可鋼化低輻射鍍膜玻璃、低輻射鍍膜玻璃及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及低福射鍛膜玻璃領(lǐng)域，尤其設(shè)及可鋼化低福射鍛膜玻璃、低福射鍛膜 玻璃及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 玻璃是建筑物和汽車不可缺少的采光窗體材料，普通玻璃對(duì)太陽光的透光率高， 紅外反射率低，在夏天大部分太陽光的熱量透過玻璃進(jìn)入室內(nèi)從而加熱物體，在冬天室內(nèi) 物體的能量又會(huì)W福射形式通過玻璃散失掉，對(duì)于制冷及采暖的能源是一種極大的浪費(fèi)， 不符合全世界范圍對(duì)節(jié)能環(huán)保的要求。而低福射玻璃具有良好的隔熱性，能較好的解決上 述問題，因此被廣泛用于建筑物和汽車的采光窗體材料。
[0003] 低福射鍛膜玻璃（又稱Low-E玻璃），是指一種對(duì)波長范圍為2. 5~45ym的遠(yuǎn)紅 外光有較高反射比的鍛膜玻璃，分為離線與在線兩種，其中，離線低福射玻璃是具有W金屬 銀為功能層的鍛膜玻璃。Low-E玻璃之所W具有節(jié)能效果，在于其紅外反射功能層對(duì)紅外能 量有較高的反射作用，運(yùn)一特性使Low-E玻璃的傳熱系數(shù)大大降低，有效地改善了玻璃的 隔熱性能。
[0004] 但離線Low-E玻璃中的紅外反射功能層一銀膜，在鋼化熱處理過程中，銀原子受 熱后會(huì)發(fā)生遷移、聚集、氧化，致使銀膜的光學(xué)性能與電學(xué)性能發(fā)生變化，嚴(yán)重時(shí)甚至失去 低福射性能。為了解決上述問題，提出了可鋼化低福射玻璃，可鋼化低福射玻璃的膜層結(jié)構(gòu) 中，在緊鄰銀膜的上下兩側(cè)各鍛有一層阻擋層或稱為犧牲層或遮蔽層（材質(zhì)為Ni、化或Ti 等），阻擋層用W保護(hù)銀膜層在鋼化等熱處理過程中不被氧化。但此種膜層在鋼化前對(duì)光有 較大吸收，鋼化后由于與氧結(jié)合轉(zhuǎn)變?yōu)橥该鹘橘|(zhì)層，鋼化前后性能差別較大，因此不易通過 鋼化前性能檢驗(yàn)判斷鋼化后產(chǎn)品的性能優(yōu)劣。另一方面，鋼化工藝準(zhǔn)確性、重復(fù)性均較差， 鋼化工藝的少許偏差將導(dǎo)致鋼化后產(chǎn)品性能的極大改變。因此，現(xiàn)有的可鋼化低福射鍛膜 玻璃鋼化后的質(zhì)量可控性較差。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種可鋼化低福射鍛膜玻璃，主要目的是提高可 鋼化低福射鍛膜玻璃性能的穩(wěn)定性。
[0006] 為達(dá)到上述目的，本發(fā)明主要提供了如下技術(shù)方案：
[0007] 一方面，本發(fā)明提供了一種可鋼化低福射鍛膜玻璃，包括玻璃基板和沉積于所述 玻璃基板表面的鍛膜層，所述鍛膜層包括紅外反射功能層，其特征在于，所述紅外反射功能 層為銀基滲雜膜，在對(duì)所述可鋼化低福射鍛膜玻璃進(jìn)行熱處理時(shí)，所述銀基滲雜膜內(nèi)的滲 雜元素析出并與氧結(jié)合，在所述紅外反射功能層的界面處形成封閉的氧化物保護(hù)膜。
[000引作為優(yōu)選，所述玻璃基板的厚度為0. 3mm-19mm，所述銀基滲雜膜的厚度為6nm-20nm。
[0009] 作為優(yōu)選，所述滲雜元素選自下述與氧結(jié)合生成的氧化物的標(biāo)準(zhǔn)生成洽大 于-1700kJ/mol小于-lOOOkJ/mol的元素、熱處理溫度下在銀中的固溶度為零的元素W及 熱處理溫度下在銀中的固溶度大于0%小于10%且與氧結(jié)合生成的氧化物的標(biāo)準(zhǔn)生成洽 大于-lOOOkJ/mol小于-500kJ/mol的元素中的一種、兩種或兩種W上。
[0010] 作為優(yōu)選，所述滲雜元素選自^下^、化、56、￥、8曰、〔曰、6(1、1'1及1旨中的一種、兩 種或兩種W上。 W11] 作為優(yōu)選，所述銀基滲雜膜中的所述滲雜元素的原子百分含量為 0. 2at% -5.Oat%。
[0012] 作為優(yōu)選，所述鍛膜層自玻璃基板起由內(nèi)至外依次包括下層電介質(zhì)層、銀基滲雜 膜層和上層電介質(zhì)層；所述下層電介質(zhì)層選自W下Ti〇2層、ZnSnOJl、Sn〇2層、ZnO層、Si〇2 層、TazOJl、BiO2層、Al2〇3層、AZO層、Nb2〇5層和Si3N4層中的一種或兩種及兩種W上的任 意組合；所述上層電介質(zhì)層為SisNA層或ZrO2層形成的單層結(jié)構(gòu)，或所述上層電介質(zhì)層為最 外層為SisNA層或ZrO2層的復(fù)合層結(jié)構(gòu)，所述上層電介質(zhì)層為復(fù)合層時(shí)，除最外層W外的其 它層選自W下Ti化層、化Sn化層、SnO2層、化0層、SiO2層、Ta2化層、BiO2層、Al2化層、AZO 層及佩2〇5層中的一種或兩種及兩種W上的任意組合。
[0013] 作為優(yōu)選，所述銀基滲雜膜在熱處理后，所述銀基滲雜膜中的滲雜元素在銀基滲 雜膜內(nèi)分布的密集程度由界面處向內(nèi)逐漸變小。
[0014] 另一方面，本發(fā)明提供了一種可鋼化低福射鍛膜玻璃的制備方法，所述可鋼化低 福射鍛膜玻璃為上述實(shí)施例的可鋼化低福射鍛膜玻璃，所述鍛膜層是采用磁控瓣射法沉積 在所述玻璃基板的表面，鍛制所述紅外反射功能層的祀材采用滲雜有所述滲雜元素的銀基 滲雜祀材。
[001引作為優(yōu)選，鍛制所述紅外反射功能層時(shí)，真空室的背底真空度為 1X10 4Pa-SX10 4Pa,瓣射氣氛為純氣氣，純氣氣的流量為10sccm-50sccm，直流瓣射 功率密度為1. 13X10 3WAim2-L13X10 2W/mm2,瓣射氣壓為0. 2Pa-0. 9Pa，瓣射時(shí)間為 100s-120s0
[0016] 另一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種低福射鍛膜玻璃，其由上述實(shí)施例所述的可 鋼化低福射鍛膜玻璃鋼化而得。
[0017] 另一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種上述實(shí)施例的低福射鍛膜玻璃的制備方法， 先通過上述實(shí)施例的制備方法制備得到所述可鋼化低福射鍛膜玻璃，然后對(duì)所述可鋼化低 福射鍛膜玻璃進(jìn)行鋼化，即得低福射鍛膜玻璃。
[0018] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：
[0019] 本發(fā)明實(shí)施例提供的可鋼化低福射鍛膜玻璃通過在現(xiàn)有的銀膜中添加滲雜元素 形成銀基滲雜膜作為紅外反射功能層，在熱處理時(shí)所述滲雜元素?cái)U(kuò)散析出并與氧結(jié)合，在 紅外反射功能層的界面處形成封閉的氧化物保護(hù)膜的技術(shù)手段，解決了所述可鋼化低福射 鍛膜玻璃的紅外反射功能層在熱處理時(shí)被破壞而導(dǎo)致熱處理后的低福射鍛膜玻璃性能變 差的技術(shù)問題，達(dá)到了所述可鋼化低福射鍛膜玻璃的紅外反射功能層在熱處理時(shí)不被破 壞，同時(shí)由于本發(fā)明實(shí)施例提供的可鋼化低福射鍛膜玻璃采用在銀膜中滲入相應(yīng)的滲雜元 素對(duì)銀進(jìn)行保護(hù)，取消了現(xiàn)有技術(shù)中的阻擋層，使得可鋼化低福射鍛膜玻璃在熱處理后其 光性能、隔熱性能及電性能均穩(wěn)定的技術(shù)效果。
【附圖說明】
[0020] 圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的可鋼化低福射鍛膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021] 圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的可鋼化低福射鍛膜玻璃熱處理后的結(jié)構(gòu)示意圖。 陽0巧 附圖標(biāo)記說明： 陽023] 1玻璃基板，2下層電介質(zhì)層，3上層電介質(zhì)層，4銀基滲雜膜，5氧化物保護(hù)膜，6滲 雜元素。
【具體實(shí)施方式】
[0024] 為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，W下結(jié) 合附圖W較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明申請(qǐng)的【具體實(shí)施方式】、技術(shù)方案、特征及其功效，詳細(xì) 說明如后。下述說明中的多個(gè)實(shí)施例中的特定特征、結(jié)構(gòu)、或特點(diǎn)可由任何合適形式組合。 陽〇2引 實(shí)施例1 陽0%] 將厚度為2mm的玻璃基板1依次用去離子水、異丙醇和去離子水各清洗lOmin，再 用氮?dú)獯蹈纱茫粚⒉ＡЩ?傳輸至共聚焦式磁控瓣射儀的鍛膜腔室，并將背底真空抽 至2X104pa。
[0027] 采用磁控瓣射法先在玻璃基板1上瓣射SisNA膜作為下層電介質(zhì)層2。其中，選 擇直徑為75mm的SIsNa祀材，Si3N4祀材純度為99. 9999%，瓣射采用射頻電源，射頻功率為 350W，瓣射氣壓為0. 23化，氣氣流量為6sccm，氮?dú)饬髁繛?sccm，基片臺(tái)轉(zhuǎn)速為lOr/min，沉 積時(shí)間560s，所得SIsNa膜的沉積厚度為40nm。
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