用于大型板材鍍膜的工件架的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種用于大型板材鍍膜的工件架,包括鍍膜倉,鍍膜倉頂板具有自轉(zhuǎn)架,鍍膜倉底部具有靶材架,還包括基片支撐框,基片支撐框的頂部與自轉(zhuǎn)架連接,鍍膜倉內(nèi)壁位于其中部的位置上具有支撐環(huán)臺(tái),支撐環(huán)臺(tái)上具有兩組支撐滑動(dòng)單元,支撐滑動(dòng)單元包括支撐塊,支撐塊的底部具有滾珠,支撐塊的上表面具有插槽,插槽的一端與支撐塊的側(cè)面貫通,另一端為封閉端,基片支撐框的底部具有與支撐塊對(duì)應(yīng)的插條,插條能從插槽的一端插入插槽內(nèi)。本實(shí)用新型的有益效果是支撐結(jié)構(gòu)更加穩(wěn)定,轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)不會(huì)發(fā)生晃動(dòng),使鍍膜效果更好。
【專利說明】
用于大型板材鍍膜的工件架
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于大型板材鍍膜的工件架。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有的技術(shù)中真空鍍膜時(shí)的工件架均懸掛于鍍膜腔的頂部,對(duì)應(yīng)大型板材而言,由于工件本身體積和重量都較大,因此在轉(zhuǎn)動(dòng)過程中工件架容易晃動(dòng)不穩(wěn)。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型要解決的問題是提供一種用于大型板材鍍膜的工件架,克服了現(xiàn)有技術(shù)中的不足。
[0004]為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:用于大型板材鍍膜的工件架,包括鍍膜倉,所述鍍膜倉頂板具有自轉(zhuǎn)架,所述鍍膜倉底部具有靶材架,還包括基片支撐框,所述基片支撐框的頂部與所述自轉(zhuǎn)架連接,所述鍍膜倉內(nèi)壁位于其中部的位置上具有支撐環(huán)臺(tái),所述支撐環(huán)臺(tái)上具有兩組支撐滑動(dòng)單元,所述支撐滑動(dòng)單元包括支撐塊,所述支撐塊的底部具有滾珠,所述支撐塊的上表面具有插槽,所述插槽的一端與所述支撐塊的側(cè)面貫通,另一端為封閉端,所述基片支撐框的底部具有與所述支撐塊對(duì)應(yīng)的插條,所述插條能從所述插槽的一端插入所述插槽內(nèi)。
[0005]進(jìn)一步,所述支撐環(huán)臺(tái)的上表面靠近其內(nèi)沿處具有擋板。
[0006]本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:由于采用上述技術(shù)方案,支撐結(jié)構(gòu)更加穩(wěn)定,轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)不會(huì)發(fā)生晃動(dòng),使鍍膜效果更好。
【附圖說明】
[0007]圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)不意圖;
[0008]圖2是圖1中A處放大結(jié)構(gòu)示意圖;
[0009]圖中:1-鍍膜倉;2-基片支撐框;3-固定槽;4-支撐環(huán)臺(tái);5-擋板;6-支撐塊;7-滾珠;8-插槽;9-插條。
【具體實(shí)施方式】
[0010]如圖1、2所示,本實(shí)用新型提供一種用于大型板材鍍膜的工件架,包括鍍膜倉1,鍍膜倉I頂板具有自轉(zhuǎn)架(圖中未示),鍍膜倉I底部具有靶材架(圖中未示),還包括基片支撐框2,基片支撐框2的頂部與自轉(zhuǎn)架連接,鍍膜倉I內(nèi)壁位于其中部的位置上具有支撐環(huán)臺(tái)4,支撐環(huán)臺(tái)4上具有兩組支撐滑動(dòng)單元,支撐滑動(dòng)單元包括支撐塊6,支撐塊6的底部具有滾珠7,支撐塊6的上表面具有插槽8,插槽8的一端與支撐塊6的側(cè)面貫通,另一端為封閉端,基片支撐框2的底部具有與支撐塊6對(duì)應(yīng)的插條9,插條9能從插槽8的一端插入插槽8內(nèi)。
[0011]使用時(shí),首先將基片安裝于基片支撐框2中,基片支撐框2的內(nèi)側(cè)面具有固定槽3,基片的邊緣能插入固定槽3中,支撐塊6對(duì)基片支撐框2起到支撐的作用,自轉(zhuǎn)架帶動(dòng)基片支撐框2轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí),支撐框6隨之沿支撐環(huán)臺(tái)4轉(zhuǎn)動(dòng),滾珠7的設(shè)置減少了支撐塊6和支撐環(huán)臺(tái)4之間的摩擦阻力。
[0012]支撐環(huán)臺(tái)4的上表面靠近其內(nèi)沿處具有擋板5,擋板5將滾珠7限位于支撐環(huán)臺(tái)4上。
[0013]以上對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明,但所述內(nèi)容僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例,不能被認(rèn)為用于限定本實(shí)用新型的實(shí)施范圍。凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)范圍所作的均等變化與改進(jìn)等,均應(yīng)仍歸屬于本實(shí)用新型的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.用于大型板材鍍膜的工件架,包括鍍膜倉,所述鍍膜倉頂板具有自轉(zhuǎn)架,所述鍍膜倉底部具有靶材架,其特征在于:還包括基片支撐框,所述基片支撐框的頂部與所述自轉(zhuǎn)架連接,所述鍍膜倉內(nèi)壁位于其中部的位置上具有支撐環(huán)臺(tái),所述支撐環(huán)臺(tái)上具有兩組支撐滑動(dòng)單元,所述支撐滑動(dòng)單元包括支撐塊,所述支撐塊的底部具有滾珠,所述支撐塊的上表面具有插槽,所述插槽的一端與所述支撐塊的側(cè)面貫通,另一端為封閉端,所述基片支撐框的底部具有與所述支撐塊對(duì)應(yīng)的插條,所述插條能從所述插槽的一端插入所述插槽內(nèi)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于大型板材鍍膜的工件架,其特征在于:所述支撐環(huán)臺(tái)的上表面靠近其內(nèi)沿處具有擋板。
【文檔編號(hào)】C23C14/50GK205529016SQ201620077133
【公開日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年1月27日
【發(fā)明人】李衛(wèi)東, 同建輝, 孫婧
【申請(qǐng)人】天津眾偉科技有限公司