專利名稱：輸運裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種輸運裝置，特別是涉及一種電磁繼電器生產(chǎn)設(shè)備中使用的用 于輸運磁石的輸運裝置。
背景技術(shù)：
在生產(chǎn)流水線中，通常需要將諸如部件等物體從生產(chǎn)線的一個裝置移動到另一個 裝置。例如，在電磁繼電器的制造生產(chǎn)線中，需要將電磁繼電器的磁石進(jìn)行移動。在現(xiàn)有的 技術(shù)中，通常是使用圖1所示的輸運裝置100。該輸運裝置100具有與磁石80相面對的接 觸平面101。在接觸平面101上形成有抽氣口 102，該抽氣口 102通過虛線表示的真空通道 與未顯示的真空設(shè)備連接。抽氣口 102的尺寸不大于磁石80與接觸平面101接觸的面的 尺寸。該輸運裝置100工作時，通常接觸平面101位于磁石80上方與磁石80相面對，然 后，通過抽氣口 102對磁石80的真空吸引將磁石80吸引到與接觸平面101接觸。然后移 動輸運裝置100使得磁石80也一起移動而輸運到預(yù)定的位置。然后，解除真空吸引，使得 磁石80落在另一個裝置上。在利用這種輸運裝置100輸運磁石80等細(xì)小物體時，特別是同時對多個細(xì)小的磁 石80進(jìn)行快速輸運時，通常會在移動輸運裝置100時造成磁石80在接觸平面101上的方 位發(fā)生偏轉(zhuǎn)，從而降低了磁石80置于另一個裝置的位置精度，從而造成快速循環(huán)生產(chǎn)時的 生產(chǎn)不穩(wěn)定。

實用新型內(nèi)容考慮到上述問題，本實用新型的目的在于提供一種輸運裝置，該輸運裝置通過對 物體在輸運裝置的接觸面上進(jìn)行定位而使磁石等細(xì)小物體在接觸面的方位不發(fā)生偏轉(zhuǎn)，從 而提高磁石等細(xì)小物體置于另一個裝置的位置精度，特別是對大量尺寸細(xì)小的磁石等物體 進(jìn)行精確定位，使得快速循環(huán)生產(chǎn)穩(wěn)定。本實用新型提供一種輸運裝置，用于輸運物體，該輸運裝置具有面向物體的接觸 面，在接觸面上形成有與真空裝置連通的至少一個抽氣口，用于吸附物體，接觸面上形成有 與抽氣口一一對應(yīng)的至少一個凹槽，在輸運物體時，各個物體一一對應(yīng)地吸附在各個凹槽 中。較佳地，每一個凹槽的底面可以為平面。較佳地，可以是，每一個凹槽的兩側(cè)壁面中的至少一個側(cè)壁面與凹槽的底面垂直， 每一個抽氣口至少一部分形成于對應(yīng)的凹槽的底面。較佳地，每一個抽氣口的另一部分可以形成于對應(yīng)的凹槽的垂直于底面的一個側(cè)壁。較佳地，可以是，每一個凹槽的兩側(cè)壁面中的至少一個側(cè)壁面的至少其與接觸面 鄰接的部分與凹槽的底面成鈍角地傾斜。[0011]較佳地，可以是，每一個凹槽的兩側(cè)壁面中的至少一個側(cè)壁面的與凹槽的底面鄰 接的部分與凹槽的底面垂直。較佳地，每一個物體為矩形體，每一個凹槽在平行于矩形體物體的預(yù)定的棱邊的 方向上延伸，每一個凹槽的底面的寬度大于與要位于該凹槽中的物體的寬度，且兩寬度之 差與預(yù)定的物體定位精度相適配。
圖1是顯示現(xiàn)有的輸運裝置100的一部分的示意性的側(cè)透視圖；圖2是顯示根據(jù)本實用新型的一個實施例的輸運裝置1的示意性的立體圖；圖3A-3B是顯示根據(jù)本實用新型的一個實施例的輸運裝置1的一部分的示意性的 側(cè)透視圖，其中，圖3A和圖3B分別顯示了抽氣口 13和14分別位于凹槽12的不同位置；圖4A-4C分別顯示根據(jù)本實用新型的變化例的輸運裝置2-4的一部分的示意性的 側(cè)透視圖。
具體實施方式
下面，參照附圖2-4C詳細(xì)說明根據(jù)本實用新型的實施例的輸運裝置的構(gòu)造。為了 描述方便，特以電磁繼電器的制造生產(chǎn)線中對電磁繼電器的磁石進(jìn)行移動的輸運裝置為例 進(jìn)行說明。通常情況下，磁石為矩形體，例如但不限于長方體。圖2是顯示根據(jù)本實用新型的一個實施例的輸運裝置1的示意性的立體圖；圖 3A-3B是顯示根據(jù)本實用新型的一個實施例的輸運裝置1的一部分的示意性的側(cè)透視圖， 其中，圖3A和圖3B分別顯示了抽氣口 13和14分別位于凹槽12的不同位置。如圖2和3A、3B所示，輸運裝置1具有面向磁石80的接觸面11，在接觸面11上形 成有與真空裝置(未顯示)連通的抽氣口 13。接觸面11上形成有與抽氣口 13—一對應(yīng) 的凹槽12，如圖2所示，凹槽12的數(shù)量為6個，但為了簡化，只在其中一個凹槽12對部件 進(jìn)行了標(biāo)記。另外，本實用新型的凹槽12及與其對應(yīng)的抽氣口 13的數(shù)量并不限于圖2所 示的6個，還可以是1個或者6個以上，也可以在1至6之間。在輸運磁石80時，各個磁石 80——對應(yīng)地吸附在各個凹槽12中。進(jìn)一步地說，如圖2和3所示，每一個凹槽12的底面123為平面。每一個凹槽12 的兩側(cè)壁面121、122與凹槽的底面123垂直。需要說明的是，這里術(shù)語“底面”是指與凹槽 的開口相對的面。進(jìn)一步地，如圖3A所示，抽氣口 13完全形成于對應(yīng)的凹槽12的底面123。此時， 側(cè)壁面121、122對磁石80進(jìn)行方位的限定，使得磁石在接觸面101的方位不發(fā)生較大偏 轉(zhuǎn)，從而進(jìn)提高磁石80置于另一個裝置的位置精度。進(jìn)一步地說，如圖3B所示，抽氣口 13的一部分形成于對應(yīng)的凹槽12的底面123， 另一部分形成于對應(yīng)的凹槽12的側(cè)壁面122。此時，側(cè)壁面122作為對磁石80進(jìn)行定位的 定位面，使得磁石在接觸面101的方位不發(fā)生偏轉(zhuǎn)，從而進(jìn)一步提高磁石80置于另一個裝 置的位置精度。進(jìn)一步地說，每一個凹槽12在平行于矩形體磁石80的預(yù)定的棱邊的方向上延伸， 每一個凹槽12的底面123的寬度大于與要位于該凹槽12中的磁石80的寬度，且兩寬度之 差與預(yù)定的磁石80定位精度相適配。也就是說，根據(jù)磁石80定位精度的需要調(diào)節(jié)兩者的 寬度之差。
4[0026]下面參照圖4A-4C說明本實用新型的變化例。圖4A-4C中移除了磁石80。圖4A是顯示本實用新型的變化例的輸運裝置2的一部分的示意性的側(cè)透視圖?？?以看出，其與上述實施例的區(qū)別在于輸運裝置2的凹槽22的兩個側(cè)壁面221、222與凹槽22 的底面223成鈍角地傾斜。抽氣口 23完全形成于對應(yīng)的凹槽22的底面223。如此構(gòu)造的 輸運裝置2可以在吸附磁石時對磁石進(jìn)行引導(dǎo)。圖4B是顯示本實用新型的變化例的輸運裝置3的一部分的示意性的側(cè)透視圖。 可以看出，其與上述變化例的區(qū)別在于輸運裝置3的凹槽32的側(cè)壁面321與凹槽32的底 面323成鈍角地傾斜，側(cè)壁面322與凹槽32的底面323垂直。抽氣口 33完全形成于對應(yīng) 的凹槽32的底面323。另外，可以知道，抽氣口 33也可以一部分形成于對應(yīng)的凹槽32的底 面323，另一部分形成于對應(yīng)的凹槽32的側(cè)壁面322。如此構(gòu)造的輸運裝置3不但可以在 吸附磁石時對磁石進(jìn)行引導(dǎo)，而且可以對磁石進(jìn)行精確定位。圖4C是顯示本實用新型的變化例的輸運裝置4的一部分的示意性的側(cè)透視圖?？?以看出，凹槽42的兩側(cè)壁面421、422與接觸面41鄰接的部分421a、422a與凹槽42的底 面423成鈍角地傾斜。凹槽42的側(cè)壁面421、422與凹槽42的底面423鄰接的部分421b、 422b與凹槽42的底面423垂直。抽氣口 43完全形成于對應(yīng)的凹槽42的底面423。另外， 可以知道，抽氣口 43也可以一部分形成于對應(yīng)的凹槽42的底面423，另一部分形成于對應(yīng) 的凹槽42的側(cè)壁面422或者421的與凹槽42的底面423鄰接的部分422b或者421b。也 可以是，側(cè)壁面421、422中的一個形成為上述形狀，而另一個形成為圖4B中的側(cè)壁面321 或者322的形狀。如此構(gòu)造的輸運裝置4不但可以在吸附磁石時對磁石進(jìn)行引導(dǎo)，而且可 以對磁石進(jìn)行精確定位。需要說明的是，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以知道各個凹槽的底面可以不等寬，以適應(yīng) 不等寬的物體。上面的實施例和變化例以電磁繼電器的制造生產(chǎn)線中對電磁繼電器的磁石進(jìn)行 移動的輸運裝置為例對本實用新型的輸運裝置進(jìn)行了說明。本實用新型的輸運裝置并不限 于僅在電磁繼電器的制造生產(chǎn)線中使用，可以知道，本實用新型的輸運裝置可以在其他的 生產(chǎn)線中用于輸運與上述的磁石相似的其他物體。上面的實施例和變化例具體描述了本實用新型的輸運裝置的幾個實例，本實用新 型并不局限于上述實施例和變化例。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以知道，上述實施例只是示例性 的。并不對本實施新型進(jìn)行限制。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以在不背離后附的權(quán)利要求的范圍 的情況下進(jìn)行許多其他的變化和修改。
權(quán)利要求一種輸運裝置，用于輸運物體，該輸運裝置具有面向物體的接觸面，在所述接觸面上形成有與真空裝置連通的至少一個抽氣口，用于吸附所述物體，其特征在于，所述接觸面上形成有與所述抽氣口一一對應(yīng)的至少一個凹槽，在輸運物體時，各個所述物體一一對應(yīng)地吸附在各個所述凹槽中。
2.如權(quán)利要求1所述的輸運裝置，其特征在于，每一個所述凹槽的底面為平面。
3.如權(quán)利要求2所述的輸運裝置，其特征在于，每一個所述凹槽的兩側(cè)壁面中的至少 一個側(cè)壁面與所述凹槽的底面垂直，每一個所述抽氣口至少一部分形成于對應(yīng)的凹槽的底
4.如權(quán)利要求3所述的輸運裝置，其特征在于，每一個所述抽氣口的另一部分形成于 對應(yīng)的凹槽的垂直于所述底面的一個側(cè)壁。
5.如權(quán)利要求2所述的輸運裝置，其特征在于，每一個所述凹槽的兩側(cè)壁面中的至少 一個側(cè)壁面的至少其與接觸面鄰接的部分與所述凹槽的底面成鈍角地傾斜。
6.如權(quán)利要求5所述的輸運裝置，其特征在于，每一個所述凹槽的兩側(cè)壁面中的至少 一個側(cè)壁面的與所述凹槽的底面鄰接的部分與所述凹槽的底面垂直。
7.如權(quán)利要求1-6任何一項所述的輸運裝置，其特征在于，每一個所述物體為矩形體， 每一個所述凹槽在平行于矩形體物體的預(yù)定的棱邊的方向上延伸，每一個所述凹槽的底面 的寬度大于與要位于該凹槽中的物體的寬度，且兩寬度之差與預(yù)定的物體定位精度相適 配。
專利摘要一種輸運裝置，用于輸運物體并同時達(dá)到精密定位，該輸運裝置具有面向物體的接觸面，在接觸面上形成有與真空裝置連通的至少一個抽氣口，用于吸附物體，接觸面上形成有與抽氣口一一對應(yīng)的至少一個凹槽，在輸運物體時，各個物體一一對應(yīng)地吸附在各個凹槽中。
文檔編號B65G47/24GK201647636SQ201020103549
公開日2010年11月24日 申請日期2010年1月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月28日
發(fā)明者江志宏, 王軍 申請人:上海歐姆龍控制電器有限公司