一種半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)，包括設(shè)置在電鍍爐內(nèi)的形成正負(fù)電極用的兩個(gè)電極板，所述兩個(gè)電極板之間通過鎢絲連接，所述鎢絲上設(shè)有折彎部，且所述折彎部設(shè)有截面積從前端至后端依次增大的蒸發(fā)主體部。本實(shí)用新型通過采用折彎型鎢絲且折彎部設(shè)有截面積從前端至后端依次增大的蒸發(fā)主體部，使鎢絲蒸發(fā)面積越大，從而使蒸發(fā)效果最好、蒸發(fā)效率也最高，蒸發(fā)效率可達(dá)到99.5％，提高了素材利用率，降低了生產(chǎn)成本。
【專利說明】一種半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及真空鍍膜【技術(shù)領(lǐng)域】，具體是指一種半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)。

【背景技術(shù)】
[0002] 在過去的幾十年中，光學(xué)薄膜鍍制設(shè)備出現(xiàn)了令人矚目的變化?，F(xiàn)有真空鍍膜技 術(shù)一般在KT 2Pa?KT3Pa的真空中加熱金屬、金屬化合物或其他鍍膜材料，使其在極短的時(shí) 間內(nèi)蒸發(fā)，從而把純凈的原子沉積到基板表面上形成鍍膜層，屬于物理氣相沉積（PVD)。由 于鍍膜過程中幾乎無雜質(zhì)進(jìn)入，可以使鍍層質(zhì)量十分優(yōu)異。真空鍍膜室的真空度、鍍膜材料 的蒸發(fā)速率、基本和蒸發(fā)源的間距，以及基板表面狀態(tài)和溫度等都是影響鍍膜層質(zhì)量的因 素。
[0003] 半透光鍍膜是利用強(qiáng)大電壓將鍍膜源鎢絲加熱，把掛在鎢絲上的鍍材熔解，再升 高鎢絲電壓使用鍍材蒸發(fā)、并以離子的形態(tài)飛散到各方面并附著于被鍍件上，經(jīng)冷卻后最 終形成半透光的膜層。然而，現(xiàn)有的蒸發(fā)鎢絲對(duì)鍍材的蒸發(fā)率較低，金屬鍍材蒸發(fā)過程中金 屬離子分布不均勻，導(dǎo)致產(chǎn)品上的鍍膜層膜厚不均勻影響透光率，電極蒸發(fā)電壓不穩(wěn)定，最 終導(dǎo)致了電鍍爐中的金屬離子呈不均勻狀態(tài)分布。
[0004] 另外，如何降低鍍膜成本、提高鍍材的蒸發(fā)率、提高涂層的穩(wěn)定性和均勻性能也是 目前正在研究的方向。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0005] 本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處，提供一種提高鍍材的蒸發(fā)率的 半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)。
[0006] 本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的：
[0007] -種半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)，包括設(shè)置在電鍍爐內(nèi)的形成正負(fù)電極用的兩個(gè)電 極板，所述兩個(gè)電極板之間通過鎢絲連接，其特征在于：所述鎢絲上設(shè)有折彎部，且所述折 彎部設(shè)有截面積從前端至后端依次增大的蒸發(fā)主體部。
[0008] 具體的，所述兩個(gè)電極板為一組電極，所述電鍍爐內(nèi)設(shè)有從爐內(nèi)下端到爐內(nèi)上端 依次平行排列的多組電極。
[0009] 具體的，所述多組電極為20組，且首端前兩組和末端后兩組電極的長度大于中部 位置的電極長度。
[0010] 優(yōu)選的，首端前兩組和末端后兩組電極的長度為20cm。
[0011] 優(yōu)選的，所述多組電極相鄰組之間的間距為7cm。
[0012] 本實(shí)用新型相比現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn)及有益效果：
[0013] 1、本實(shí)用新型通過采用折彎型鎢絲且折彎部設(shè)有截面積從前端至后端依次增大 的蒸發(fā)主體部，使鎢絲蒸發(fā)面積越大，從而使蒸發(fā)效果最好、蒸發(fā)效率也最高，蒸發(fā)效率可 達(dá)到99. 5%，提高了素材利用率，降低了生產(chǎn)成本。
[0014] 2、本實(shí)用新型針對(duì)目前電鍍爐不同長度的多組電極進(jìn)行空間位置調(diào)整，調(diào)整后可 使每組電極可獲得恒定的蒸發(fā)電流及恒定的蒸發(fā)電壓，進(jìn)而使金屬離子均勻分布于電鍍爐 內(nèi)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015] 圖1為本實(shí)用新型半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)中的鎢絲結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016] 圖2為本實(shí)用新型的半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0017] 下面結(jié)合實(shí)施例及附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的描述，但本實(shí)用新型的實(shí)施 方式不限于此。
[0018] 實(shí)施例
[0019] 如圖1與圖2所示，本實(shí)施例提供一種半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)，包括設(shè)置在電鍍 爐1內(nèi)的形成正負(fù)電極用的兩個(gè)電極板2,所述兩個(gè)電極板2之間通過鎢絲3連接，所述鎢 絲3上設(shè)有折彎部4,且所述折彎部設(shè)有截面積從前端至后端依次增大的蒸發(fā)主體部5。
[0020] 根據(jù)蒸發(fā)效率公式：
[0021]

【權(quán)利要求】
1. 一種半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)，包括設(shè)置在電鍍爐內(nèi)的形成正負(fù)電極用的兩個(gè)電極 板，所述兩個(gè)電極板之間通過鎢絲連接，其特征在于：所述鎢絲上設(shè)有折彎部，且所述折彎 部設(shè)有截面積從前端至后端依次增大的蒸發(fā)主體部。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述兩個(gè)電極板為 一組電極，所述電鍍爐內(nèi)設(shè)有從爐內(nèi)下端到爐內(nèi)上端依次平行排列的多組電極。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述多組電極為20 組，且首端前兩組和末端后兩組電極的長度大于中部位置的電極長度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于：首端前兩組和末端 后兩組電極的長度為20cm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2、3或4所述的半透光鍍膜機(jī)用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述多組電 極相鄰組之間的間距為7cm。
【文檔編號(hào)】C23C14/26GK204198842SQ201420512803
【公開日】2015年3月11日 申請(qǐng)日期:2014年9月5日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月5日
【發(fā)明者】馬曉明 申請(qǐng)人:惠州建邦精密塑膠有限公司