,可以是NiCr或Cr;所述功能層是Ag;所述第一保護(hù)層,可以是NiCr或Cr;第二保護(hù)層,可以是Zn0,ZnSnO,AZO,SiNx或TiOx。本發(fā)明制備的低輻射鍍膜玻璃,以普通浮法白玻為基片,獲得了綠玻基片鍍膜的外觀(guān)效果,提高了鍍膜過(guò)程中的合格率,降低了鍍膜玻璃生產(chǎn)成本,且透過(guò)色更接近中性。
【IPC分類(lèi)】C03C17/36
【公開(kāi)號(hào)】CN105271816
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510631748
【發(fā)明人】不公告發(fā)明人
【申請(qǐng)人】涂艷麗
【公開(kāi)日】2016年1月27日
【申請(qǐng)日】2015年9月29日
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