一種可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃，包括玻璃基板、金屬薄膜及其化合物薄膜，利用離線真空磁控濺射技術(shù)一次疊加設(shè)置在所屬玻璃基板表面的20層薄膜，其薄膜層包括電介質(zhì)干涉層、金屬低輻射層、合金光吸收層，電介質(zhì)抗氧化層、復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層。本實(shí)用新型具備優(yōu)異節(jié)能性、異地可加工性、良好的裝飾性。該節(jié)能鍍膜玻璃與遮陽(yáng)系數(shù)相同的LOW-E鍍膜玻璃相比，其太陽(yáng)能透過(guò)能力是普通的單銀LOW-E的1/8，是普通雙銀LOW-E的1/4。由于直接輻射的熱能極低，室內(nèi)的人員可以有效擴(kuò)大活動(dòng)空間，人體感知的熱舒適指數(shù)也大大提升。夏季可以使紅外線輻射熱能基本不透過(guò)，起到優(yōu)良的隔熱作用，冬季也能夠保持暖氣不流失，起到很好的保溫作用。
【專利說(shuō)明】
一種可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃，特別涉及離線真空磁控 濺射低輻射鍍膜玻璃領(lǐng)域，該玻璃采用真空磁控濺射方法生產(chǎn)，表面輻射率極低，節(jié)能效果 提升明顯、顏色多樣。
【背景技術(shù)】
[0002] 上世紀(jì)80年代開始，離線真空磁控濺射鍍制低輻射鍍膜玻璃技術(shù)得到迅猛的發(fā) 展，從而使鍍膜玻璃的節(jié)能特性有了明顯的提升，隨著國(guó)家對(duì)建筑節(jié)能要求的提高，人們?cè)?選擇建筑門窗玻璃時(shí)，除了考慮其外觀美學(xué)特征外，越來(lái)越注重玻璃對(duì)建筑的節(jié)能性，包括 熱量控制、制冷成本以及內(nèi)部陽(yáng)光投射舒適平衡的問(wèn)題。其中最主要的是解決熱量透過(guò)問(wèn) 題，而太陽(yáng)能熱量的絕大部分集中在紅外波段，因此如何控制玻璃對(duì)紅外線波段的阻擋，使 其透熱量最少，保溫性最高，降低制冷或采暖費(fèi)用來(lái)提升節(jié)能性，同時(shí)做到光熱平衡是目前 低輻射鍍膜玻璃首要解決的問(wèn)題。
[0003] 然而目前市面上常見的可以控制熱能的低輻射鍍膜玻璃有單銀L0W-E和雙銀L0W-E，其表面輻射率單銀L0W-E在0.06-0.15之間，雙銀L0W-E在0.03-0.06之間，在遮陽(yáng)系數(shù)0.4 的情況要求下，單銀L0W-E可見光透過(guò)率約為50%，太陽(yáng)能透過(guò)約為24%，雙銀L0W-E可見光 透過(guò)率約為68%，太陽(yáng)能透過(guò)約為12%。雖然雙銀L0W-E節(jié)能性有了質(zhì)的進(jìn)步，但是這并不 能滿足更高標(biāo)準(zhǔn)和要求的建筑節(jié)能，還有進(jìn)一步提升的空間。同時(shí)市面上出現(xiàn)少量的三銀 L0W-E產(chǎn)品絕大部分都不能進(jìn)行鍍膜后鋼化和熱彎，且顏色單一，限制了建筑玻璃發(fā)展的結(jié) 構(gòu)多樣性。鑒于此技術(shù)問(wèn)題，發(fā)明人根據(jù)多年從事此行業(yè)的工作經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)，做出了多種嘗 試和努力，終于研發(fā)出能夠解決此問(wèn)題的新工藝和新玻璃品種。本實(shí)用新型提供的玻璃是 一種輻射率極低、阻擋紅外熱輻射能力極強(qiáng)、節(jié)能性突出、可進(jìn)行鋼化、熱彎、顏色及透光率 可調(diào)且多樣性的產(chǎn)品。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004] 本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于克服現(xiàn)有鍍膜玻璃技術(shù)之缺陷，提升鍍膜玻 璃整體工藝水平及產(chǎn)品性能，提供一種可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃。該玻璃的輻射 率、紅外輻射熱能透過(guò)率遠(yuǎn)低于目前市場(chǎng)上廣泛應(yīng)用的所有雙銀L0W-E玻璃，極大地提高了 玻璃的節(jié)能性。另外，該玻璃可進(jìn)行鋼化、熱彎、顏色及透光率可調(diào)且多樣性，為建筑玻璃行 業(yè)節(jié)能發(fā)展以及產(chǎn)品結(jié)構(gòu)、外觀多樣性提供了有利保證。
[0005] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是：
[0006] -種可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面依次 疊加有20層薄膜，20層薄膜在所述玻璃基板上的依次疊加構(gòu)成順序?yàn)榈?層為玻璃基板、第 2、3層為電介質(zhì)干涉層，第4層為電介質(zhì)抗氧化層，第5層為金屬低輻射層，第6層為電介質(zhì)抗 氧化層，第7、8層為電介質(zhì)干涉層，第9層為電介質(zhì)抗氧化層，第10層為金屬低輻射層，第11 層為合金光吸收層，第12層為電介質(zhì)抗氧化層，第13、14層為電介質(zhì)干涉層，第15層為電介 質(zhì)抗氧化層，第16層為金屬低輻射層，第17層為合金光吸收層，第18層為電介質(zhì)抗氧化層， 第19、20、21層為復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層；
[0007]其中所述電介質(zhì)干涉射層為Si3N4層、Sn〇2層、ZnSnOx層、TiOx層、ZnO層或以上各層 兩層以上的復(fù)合層；
[0008]所述金屬低福射層為Ag層、Cu層、A1層或AgCu合金層中的任意一層；
[0009] 所述合金光吸收層為NiCr層、NiCrNx層、NiCrOx層、Nb層、NbNx層、NbOx層中的任意 一層；
[00?0]所述電介質(zhì)抗氧化層為ΑΖ0層；
[0011 ]所述復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層為Si3N4層、Sn〇2層、ZnO層、TiOx層、Zr〇2層中的一層或以上各 層兩層以上的復(fù)合層。
[0012]其中所述的第2、3層電介質(zhì)干涉層疊加總厚度為15nm~40nm，所述的第4層電介質(zhì) 抗氧化層厚度為lnm~10nm，所述的第5層金屬低福射層厚度為3nm~10nm，所述的第6層電 介質(zhì)抗氧化層厚度為lnm~10nm，所述的第7、8層電介質(zhì)干涉層疊加總厚度為55]11]1~85111]1， 所述的第9層電介質(zhì)抗氧化層厚度為lnm~10nm，所述的第10層金屬低福射層厚度為7nm~ 17nm，所述的第11層合金光吸收層厚度為0.5nm~10nm，所述的第12層電介質(zhì)抗氧化層厚度 為lnm~10nm，所述的第13、14層電介質(zhì)干涉層疊加總厚度為60nm~90nm，所述的第15層電 介質(zhì)抗氧化層厚度為lnm~10nm，所述的第16層金屬低福射層厚度為8nm~18nm，所述的第 17層合金光吸收層厚度為0.5nm~10nm，所述的第18層電介質(zhì)抗氧化層厚度為lnm~10nm， 所述的第19、20、21層復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層疊加總厚度為2〇111]1~5〇11111 〇 [0013]其中所述的20層薄膜在玻璃基板表面疊加方式為離線真空磁控陰極濺射沉積。
[0014] 其中所述電介質(zhì)抗氧化層為陶瓷ΑΖ0層。
[0015] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，采用上述技術(shù)方案的本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：
[0016] 1、本實(shí)用新型產(chǎn)品材料及工藝成熟可靠，可操作性強(qiáng)，應(yīng)用范圍廣。同時(shí)由于結(jié)構(gòu) 較市場(chǎng)上常見的普通雙銀L0W-E、三銀L0W-E更為復(fù)雜和獨(dú)特，所以產(chǎn)品被他人復(fù)制與模仿 的難度極高，保證了產(chǎn)品的獨(dú)創(chuàng)性。
[0017] 2、本實(shí)用新型產(chǎn)品表面輻射率低于0.02，可以阻擋95 %以上的紅外輻射熱能，其 透過(guò)的太陽(yáng)紅外熱能是普通的單銀L0W-E的1 /8，是普通雙銀L0W-E的1 /4，節(jié)能性更好，為建 筑及門窗節(jié)能提供更好的選擇。
[0018] 3、本實(shí)用新型產(chǎn)品可以進(jìn)行后工序的鋼化和熱彎加工，增大了產(chǎn)品的可塑性和附 加值，利于規(guī)模化、批量化生產(chǎn)及異地加工，提高了生產(chǎn)效率，為建筑及門窗結(jié)構(gòu)多樣化提 供更多的選擇。
[0019] 4、本實(shí)用新型產(chǎn)品可見光透過(guò)率在50%~75%內(nèi)可調(diào)。外觀顏色可以為中性色、 灰色、藍(lán)色可調(diào)，降低了市場(chǎng)上產(chǎn)品的單一性，引導(dǎo)市場(chǎng)高效節(jié)能產(chǎn)品的多元化發(fā)展。
【附圖說(shuō)明】
[0020]圖1為本實(shí)用新型的廣品結(jié)構(gòu)不意圖；
[0021] 圖2和圖3分別為本實(shí)用新型實(shí)施例1和實(shí)施例2的可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜 玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022] 附圖標(biāo)記說(shuō)明：1_玻璃基板;2-電介質(zhì)干涉層;3-電介質(zhì)干涉層;4-電介質(zhì)抗氧化 層;5-為金屬低福射層;6-電介質(zhì)抗氧化層;7-電介質(zhì)干涉層;8-電介質(zhì)干涉層;9-電介質(zhì)抗 氧化層；10-金屬低福射層；11-合金光吸收層；12-電介質(zhì)抗氧化層；13-電介質(zhì)干涉層；14-電介質(zhì)干涉層；15-電介質(zhì)抗氧化層；16-金屬低福射層；17-合金光吸收層；18-電介質(zhì)抗氧 化層;19-復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層;20-復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層;21-復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層。
【具體實(shí)施方式】
[0023]為了使本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題、技術(shù)方案及有益效果更加的清楚明白，下 面結(jié)合具體實(shí)施例來(lái)進(jìn)一步描述本實(shí)用新型，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)將會(huì)隨著描述而更 為清楚。但實(shí)施例僅是范例性的，并不對(duì)本實(shí)用新型的范圍構(gòu)成任何限制。本領(lǐng)域技術(shù)人員 應(yīng)該理解的是，在不偏離本實(shí)用新型的精神和范圍下可以對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案的細(xì)節(jié)和 形式進(jìn)行修改或替換，但這些修改和替換均落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0024]本實(shí)用新型提供了一種結(jié)構(gòu)牢固、緊湊，表面輻射率低于0.02,可以阻擋95%以上 的紅外線輻射熱能，同時(shí)可見光透光率及顏色可調(diào)，具備可以后續(xù)鋼化和熱彎功能的高節(jié) 能性紅外線屏蔽玻璃。如圖1所示，該紅外線屏蔽玻璃包括玻璃基板1，以及在玻璃基板1表 面利用真空磁控濺射方式依次沉積疊加的電介質(zhì)干涉層2、電介質(zhì)干涉層3、電介質(zhì)抗氧化 層4、金屬低福射層5、電介質(zhì)抗氧化層6、電介質(zhì)干涉層7、電介質(zhì)干涉層8、電介質(zhì)抗氧化層 9、金屬低福射層10、合金光吸收層11、電介質(zhì)抗氧化層12、電介質(zhì)干涉層13、電介質(zhì)干涉層 14、電介質(zhì)抗氧化層15、金屬低福射層16、合金光吸收層17、電介質(zhì)抗氧化層18、復(fù)合介質(zhì)保 護(hù)層19、復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層20、復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層21。這樣該紅外線屏蔽玻璃所含的電介質(zhì)干涉 層2、電介質(zhì)干涉層3、電介質(zhì)抗氧化層4能有效地加強(qiáng)玻璃基板1與金屬低輻射層5的結(jié)合強(qiáng) 度。通過(guò)金屬低輻射層5、金屬低輻射層10、金屬低輻射層16的設(shè)置及調(diào)節(jié)，增強(qiáng)太陽(yáng)能紅外 輻射的阻擋能力，降低紅外線熱輻射的透過(guò)率，起到降低輻射及節(jié)能的作用。通過(guò)合金光吸 收層11、合金光吸收層17的設(shè)置調(diào)節(jié)，降低可見光的透過(guò)率，從而降低光線從玻璃基板1射 向金屬低福射層5、金屬低福射層10、金屬低福射層16的強(qiáng)度，起到調(diào)節(jié)透光率及光線舒適 度的作用。通過(guò)電介質(zhì)抗氧化層4、電介質(zhì)抗氧化層6、電介質(zhì)抗氧化層9、電介質(zhì)抗氧化層 12、電介質(zhì)抗氧化層15、電介質(zhì)抗氧化層18的設(shè)置及調(diào)節(jié)能有效地阻止金屬低輻射層5、金 屬低福射層10、金屬低福射層16與空氣的接觸發(fā)生的氧化現(xiàn)象，保證了金屬低福射層5、金 屬低福射層10、金屬低福射層16的低福射節(jié)能性。電介質(zhì)干涉層7、電介質(zhì)干涉層8、電介質(zhì) 干涉層13、電介質(zhì)干涉層14能夠?qū)τ行У厥构饩€在其界面上發(fā)生折射與干涉，使不同波長(zhǎng) 下的可見光選擇性的透過(guò)和反射，決定了玻璃基板外表面呈現(xiàn)的不同顏色。復(fù)合介質(zhì)保護(hù) 層19、復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層20、復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層21能有效地對(duì)其前面的所有膜層起到保護(hù)并起 到耐熱、抗劃傷作用，使該紅外線屏蔽玻璃膜層更耐加工，不易損壞，同時(shí)還可以通過(guò)復(fù)合 介質(zhì)保護(hù)層19、復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層20的顏色調(diào)節(jié)，改變產(chǎn)品外觀效果。
[0025]具體的，玻璃基板1可以是普通玻璃，或本領(lǐng)域常用的其他類型玻璃，該玻璃基板1 與上述電介質(zhì)干涉層2相對(duì)的表面作為本發(fā)明可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃的外表 面，該表面也即是該玻璃的觀測(cè)面。
[0026]具體的，上述的第2、3層電介質(zhì)干涉層為Si3N4層、Sn〇2層、ZnSnOx層、TiOx層、ZnO層 中的任意且至少兩種所組成的復(fù)合層，其中ZnSnOx分子式中的X為1~2，Ti0x分子式中的X 為2,疊加總厚度為15nm~40nm。上述的第4層電介質(zhì)抗氧化層為陶瓷ΑΖ0層，厚度為lnm~ 10nm。上述的第5層金屬低福射層為Ag層、Cu層、A1層或AgCu合金層中的任意一層，厚度為 3]11]1~1〇111]1。上述的第6層電介質(zhì)抗氧化層為陶瓷八20層，厚度為1111]1~1〇111]1。上述的第7、8層 電介質(zhì)干涉層為Si3N4層、Sn〇2層、ZnSnOx層、TiOx層、ZnO層中的任意且至少兩種所組成的復(fù) 合層，疊加總厚度為55nm~85nm。上述的第9層電介質(zhì)抗氧化層為陶瓷AZ0層，厚度為lnm~ 10nm。上述的第10層金屬低福射層為Ag層、Cu層、A1層或AgCu合金層中的任意一層，厚度為 7nm~17nm。上述的第11層合金光吸收層為NiCr層、NiCrNx層、NiCrOx層、Nb層、NbNx層、NbOx 層中的任意一層，NiCrOx分子式中的X為1~1.33，NbOx分子式中的X為0.5~2.5，厚度為 0.5nm~10nm。上述的第12層電介質(zhì)抗氧化層為陶瓷AZ0層，厚度為lnm~10nm。上述的第13、 14層電介質(zhì)干涉層為Si3N4層、Sn〇2層、ZnSnOx層、TiOx層、ZnO層中的任意且至少兩種所組成 的復(fù)合層，疊加總厚度為60nm~90nm。上述的第15層電介質(zhì)抗氧化層為陶瓷AZ0層，厚度為 lnm~10nm。上述的第16層金屬低福射層為Ag層、Cu層、A1層或AgCu合金層中的任意一層，厚 度為8nm~18nm。上述的第17層合金光吸收層為NiCr層、NiCrNx層、NiCrOx層、Nb層、NbNx層、 NbOx層中的任意一層，厚度為0.5nm~10nm。上述的第18層電介質(zhì)抗氧化層為陶瓷AZ0層，厚 度為lnm~10nm。上述的第19、20、21層復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層為Si3N4層、Sn〇2層、ZnO層、TiOx層、 Zr〇2層中的任意且至少兩種所組成的復(fù)合層，疊加總厚度為20nm~50nm。
[0027] 綜上所述，本實(shí)用新型可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃實(shí)施例可以至少是如下 幾種結(jié)構(gòu)的優(yōu)選實(shí)施例，當(dāng)然不僅僅限于下述結(jié)構(gòu)：
[0028] 第一種結(jié)構(gòu):如圖2所示，本實(shí)用新型實(shí)施例可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃包 括玻璃基板1和一次疊加設(shè)置在玻璃基板1表面上的Si 3N4層2、Zn0層3、AZ0層4、Ag層5、AZ0層 6、ZnSn0x層7、Zn0層8、AZ0層9、Ag層10、NiCr層11、AZ0層12、ZnSn0x層13、Zn0層14、AZ0層15、 Ag 層 16、NiCr 層 17、AZ0 層 18、Zn0 層 19、Si3N4 層 20、Zr02 層 21。
[0029] 第二種結(jié)構(gòu):如圖3所示，本實(shí)用新型實(shí)施例可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃包 括玻璃基板1和一次疊加設(shè)置在玻璃基板1表面上的Si 3N4層2、Ti0x層3、AZ0層4、Cu層5、AZ0 層6、Si3N4層7、ZnSn0x層8、AZ0層9、Ag層 10、NiCr層11、AZ0層12、Si3N4 層13、ZnSn0x層14、AZ0 層 15、Ag 層 16、NiCr 層 17、AZ0 層 18、ZnSn0x 層 19、Si3N4 層 20、Zr〇2 層 21。
[0030] 現(xiàn)結(jié)合實(shí)例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0031] 實(shí)施例1
[0032] 本實(shí)施例的可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃結(jié)構(gòu)如圖2所示，該可熱彎的紅外 熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃包括玻璃基板1及一次疊加在其表面上的Si 3N4層2、Zn0層3,疊加厚度 為30nm，ΑΖ0層4，厚度為lnm，Ag層5，厚度為10nm，ΑΖ0層6，厚度為lnm，ZnSnOx層7、ZnO層8，疊 加厚度為74m，AZ0層9,厚度為lnm，Ag層10,厚度為14nm，NiCr層11，厚度為0.5nm，AZ0層12， 厚度為lnm，ZnSnOx層13、ZnO層14,疊加厚度為74nm，AZ0層15,厚度為lnm，Ag層16,厚度為 14nm，NiCr 層 17,厚度為 0.5nm，AZ0 層 18,厚度為 lnm，Zn0 層 19、Si3N4 層 20、Zr02 層 21 疊加厚度 為44nm〇
[0033] 其制備方法為：利用平板玻璃真空磁控濺射鍍膜機(jī)，采用下述表1列出的工藝參 數(shù)，使用20個(gè)陰極進(jìn)行生產(chǎn)，制備出本實(shí)用新型可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃，其具體 工藝參數(shù)見下表：
[0034] 表 1
[0035]
[0036] 按照上述表中的工藝參數(shù)制備出來(lái)的可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃進(jìn)行光 學(xué)性能測(cè)試，其結(jié)果如下：
[0037] 普通白?；迕?觀測(cè)面)的可見光透過(guò)率:73%，透過(guò)顏色:a* = -4.5，b* = 4.5;
[0038] 普通白?；迕?觀測(cè)面)的可見光反射率:6%，反射顏色:a* = -1.6，b* = _7;
[0039] 普通白?；迕?觀測(cè)面)的太陽(yáng)紅外熱能透過(guò)率:4.5%;
[0040] Zr02層面(測(cè)量面)的表面輻射率值為:0.01。
[0041 ] 實(shí)施例2
[0042] 本實(shí)施例的可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃結(jié)構(gòu)如圖3所示，該紅外線屏蔽玻 璃包括玻璃基板1及一次疊加在其表面上的Si3N4層2、Ti0x層3,疊加厚度為32nm，AZ0層4,厚 度為lnm，Cu層5,厚度為12nm，AZ0層6,厚度為1.5nm，Si3N4層7、ZnSn0x層8,疊加厚度為70m， ΑΖ0層9,厚度為lnm，Ag層10,厚度為15nm，NiCr層11，厚度為2nm，AZ0層12，厚度為lnm，Si3N4 層13、ZnSn0x層14,疊加厚度為75nm，AZ0層15,厚度為lnm，Ag層16，厚度為16nm，NiCr層17， 厚度為1.5nm，AZ0層18,厚度為lnm，ZnSnOx層19、Si 3N4層20、Zr02層21疊加厚度為40nm〇
[0043] 其制備方法為：利用平板玻璃真空磁控濺射鍍膜機(jī)，采用下述表2列出的工藝參 數(shù)，使用20個(gè)陰極進(jìn)行生產(chǎn)，制備出本實(shí)用新型可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃，其具體 工藝參數(shù)見下表：
[0044] 表 2
[0045]
[0046]
[0047] 按照上述表中的工藝參數(shù)制備出來(lái)的可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃進(jìn)行光 學(xué)性能測(cè)試，其結(jié)果如下：
[0048] 普通白?；迕?觀測(cè)面)的可見光透過(guò)率:56 %，透過(guò)顏色:a* = -7.5，b* = -1;
[0049] 普通白玻基板面(觀測(cè)面)的可見光反射率:8 %，反射顏色:a* = -3，b* = -5;
[0050] 普通白?；迕?觀測(cè)面)的太陽(yáng)紅外熱能透過(guò)率:2.5%;
[00511 Zr02層面(測(cè)量面)的表面輻射率值為:0.01。
[0052]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí) 用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的 保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于:所述玻璃基板 表面依次疊加有20層薄膜，20層薄膜在所述玻璃基板上的依次疊加構(gòu)成順序?yàn)榈?層為玻 璃基板、第2、3層為電介質(zhì)干涉層，第4層為電介質(zhì)抗氧化層，第5層為金屬低輻射層，第6層 為電介質(zhì)抗氧化層，第7、8層為電介質(zhì)干涉層，第9層為電介質(zhì)抗氧化層，第10層為金屬低輻 射層，第11層為合金光吸收層，第12層為電介質(zhì)抗氧化層，第13、14層為電介質(zhì)干涉層，第15 層為電介質(zhì)抗氧化層，第16層為金屬低輻射層，第17層為合金光吸收層，第18層為電介質(zhì)抗 氧化層，第19、20、21層為復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層； 其中所述電介質(zhì)干涉射層為Si3N4層、Sn〇2層、ZnSnOx層、TiOx層、ZnO層或以上各層兩層 以上的復(fù)合層； 所述金屬低福射層為Ag層、Cu層、A1層或AgCu合金層中的任意一層； 所述合金光吸收層為NiCr層、NiCrNx層、NiCrOx層、Nb層、NbNx層、NbOx層中的任意一 層； 所述電介質(zhì)抗氧化層為AZ0層； 所述復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層為Si3N4層、Sn〇2層、ZnO層、TiOx層、Zr〇2層中的一層或以上各層兩 層以上的復(fù)合層。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃，其特征在于:所述的第2、 3層電介質(zhì)干涉層疊加總厚度為15nm~40nm，所述的第4層電介質(zhì)抗氧化層厚度為lnm~ 10nm，所述的第5層金屬低福射層厚度為3nm~10nm，所述的第6層電介質(zhì)抗氧化層厚度為 lnm~10nm，所述的第7、8層電介質(zhì)干涉層疊加總厚度為55]11]1~85111]1，所述的第9層電介質(zhì)抗 氧化層厚度為lnm~10nm，所述的第10層金屬低福射層厚度為7nm~17nm，所述的第11層合 金光吸收層厚度為〇. 5nm~10nm，所述的第12層電介質(zhì)抗氧化層厚度為lnm~10nm，所述的 第13、14層電介質(zhì)干涉層疊加總厚度為60nm~90nm，所述的第15層電介質(zhì)抗氧化層厚度為 lnm~10nm，所述的第16層金屬低福射層厚度為8nm~18nm，所述的第17層合金光吸收層厚 度為0.5腦~1〇]1111，所述的第18層電介質(zhì)抗氧化層厚度為1111]1~1〇11111，所述的第19、20、21層 復(fù)合介質(zhì)保護(hù)層疊加總厚度為20nm~50nm〇3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃，其特征在于:所述的20層 薄膜在玻璃基板表面疊加方式為離線真空磁控陰極濺射沉積。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的可熱彎的紅外熱阻擋節(jié)能鍍膜玻璃，其特征在于:所述電介質(zhì) 抗氧化層為陶瓷AZ0層。
【文檔編號(hào)】B32B9/04GK205416573SQ201521039648
【公開日】2016年8月3日
【申請(qǐng)日】2015年12月14日
【發(fā)明人】陳大偉, 陳賓
【申請(qǐng)人】信義玻璃(天津)有限公司