一種陽光控制鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種陽光控制鍍膜玻璃。該玻璃包括玻璃基板和功能膜層，所述玻璃基板具有相對的兩面；所述功能膜層至少包括從玻璃基板向外依次逐層沉積而成的第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)層、第二反射層和第四電介質(zhì)層。本實用新型外觀呈現(xiàn)出綠色狀，不僅具有很好的美觀效果，而且豐富了陽光控制鍍膜玻璃的顏色，因此可以滿足人們對玻璃顏色的需求。
【專利說明】
一種陽光控制鍍膜玻璃
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本實用新型屬于玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種陽光控制鍍膜玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002] 根據(jù)國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T18915.1-2013的定義，陽光控制鍍膜玻璃是一種對波長范圍 350nm~1800nm的太陽光具有一定控制作用的鍍膜玻璃。具體來說，這種玻璃具有良好的隔 熱性能，能夠在保證室內(nèi)采光柔和的條件下，可有效地屏蔽進入室內(nèi)的太陽輻射能，避免暖 房效應(yīng)，節(jié)約室內(nèi)降溫空調(diào)的能源消耗。由于陽光控制鍍膜玻璃的鍍膜層具有單向透視性， 故又稱為單反玻璃。
[0003] 現(xiàn)有的陽光控制鍍膜玻璃的膜系基本是由SiNj莫層構(gòu)成的單層結(jié)構(gòu)，或者為SiNx+ NiCr+SiNx膜層或者SiNx+Cr+SiNx膜層構(gòu)成的三層結(jié)構(gòu)。這種常規(guī)的結(jié)構(gòu)，設(shè)計簡單，所制 備的膜系顏色一般為灰色或藍(lán)灰色，顏色單一且很難實現(xiàn)其他顏色。在現(xiàn)代的建筑設(shè)計中， 消防通道考慮到安全問題，往往使用單片玻璃，而層間的部分作為上下樓層的過渡部分，對 性能要求不是十分嚴(yán)格，為了節(jié)省成本，也可以選用陽光控制膜玻璃。在調(diào)試綠色膜系陽光 控制鍍膜玻璃時，會使用綠玻來實現(xiàn)，這就造成了原片的成本上升，現(xiàn)在使用普通浮法玻璃 或超白玻璃進行調(diào)試，雖然可以節(jié)約成本，但陽光控制膜的顏色多樣性無法滿足。 【實用新型內(nèi)容】
[0004] 本實用新型實施例的目的在于開發(fā)出一種陽光控制鍍膜玻璃，以解決現(xiàn)有技術(shù)中 無法實現(xiàn)陽光控制鍍膜玻璃的顏色多樣性問題。
[0005] 為了實現(xiàn)上述實用新型目的，本實用新型實施例的技術(shù)方案如下：
[0006] -種陽光控制鍍膜玻璃，包括玻璃基板和功能膜層，所述玻璃基板具有相對的兩 面;所述功能膜層包括從所述玻璃基板向外依次逐層沉積而成的第一電介質(zhì)層、第二電介 質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二反射層和第四電介質(zhì)層；
[0007]其中，所述第一電介質(zhì)層為SiNx膜層或SiNxOy膜層;所述第二電介質(zhì)層為ΖηΑΙΟχ膜 層或ZnSnOx膜層;所述第一反射層為NiCr膜層、NiCrOx膜層、CrNx膜層中的任一層;所述第三 電介質(zhì)層為ΖηΑΙΟ膜層、ZnSnO x膜層、SiNx膜層中的任一層；所述第二反射層為NiCr膜層、 NiCr0x膜層、CrNx膜層中的任一層;所述第四電介質(zhì)層為SiNx膜層、ZnA10 x膜層或ZnSn0x膜層 與SiNj莫層構(gòu)成的雙膜層中的任一層。
[0008] 作為優(yōu)選地，所述第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)層、第二 反射層和第四電介質(zhì)層的厚度分別為38 · 0~45 · 5nm、37 · 3~57 · 0nm、3 · 3~7 · 3nm、29 · 8~ 48·4nm、2·8~7·6nm和41·7~58·5nm〇
[0009] 作為優(yōu)選地，所述玻璃基板為浮法玻璃基板。
[0010] 作為優(yōu)選地，所述浮法玻璃基板的厚度為3~19mm〇
[0011] 上述實施例中的陽光控制鍍膜玻璃，采用六層鍍膜層替換了常規(guī)的陽光控制膜 系，鍍膜層與玻璃基板結(jié)合力強，鍍膜層致密、均勻，膜層抗劃傷能力強，外觀呈現(xiàn)出綠色 狀，不僅具有很好的美觀效果，而且豐富了陽光控制鍍膜玻璃的顏色，滿足人們對玻璃顏色 的需求。
【附圖說明】
[0012] 下面將結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明，附圖中：
[0013] 圖1是本實用新型實施例中陽光控制鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014] 圖2(a)、2(b)、2(c)是本實用新型實施例1的陽光控制鍍膜玻璃的光譜曲線示意 圖；其中，圖2(a)為玻璃面反射率的光譜曲線，圖2(b)為鍍膜面反射率的光譜曲線，圖2(c) 為可見光透過率；
[0015] 圖3(a)、3(b)、3(c)是本實用新型實施例2的陽光控制鍍膜玻璃的光譜曲線示意 圖；其中，圖3(a)為玻璃面反射率的光譜曲線，圖3(b)為鍍膜面反射率的光譜曲線，圖3(c) 為可見光透過率；
[0016] 圖4(a)、4(b)、4(c)是本實用新型實施例3的綠色陽光控制鍍膜玻璃的光譜曲線示 意圖；其中，圖4(a)為玻璃面反射率的光譜曲線，圖4(b)為鍍膜面反射率的光譜曲線，圖4 (c)為可見光透過率；
[0017] 圖5(a)、5(b)、5(c)是本實用新型實施例4的綠色陽光控制鍍膜玻璃的光譜曲線示 意圖；其中，圖5(a)為玻璃面反射率的光譜曲線，圖5(b)為鍍膜面反射率的光譜曲線，圖5 (c)為可見光透過率；
[0018] 圖6(a)、6(b)、6(c)是本實用新型實施例5的陽光控制鍍膜玻璃的光譜曲線示意 圖；其中，圖6(a)為玻璃面反射率的光譜曲線，圖6(b)為鍍膜面反射率的光譜曲線，圖6(c) 為可見光透過率；
[0019] 圖7是本實用新型實施例陽光控制鍍膜玻璃的制備方法的流程框圖。
【具體實施方式】
[0020] 為了使本實用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施 例，對本實用新型進行進一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋 本實用新型，并不用于限定本實用新型。
[0021] 本實用新型實例提供了一種陽光控制鍍膜玻璃，該陽光控制鍍膜玻璃包括玻璃基 板1和功能膜層2。
[0022]其中，在任一實施例中，玻璃基板1由浮法玻璃構(gòu)成，玻璃基板1具有相互對立的兩 面。
[0023]優(yōu)選地，浮法玻璃的厚度為3~19mm。
[0024] 從所述玻璃基板1的一表面沉積形成功能膜層2。
[0025] 在任一實施例中，所述的功能膜層2至少包含六個膜層結(jié)構(gòu)，每個膜層結(jié)構(gòu)依次沉 積，具體為包括從玻璃基板1的表面向外依次逐層沉積而成的第一電介質(zhì)層21、第二電介質(zhì) 層22、第一反射層23、第三電介質(zhì)24、第二反射層25和第四電介質(zhì)層26。
[0026] 具體地，本實施的陽光控制鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)為:玻璃基板1/第一電介質(zhì)層21/ 第二電介質(zhì)層22/第一反射層23/第三電介質(zhì)24/第二反射層25/第四電介質(zhì)層26。
[0027]作為優(yōu)選地，本實施例的上述第一電介質(zhì)層21為SiNx膜層或SiNx0y膜層;第二電介 質(zhì)層22為ZnA10x膜層或ZnSnOx膜層；第一反射層23為NiCr膜層、NiCrO x膜層、CrNx膜層中的 任一層;第三電介質(zhì)層24為ΖηΑΙΟ膜層、ZnSnOx膜層、SiNx膜層中的任一層;第二反射層25為 NiCr膜層、NiCrOx膜層、CrNx膜層中的任一層；第四電介質(zhì)層26為SiNx膜層、ZnA10 x膜層或 ZnSnOx膜層與SiNx膜層構(gòu)成的雙膜層中的任一層。
[0028]作為優(yōu)選地，本實施例的上述各個功能膜層的厚度分別為第一電介質(zhì)層21為38.0 ~45.5nm;第二電介質(zhì)層22為37.3~57. Onm;第一反射層23為3.3~7.3nm;第三電介質(zhì)層24 為29 · 8~48 · 4nm;第二反射層25為2 · 8~7 · 6nm;第四電介質(zhì)層26為41 · 7~58 · 5nm。
[0029] 作為優(yōu)選地，本實用新型實施例獲得的陽光控制鍍膜玻璃經(jīng)過加熱處理(也就是 鋼化處理)后顏色為綠色。
[0030] 鋼化處理的具體操作為:將陽光控制鍍膜玻璃置于鋼化爐內(nèi)，鍍膜表面的加熱溫 度為680~690°C，浮法玻璃表面的加熱溫度較鍍膜表面溫度低，為670~680°C，鋼化處理時 間為410~420s，即可獲得陽光控制鍍膜玻璃。
[0031] 經(jīng)過鋼化處理，本實用新型實施例獲得的陽光控制鍍膜玻璃的各膜層有機的結(jié)合 在一起，玻璃的可加工性能得到進一步的提高。
[0032]各個膜層的作用如下：
[0033]第一電介質(zhì)層21位于玻璃基板1和第二電介質(zhì)層22之間，該層的SiNx或SiNx0 y，在 本實用新型實施例中能夠阻止玻璃基板1中的Na+向膜層中滲透，增加膜層和玻璃基片之間 的吸附力，提高物理和化學(xué)性能，控制膜系的光學(xué)性能和顏色；
[0034]第二電介質(zhì)層22位于第一反射層23和第一電介質(zhì)層21之間，該層的ΖηΑΙΟχ或 ZnSn0x，具有提高物理和化學(xué)性能、控制膜系的光學(xué)性能和顏色的作用。
[0035]第一反射層23位于第二電介質(zhì)層22和第三電介質(zhì)層24之間，該層的NiCr在本實用 新型實施例中具有控制膜系的光學(xué)性能和顏色的作用。
[0036]第三電介質(zhì)層24位于第一反射層23和第二反射層25之間，該層中ZnA10、ZnSn0x、 SiNx的任一層，具有控制膜系的光學(xué)性能和顏色的作用。
[0037]第二反射層25位于第三電介質(zhì)層24和第四電介質(zhì)層26之間，該層中NiCr、NiCr0x、 CrNx的任一層，具有控制膜系的光學(xué)性能和顏色的作用。
[0038] 第四電介質(zhì)層26位于第二反射層25之上，該層中SiNx、ZnA10x或ZnSn0 x與SiNx構(gòu)成 的混合結(jié)構(gòu)的任一層，具有保護整個膜結(jié)構(gòu)、提高物理和化學(xué)性能，控制膜系的光學(xué)性能和 顏色的作用。
[0039] 上述各層按順序結(jié)合，從而保障了陽光控制鍍膜玻璃的整體性能，能夠?qū)崿F(xiàn)膜系 顏色的多樣性。
[0040] 相應(yīng)地，在上文所述的陽光控制鍍膜玻璃的基礎(chǔ)上，本實用新型實施例還提供了 本實用新型實施例陽光控制鍍膜玻璃的一種制備方法。作為本實用新型優(yōu)選實施例，該陽 光控制鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：
[0041 ]步驟S01:前處理，清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基板，并將所述清 洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8 X l(T6mbar以上；
[0042] 步驟S02、膜層沉積處理，控制濺射真空度為2X 10_3mbar~5X 10_3mbar，在所述浮 法玻璃基板上依次沉積如下厚度的膜層:38.0~45.5nm的第一電介質(zhì)層、37.3~57. Onm的 第二電介質(zhì)層、3.3~7.3nm的第一反射層、29.8~48.4nm的第三電介質(zhì)層、2.8~7.6nm的第 二反射層和41 · 7~58.5nm的第四電介質(zhì)層。
[0043] 具體地，上述步驟S01中，采用Benteler清洗機對浮法玻璃進行清洗。
[0044]具體地，步驟S02在濺射鍍膜過程中，采用德國馮?阿登那公司生產(chǎn)的磁控濺射鍍 膜設(shè)備控制濺射的真空度，并應(yīng)當(dāng)注意膜層厚度的調(diào)整，可使用在線光度計測量膜層顏色 參數(shù)，并進行膜層厚度的調(diào)整，使顏色參數(shù)與綠色接近。
[0045] 具體地，上述步驟S02中膜層沉積處理后的玻璃，應(yīng)采用濃度為lmol/L HC1溶液和 濃度為lmol/L NaOH溶液作為浸漬液，按照《GB/T 18915.1-2013鍍膜玻璃第1部分陽光控制 鍍膜玻璃》檢測膜層沉積處理后的玻璃的耐酸性能和耐堿性能。
[0046]與此同時，還采用臺式光度計、研磨機、U4100紫外可見紅外分光光度計等測試分 析儀器測試獲得陽光控制鍍膜玻璃的耐磨性以及玻面反射率、膜面反射率和透過光譜。 [0047]需要說明的是，在濺射靶材和鍍膜的各層結(jié)構(gòu)確定之后，決定產(chǎn)品性能特點的核 心部分就是各層的厚度，即通過調(diào)整鍍膜工藝，控制各層厚度，最終達到不同的效果。本申 請的一種優(yōu)選方案中，第一電介質(zhì)層的厚度為38.0~45.5nm，第二電介質(zhì)層的厚度為37.3 ~57. Onm，第一反射層的厚度為3.3~7.3nm，第三電介質(zhì)層的厚度為29.8~48.4nm，第二反 射層的厚度為2.8~7.6nm，第四電介質(zhì)層的厚度為41.7~58.5nm〇
[0048] 相應(yīng)地，本實用新型實施例制備的陽光控制鍍膜玻璃，可應(yīng)用于建筑門窗、建筑幕 墻以及室內(nèi)裝飾中。當(dāng)然，本實用新型實施例制備的陽光控制鍍膜玻璃還可以應(yīng)用在除上 述應(yīng)用領(lǐng)域之外的其他領(lǐng)域，所列舉的應(yīng)用僅僅起舉例作用。
[0049] 本實用新型實施例提供的陽光控制鍍膜玻璃用于上述領(lǐng)域時，可大大降低生產(chǎn)成 本以及可加工性。這主要是由于本實用新型實施例采用的浮法玻璃(也稱白玻)能有效的避 免常規(guī)的綠玻鋼化后平整度及碎片不易控制等問題。
[0050] 以下通過多個實施例來舉例說明本實用新型實施例陽光控制鍍膜玻璃的原理、作 用以及達到的功效。
[00511下述各具體實施示范例中涉及的儀器設(shè)備為:VAAT GC330H鍍膜設(shè)備、Benteler清 洗機、在線檢測光度計、Datacolar CHECK Π (便攜式測色儀）、Color 15透射比測試儀、U 4100(紫外可見紅外分光光度計）、BTA-5000型耐磨試驗機。
[0052] 實施例1
[0053] 一種陽光控制鍍膜玻璃及其制備方法。其中，陽光控制鍍膜玻璃包括玻璃基板和 沉積于玻璃基板表面的功能膜層;所述功能膜層至少包括依次從玻璃基板向外逐層沉積而 成的第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二電介質(zhì)、第二反射層和第 四電介質(zhì)層;其中，第一電介質(zhì)層為43.9nm的氮化娃膜層、第二電介質(zhì)層為42.4nm的氧化鋅 鋁膜層、第一反射層為4.9nm的鎳鉻合金膜層、第三電介質(zhì)層為33.7nm的氧化鋅膜層、第二 反射層為5.3nm的鎳鉻合金膜層、第四電介質(zhì)層為52.5nm的氮化硅膜層;所述玻璃基板為 6mm的浮法玻璃。
[0054]該陽光控制鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：
[0055] 1)前處理，采用Benteler清洗機清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基 板，并將所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8Xl(T6mbar以上。
[0056] 2)膜層沉積處理，在經(jīng)過表面處理的玻璃基板上依次沉積第一電介質(zhì)層，第二電 介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二電介質(zhì)、第二反射層和第四電介質(zhì)層。具體如下：
[0057]采用氬氣和氮氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在玻璃基板上磁控濺射 氮化硅膜層，厚度為43.9nm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si : A1 = 92:8，氬氣與氮氣的流量比為1:1。 [0058]采用氬氣和氧氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在氮化硅膜層上磁控濺 射氧化鋅鋁膜層，濺射厚度為42.4nm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Ζη:Α1 = 98:2,氬氣與氧氣的流量 比為3:4。
[0059] 采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氧化鋅鋁膜層上磁控濺 射鎳鉻合金膜層，厚度為4.9nm;鎳鉻合金靶的質(zhì)量比Ni : Cr = 8:2。
[0060] 采用氬氣和氧氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控 濺射氧化鋅鋁膜層，濺射厚度為33.7nm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Ζη:Α1 = 98:2,氬氣與氧氣的流 量比為3:4。
[0061] 采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氧化鋅鋁膜層上磁控濺 射鎳鉻合金膜層，厚度為5.3nm;鎳鉻合金靶的質(zhì)量比Ni : Cr = 8:2。
[0062] 采用氬氣和氮氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控 濺射氮化硅膜層，厚度為52.5nm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si: A1 = 92:8,氬氣與氮氣的流量比為1: 1〇
[0063] 上述步驟結(jié)束后，采用在線檢測光度計、Datacolar CHECK II測量本實施例產(chǎn)品 的外觀顏色，同時，對本例采用的玻璃基板進行相同的測試作對比，具體結(jié)果如表1所示。采 用在線檢測光度計測量光譜曲線，得到的光譜曲線如附圖2(a)、2(b)、2(c)所示。
[0064]在實施例1獲得的陽光控制鍍膜玻璃的基礎(chǔ)上，對其進行加熱處理，即鋼化處理， 具體為鍍膜表面加熱溫度為680°C，浮法玻璃表面加熱溫度為670°C，加熱時間410s。并采用 相同的方法對加熱處理后的玻璃進行顏色檢測，結(jié)果顯示玻璃面顏色顯示為綠色。
[0065] 實施例2
[0066] -種陽光控制鍍膜玻璃及其制備方法。其中，陽光控制鍍膜玻璃包括玻璃基板和 沉積于玻璃基板表面的功能膜層;所述功能膜層至少包括依次從玻璃基板向外逐層沉積而 成的第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二電介質(zhì)、第二反射層和第 四電介質(zhì)層;其中，第一電介質(zhì)層為38.Onm的氮化娃膜層、第二電介質(zhì)層為57.Onm的氧化鋅 鋁膜層、第一反射層為5.5nm的鎳鉻合金膜層、第三電介質(zhì)層為34.7nm的氧化鋅膜層、第二 反射層為4.7nm的鎳鉻合金膜層、第四電介質(zhì)層為41.7nm的氮化硅膜層;所述玻璃基板為 10mm的浮法玻璃。
[0067] 該陽光控制鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：
[0068] 1)前處理，采用Benteler清洗機清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基 板，并將所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8Xl(T6mbar以上。
[0069] 2)膜層沉積處理，在經(jīng)過表面處理的玻璃基板上依次沉積第一電介質(zhì)層，第二電 介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二電介質(zhì)、第二反射層和第四電介質(zhì)層。具體如下：
[0070] 采用氬氣和氮氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在玻璃基板上磁控濺射 氮化硅膜層，厚度為38. Onm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si : A1 = 92:8，氬氣與氮氣的流量比為1; 1。
[0071] 采用氬氣和氧氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在氮化硅膜層上磁控濺 射氧化鋅鋁膜層，濺射厚度為57. Onm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Zn: A1 = 98: 2，氬氣與氧氣的流量 比為3:4。
[0072] 采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氧化鋅鋁膜層上磁控濺 射鎳鉻合金膜層，厚度為5.5nm;鎳鉻合金靶的質(zhì)量比Ni : Cr = 8:2。
[0073] 采用氬氣和氧氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控 濺射氧化鋅鋁膜層，濺射厚度為34.7nm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Ζη:Α1 = 98:2,氬氣與氧氣的流 量比為3:4。
[0074] 采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氧化鋅鋁膜層上磁控濺 射鎳鉻合金膜層，厚度為4.7nm;鎳鉻合金靶的質(zhì)量比Ni : Cr = 8:2。
[0075] 采用氬氣和氮氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控 濺射氮化硅膜層，厚度為41.7nm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si :A1 = 92:8，氬氣與氮氣的流量比為1: 1〇
[0076] 上述步驟結(jié)束后，采用在線檢測光度計、Datacolar CHECK II測量本實施例產(chǎn)品 的外觀顏色，同時，對本例采用的玻璃基板進行相同的測試作對比，具體結(jié)果如表1所示。采 用在線檢測光度計測量光譜曲線，得到的光譜曲線如附圖3(a)、3(b)、3(c)所示。
[0077]在實施例2獲得的陽光控制鍍膜玻璃的基礎(chǔ)上，對其進行加熱處理，即鋼化處理， 具體為鍍膜表面加熱溫度為690°C，浮法玻璃表面加熱溫度為680 °C，加熱時間420s。并采用 相同的方法對加熱處理后的玻璃進行顏色檢測，結(jié)果顯示玻璃面顏色顯示為綠色。
[0078] 實施例3
[0079] -種陽光控制鍍膜玻璃及其制備方法。其中，陽光控制鍍膜玻璃包括玻璃基板和 沉積于玻璃基板表面的功能膜層;所述功能膜層至少包括依次從玻璃基板向外逐層沉積而 成的第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二電介質(zhì)、第二反射層和第 四電介質(zhì)層;其中，第一電介質(zhì)層為41.3nm的氮化娃膜層、第二電介質(zhì)層為37.3nm的氧化鋅 鋁膜層、第一反射層為7.3nm的鎳鉻合金膜層、第三電介質(zhì)層為48.4nm的氧化鋅膜層、第二 反射層為2.8nm的鎳鉻合金膜層、第四電介質(zhì)層為45.6nm的氮化硅膜層;所述玻璃基板為 4mm的浮法玻璃。
[0080] 該陽光控制鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：
[0081 ] 1)前處理，采用Benteler清洗機清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基 板，并將所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8Xl(T6mbar以上。
[0082] 2)膜層沉積處理，在經(jīng)過表面處理的玻璃基板上依次沉積第一電介質(zhì)層，第二電 介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二電介質(zhì)、第二反射層和第四電介質(zhì)層。具體如下： [0083]采用氬氣和氮氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在玻璃基板上磁控濺射 氮化硅膜層，厚度為41.3nm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si : A1 = 92:8，氬氣與氮氣的流量比為1:1。
[0084] 采用氬氣和氧氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在氮化硅膜層上磁控濺 射氧化鋅鋁膜層，濺射厚度為37.3nm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Zn: A1 = 98: 2，氬氣與氧氣的流量 比為3:4。
[0085] 采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氧化鋅鋁膜層上磁控濺 射鎳鉻合金膜層，厚度為7.3nm;鎳鉻合金靶的質(zhì)量比Ni : Cr = 8:2。
[0086] 采用氬氣和氧氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控 濺射氧化鋅鋁膜層，濺射厚度為48.4nm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Ζη:Α1 = 98:2,氬氣與氧氣的流 量比為3:4。
[0087] 采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氧化鋅鋁膜層上磁控濺 射鎳鉻合金膜層，厚度為2.8nm;鎳鉻合金靶的質(zhì)量比Ni : Cr = 8:2。
[0088] 采用氬氣和氮氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控 濺射氮化硅膜層，厚度為45.6nm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si :A1 = 92:8，氬氣與氮氣的流量比為1: 1〇
[0089] 上述步驟結(jié)束后，采用在線檢測光度計、Datacolar CHECK II測量本實施例產(chǎn)品 的外觀顏色，同時，對本例采用的玻璃基板進行相同的測試作對比，具體結(jié)果如表1所示。采 用在線檢測光度計測量光譜曲線，得到的光譜曲線如附圖4(a)、4(b)、4(c)所示。
[0090] 在實施例3獲得的陽光控制鍍膜玻璃的基礎(chǔ)上，對其進行加熱處理，即鋼化處理， 具體為鍍膜表面加熱溫度為685°C，浮法玻璃表面加熱溫度為670°C，加熱時間415s。并采用 相同的方法對加熱處理后的玻璃進行顏色檢測，結(jié)果顯示玻璃面顏色顯示為綠色。
[0091] 實施例4
[0092] -種陽光控制鍍膜玻璃及其制備方法。其中，陽光控制鍍膜玻璃包括玻璃基板和 沉積于玻璃基板表面的功能膜層;所述功能膜層至少包括依次從玻璃基板向外逐層沉積而 成的第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二電介質(zhì)、第二反射層和第 四電介質(zhì)層;其中，第一電介質(zhì)層為43.2nm的氮化娃膜層、第二電介質(zhì)層為39.3nm的氧化鋅 鋁膜層、第一反射層為3.3nm的鎳鉻合金膜層、第三電介質(zhì)層為29.8nm的氧化鋅膜層、第二 反射層為7.6nm的鎳鉻合金膜層、第四電介質(zhì)層為58.5nm的氮化硅膜層;所述玻璃基板為 15mm的浮法玻璃。
[0093] 該陽光控制鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：
[0094] 1)前處理，采用Benteler清洗機清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基 板，并將所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8Xl(T6mbar以上。
[0095] 2)膜層沉積處理，在經(jīng)過表面處理的玻璃基板上依次沉積第一電介質(zhì)層，第二電 介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二電介質(zhì)、第二反射層和第四電介質(zhì)層。具體如下： [0096]采用氬氣和氮氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在玻璃基板上磁控濺射 氮化硅膜層，厚度為43.2nm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si : A1 = 92:8，氬氣與氮氣的流量比為1:1。 [0097]采用氬氣和氧氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在氮化硅膜層上磁控濺 射氧化鋅鋁膜層，濺射厚度為39.3nm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Zn: A1 = 98: 2，氬氣與氧氣的流量 比為3:4。
[0098]采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氧化鋅鋁膜層上磁控濺 射鎳鉻合金膜層，厚度為3.3nm;鎳鉻合金靶的質(zhì)量比Ni : Cr = 8:2。
[0099]采用氬氣和氧氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控 濺射氧化鋅鋁膜層，濺射厚度為29.8nm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Ζη:Α1 = 98: 2,氬氣與氧氣的流 量比為3:4。
[0100]采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氧化鋅鋁膜層上磁控濺 射鎳鉻合金膜層，厚度為7.6nm;鎳鉻合金靶的質(zhì)量比Ni : Cr = 8:2。
[0101]采用氬氣和氮氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控 濺射氮化硅膜層，厚度為58.5nm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si: A1 = 92:8,氬氣與氮氣的流量比為1: 1〇
[0102] 上述步驟結(jié)束后，采用在線檢測光度計、Datacolar CHECK II測量本實施例產(chǎn)品 的外觀顏色，同時，對本例采用的玻璃基板進行相同的測試作對比，具體結(jié)果如表1所示。采 用在線檢測光度計測量光譜曲線，得到的光譜曲線如附圖5(a)、5(b)、5(c)所示。
[0103] 在實施例4獲得的陽光控制鍍膜玻璃的基礎(chǔ)上，對其進行加熱處理，即鋼化處理， 具體為鍍膜表面加熱溫度為685°C，浮法玻璃表面加熱溫度為675°C，加熱時間410s。并采用 相同的方法對加熱處理后的玻璃進行顏色檢測，結(jié)果顯示玻璃面顏色顯示為綠色。
[0104] 實施例5
[0105] -種陽光控制鍍膜玻璃及其制備方法。其中，陽光控制鍍膜玻璃包括玻璃基板和 沉積于玻璃基板表面的功能膜層;所述功能膜層至少包括依次從玻璃基板向外逐層沉積而 成的第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二電介質(zhì)、第二反射層和第 四電介質(zhì)層;其中，第一電介質(zhì)層為45.5nm的氮化娃膜層、第二電介質(zhì)層為39.3nm的氧化鋅 鋁膜層、第一反射層為7. lnm的鎳鉻合金膜層、第三電介質(zhì)層為34.4nm的氧化鋅膜層、第二 反射層為2.4nm的鎳鉻合金膜層、第四電介質(zhì)層為52.6nm的氮化硅膜層;所述玻璃基板為 19mm的浮法玻璃。
[0106] 該陽光控制鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：
[0107] 1)前處理，采用Benteler清洗機清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基 板，并將所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8Xl(T 6mbar以上。
[0108] 2)膜層沉積處理，在經(jīng)過表面處理的玻璃基板上依次沉積第一電介質(zhì)層，第二電 介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)、第二電介質(zhì)、第二反射層和第四電介質(zhì)層。具體如下：
[0109] 采用氬氣和氮氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在玻璃基板上磁控濺射 氮化硅膜層，厚度為45.5nm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si : A1 = 92:8，氬氣與氮氣的流量比為1:1。 [0110]采用氬氣和氧氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在氮化硅膜層上磁控濺 射氧化鋅鋁膜層，濺射厚度為39.3nm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Zn: A1 = 98: 2，氬氣與氧氣的流量 比為3:4。
[0111] 采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氧化鋅鋁膜層上磁控濺 射鎳鉻合金膜層，厚度為7. lnm;鎳鉻合金靶的質(zhì)量比Ni : Cr = 8:2。
[0112] 采用氬氣和氧氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控 濺射氧化鋅鋁膜層，濺射厚度為34.4nm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Ζη:Α1 = 98:2,氬氣與氧氣的流 量比為3:4。
[0113]采用氬氣為工作氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在氧化鋅鋁膜層上磁控濺 射鎳鉻合金膜層，厚度為2.4nm;鎳鉻合金靶的質(zhì)量比Ni : Cr = 8:2。
[0114] 采用氬氣和氮氣為工作氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金膜層上磁控 濺射氮化硅膜層，厚度為52.6nm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si: A1 = 92:8,氬氣與氮氣的流量比為1: 1〇
[0115] 上述步驟結(jié)束后，采用在線檢測光度計、Datacolar CHECK II測量本實施例產(chǎn)品 的外觀顏色，同時，對本例采用的玻璃基板進行相同的測試作對比，具體結(jié)果如表1所示。采 用在線檢測光度計測量光譜曲線，得到的光譜曲線如附圖6(a)、6(b)、6(c)所示。
[0116] 在實施例5獲得的陽光控制鍍膜玻璃的基礎(chǔ)上，對其進行加熱處理，即鋼化處理， 具體為鍍膜表面加熱溫度為680°C，浮法玻璃表面加熱溫度為670°C，加熱時間410s。并采用 相同的方法對加熱處理后的玻璃進行顏色檢測，結(jié)果顯示玻璃面顏色顯示為綠色。
[0117] 表1實施例1~5中陽光控制鍍膜玻璃外觀顏色
[0118]
[0119] 其中，上表1中字母的含義如下
[0120] G表示鍍膜玻璃的玻璃面，R*g表示鍍膜玻璃玻璃面的反射值;a*g和b*g表示鍍膜 玻璃的玻璃面的顏色值，a*g越正表示顏色越紅，a*g越負(fù)表示顏色越綠，b*g越正表示顏色 越黃，b*g越負(fù)表示顏色越藍(lán);L*g表示鍍膜玻璃的玻璃面的亮度。
[0121] F表示鍍膜玻璃的鍍膜面;R*f表示鍍膜玻璃膜面的反射值;a*f和b*f表示鍍膜玻 璃膜面的顏色值，a*f越正表示顏色越紅，a*f越負(fù)表示顏色越綠;b*f越正表示顏色越黃，b* f越負(fù)表示顏色越藍(lán);L*f表示鍍膜玻璃膜面的亮度。
[0122] T表示鍍膜玻璃的透過;Tr表示鍍膜玻璃的透過率;a*T和b*T表示鍍膜玻璃透過的 顏色值，a*T越正表示顏色越紅，a*T越負(fù)表示顏色越綠;b*T越正表示顏色越黃，b*T越負(fù)表 示顏色越藍(lán);L*T表示鍍膜玻璃透過的亮度。
[0123] 表1的結(jié)果顯示，實施例卜5的陽光控制鍍膜玻璃的顏色a*g在-9~-12之間，因為 人對a*g代表的紅綠更為敏感，為了使顏色綠色效果明顯，所以需要控制a*g的范圍。實施例 1-5的陽光控制鍍膜玻璃的顏色b*g在0~2之間，為了使其顏色不干擾最終顏色，所以需要 控制b*g的范圍。
[0124] 另外，對實施例1-5獲得的鋼化的陽光控制鍍膜玻璃進行顏色檢測，結(jié)果顯示，實 施例1-5的鋼化的陽光控制鍍膜玻璃a*g在-9~-12之間，b*g在-1~3之間。
[0125] 以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本 實用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應(yīng)包括在本實用新型 的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1. 一種陽光控制鍍膜玻璃，其特征在于:包括玻璃基板和功能膜層，所述玻璃基板具有 相對的兩面;所述功能膜層至少包括從所述玻璃基板向外依次逐層沉積而成的第一電介質(zhì) 層、第二電介質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)層、第二反射層和第四電介質(zhì)層； 其中，所述第一電介質(zhì)層為SiNx膜層或SiNxOy膜層;所述第二電介質(zhì)層為ZnAlO x膜層或 ZnSnOx膜層;所述第一反射層為NiCr膜層、NiCrOx膜層、CrNx膜層中的任一層;所述第三電介 質(zhì)層為ZnAlO膜層、ZnSnO x膜層、SiNx膜層中的任一層;所述第二反射層為NiCr膜層、NiCrOx 膜層、CrNx膜層中的任一層;所述第四電介質(zhì)層為SiNx膜層、ZnAlOx膜層或ZnSnO x膜層與SiNx 膜層構(gòu)成的雙膜層中的任一層。2. 如權(quán)利要求1所述的陽光控制鍍膜玻璃，其特征在于:所述第一電介質(zhì)層、第二電介 質(zhì)層、第一反射層、第三電介質(zhì)層、第二反射層和第四電介質(zhì)層的厚度分別為38.0~ 45·5nm、37·3~57·0nm、3·3~7·3nm、29·8~48·4nm、2·8~7·6nm和41·7~58·5nm〇3. 如權(quán)利要求1或2所述的陽光控制鍍膜玻璃，其特征在于:所述玻璃基板為浮法玻璃 基板。4. 如權(quán)利要求3所述的陽光控制鍍膜玻璃，其特征在于:所述浮法玻璃基板的厚度為3 ~19mm〇
【文檔編號】C03C17/36GK205528442SQ201620195550
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年3月14日
【發(fā)明人】董清世, 周楓
【申請人】信義節(jié)能玻璃（蕪湖）有限公司