一種高透光的可鋼化低輻射鍍膜玻璃及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本申請設(shè)及低福射鍛膜玻璃領(lǐng)域，特別是設(shè)及一種可鋼化低福射鍛膜玻璃及其制 備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]根據(jù)國家標準GB/18915. 2-2002定義，低福射鍛膜玻璃又稱低福射玻璃，"Low-E" 玻璃，是一種對波長范圍4. 5um-25um的遠紅外線具有較高反射比的鍛膜玻璃?？射摶透?射鍛膜玻璃，是指在線鍛膜玻璃，可W深加工，沒有鋼化，也就是說鍛好膜后再進行后續(xù)加 工或鋼化處理；運是與鋼化鍛膜玻璃相對的，鋼化鍛膜玻璃是指鋼化后再鍛膜，鋼化鍛膜玻 璃加工性能較差，鍛膜顏色也相對單一。
[0003]現(xiàn)有的低福射鍛膜玻璃，雖然能夠有效的實現(xiàn)低福射效果，但是由于鍛膜的引入 和設(shè)計不盡合理，使得低福射鍛膜玻璃對可見光有很大影響，可見光透過率明顯降低，從而 影響了采光效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本申請的目的是提供一種結(jié)構(gòu)改進的可鋼化的低福射鍛膜玻璃及其制備方法。
[0005]本申請采用了W下技術(shù)方案：
[0006]本申請的一方面公開了一種可鋼化低福射鍛膜玻璃，由玻璃基板和依序?qū)盈B于玻 璃基板的至少一個表面的第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層、功能層、保護層、第Ξ介質(zhì)層、第四介質(zhì) 層組成；第一介質(zhì)層為氮化娃或氮氧化娃膜層，第二介質(zhì)層為侶滲雜氧化鋒膜層，功能層為 銀膜層，保護層為氮化銘或氮氧化銘膜層，第Ξ介質(zhì)層為侶滲雜氧化鋒膜層，第四介質(zhì)層為 陶瓷鐵膜層。
[0007]需要說明的是，本申請的關(guān)鍵在于按照設(shè)定的順序，合理配置各層，使得各層既能 夠緊密吸附，又能充分發(fā)揮各自的性能，并且，通過合理控制各層，使得可鋼化低福射鍛膜 玻璃在保障低福射性能的同時，具備更好的透光率。本申請中可見光的透過率，又稱為透光 率。 W08] 優(yōu)選的，第一介質(zhì)層的厚度為20. 7~34. 4皿，第二介質(zhì)層的厚度為3.6~ 13. 8皿，功能層的厚度為6. 7~9. 7皿，保護層的厚度為0. 6~1. 1皿，第Ξ介質(zhì)層的厚度為 3. 0~12. 8nm，第四介質(zhì)層的厚度為19. 1~36. 8nm。
[0009]優(yōu)選的，玻璃基板為浮法玻璃基板。
[0010] 優(yōu)選的，可鋼化低福射鍛膜玻璃在加熱處理后的透光率大于85%。
[0011] 需要說明的是，其中加熱處理既鋼化處理，通常來說，可鋼化低福射鍛膜玻璃在鋼 化后各方面性能都有所提高，而對于低福射鍛膜玻璃而言，能否進行鋼化處理，很大程度上 取決于鍛膜的性能；本申請對各層鍛膜進行合理配置，使得低福射鍛膜玻璃在鍛膜后能夠 進行加熱處理，提高了生產(chǎn)效率，達到生產(chǎn)優(yōu)化。
[0012] 本申請的另一面公開了本申請的可鋼化低福射鍛膜玻璃的制備方法，包括如下步 驟，
[0013] 步驟SOI :對玻璃基板進行表面處理；
[0014] 步驟S02 :在經(jīng)過表面處理的玻璃基板表面依次沉積第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層、功 能層、保護層、第Ξ介質(zhì)層、第四介質(zhì)層，形成可鋼化低福射鍛膜玻璃。
[0015]優(yōu)選的，沉積為磁控瓣射沉積。
[0016]優(yōu)選的，磁控瓣射沉積的瓣射真空度為2X10 3mbar~5X103mbar陽017]本申請的有益效果在于：
[0018]本申請的可鋼化低福射鍛膜玻璃，通過對多層鍛膜的各層進行優(yōu)化，使得制備的 可鋼化低福射鍛膜玻璃在保持良好的低福射性能的同時，具有透過率高，鍛膜層與玻璃基 板結(jié)合力強，鍛膜層致密、均勻，膜層抗氧化抗劃傷能力強，可鋼化等優(yōu)點。
【附圖說明】
[0019] 圖1是本申請實施例中可鋼化低福射鍛膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020] 圖2-4是本申請實施例一的可鋼化低福射鍛膜玻璃的光譜曲線示意圖，其中，圖2 為玻璃面反射率的光譜曲線，圖3為鍛膜面反射率的光譜曲線，圖4為可見光透過率；
[0021] 圖5-7是本申請實施例二的可鋼化低福射鍛膜玻璃的光譜曲線示意圖，其中，圖5 為玻璃面反射率的光譜曲線，圖6為鍛膜面反射率的光譜曲線，圖7為可見光透過率；
[0022] 圖8-10是本申請實施例Ξ的可鋼化低福射鍛膜玻璃的光譜曲線示意圖，其中，圖 8為玻璃面反射率的光譜曲線，圖9為鍛膜面反射率的光譜曲線，圖10為可見光透過率；
[0023]圖11-13是本申請實施例四的可鋼化低福射鍛膜玻璃的光譜曲線示意圖，其中， 圖11為玻璃面反射率的光譜曲線，圖12為鍛膜面反射率的光譜曲線，圖13為可見光透過 率.
[0024] 圖14是本申請實施例中可鋼化低福射鍛膜玻璃的制備方法的流程框圖。
【具體實施方式】
[0025]本申請主要是針對現(xiàn)有的低福射鍛膜玻璃在結(jié)構(gòu)設(shè)計上的不足，對鍛膜各層進行 優(yōu)化，具體的，本申請的低福射鍛膜玻璃如圖1所示，由玻璃基板1和沉積于玻璃基板1表 面的鍛膜層，鍛膜層按照沉積于玻璃上的順序依序為第一介質(zhì)層21、第二介質(zhì)層22、功能 層23、保護層24、第Ξ介質(zhì)層25、第四介質(zhì)層26。其中，第一介質(zhì)層21為氮化娃或氮氧化 娃膜層，第二介質(zhì)層22為侶滲雜氧化鋒膜層，功能層23為銀膜層，保護層24為氮化銘或氮 氧化銘膜層，第Ξ介質(zhì)層25為侶滲雜氧化鋒膜層，第四介質(zhì)層26為陶瓷鐵膜層。
[00%] 需要說明的是，本申請的低福射鍛膜玻璃，各層是有機結(jié)合的整體，第一介質(zhì)層具 有阻止玻璃基板中的化+向膜層中滲透；增加膜層和玻璃基片之間的吸附力，提高物理和化 學性能；控制膜系的光學性能和顏色等作用。第二介質(zhì)層具有對功能層起鋪墊作用，使功能 層的銀膜層在其上可W更好地成膜；控制膜系的光學性能和顏色等作用。功能層即銀膜層 具有降低福射率、增強保溫或隔熱性能、控制膜系的光學性能和顏色等作用。保護層具有減 少氧化，控制膜系的光學性能和顏色等作用。第Ξ介質(zhì)層具有提高保護層和第四介質(zhì)層之 間結(jié)合力、進一步保護功能層不被氧化、提高物理和化學性能，控制膜系的光學性能和顏色 等作用。第四介質(zhì)層具有保護整個膜層結(jié)構(gòu)、減少氧化、提高物理和化學性能，控制膜系的 光學性能和顏色等作用。各層按順序結(jié)合，從而保障了低福射鍛膜玻璃的整體性能，特別是 在透光率方面，在本申請的低福射鍛膜玻璃進行熱處理后，可W獲得透光率大于85%的超 高透低福射鍛膜玻璃。
[0027] 相應地，在本申請的可鋼化低福射鍛膜玻璃的基礎(chǔ)上，本申請還研究并優(yōu)化了本 申請的可鋼化低福射鍛膜玻璃的制備方法，具體的，如圖14所示，本申請的制備方法包括 如下步驟：
[0028] 步驟SOI :前處理，對玻璃基板進行表面處理；主要是清洗浮法玻璃，將清洗 好的浮法玻璃作為玻璃基板，將清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在 8X10SmbarW上；
[0029] 步驟S02 :膜層沉積處理，在經(jīng)過表面處理的玻璃基板表面依次沉積第一介質(zhì)層、 第二介質(zhì)層、功能層、保護層、第Ξ介質(zhì)層、第四介質(zhì)層，形成可鋼化低福射鍛膜玻璃。
[0030] 本申請的優(yōu)選方案中，優(yōu)選的采用磁控瓣射沉積制備各層鍛膜，并且，優(yōu)選的磁控 瓣射沉積的瓣射真空度為2X10 3mba;r~5X10 3mba;r。并且，在步驟SOI中，本申請的實施 例具體采用Benteler清洗機對浮法玻璃進行清洗。而磁控瓣射沉積具體采用德國馮?阿登 那公司生產(chǎn)的磁控瓣射鍛膜設(shè)備，瓣射層厚度的調(diào)整，使用在線光度計測量膜層顏色參數(shù)， 據(jù)此判斷瓣射膜層的厚度。
[0031] 在低福射鍛膜玻璃的檢測方面，本申請的一種實現(xiàn)方式中，采用濃度為Imol/L的 肥1溶液和濃度為Imol/L的