1.一種用于涂布襯底的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，所述旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備包括：
襯底保持件，所述襯底保持件構(gòu)造成在旋轉(zhuǎn)涂布處理期間水平地保持所述襯底；
旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接至所述襯底保持件，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)構(gòu)造成使所述襯底保持件繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)；
液體分配器，所述液體分配器構(gòu)造成在所述襯底被設(shè)置在所述襯底保持件上時將液體材料分配至所述襯底的加工表面上，所述加工表面為平面并且與所述襯底的與所述襯底保持件接觸的下表面相反；以及
流體流動構(gòu)件，所述流體流動構(gòu)件具有面向襯底的表面，所述流體流動構(gòu)件構(gòu)造成當(dāng)所述襯底被設(shè)置在所述襯底保持件上時所述流體流動構(gòu)件被定位成使得所述面向襯底的表面被定位在所述襯底的所述加工表面的豎直上方，所述面向襯底的表面的至少一部分彎曲成使得所述面向襯底的表面與所述加工表面之間的給定的豎向距離沿徑向相對于離所述旋轉(zhuǎn)軸線的給定的徑向距離變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述面向襯底的表面與所述加工表面之間的所述給定的豎向距離變化以使得所述給定的豎向距離隨著離所述旋轉(zhuǎn)軸線的徑向距離的增大而減小。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，當(dāng)所述加工表面具有圓形形狀時，所述面向襯底的表面被定位在所述加工表面的環(huán)形部分的上方，所述環(huán)形部分從所述加工表面的外邊緣延伸至離所述旋轉(zhuǎn)軸線預(yù)定的徑向距離處。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述流體流動構(gòu)件限定位于所述加工表面的圓形部分的豎直上方的圓形開口，所述圓形部分從所述旋轉(zhuǎn)軸線延伸至所述預(yù)定的徑向距離處。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述面向襯底的表面具有外環(huán)形部分和內(nèi)環(huán)形部分，所述內(nèi)環(huán)形部分比所述外環(huán)形部分離所述旋轉(zhuǎn)軸線更近，所述面向襯底的表面的所述內(nèi)環(huán)形部分沿徑向彎曲，而所述面向襯底的表面的所述外環(huán)形部分具有大致線性的徑向傾斜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述面向襯底的表面具有外環(huán)形部分和內(nèi)環(huán)形部分，所述內(nèi)環(huán)形部分比所述外環(huán)形部分離所述旋轉(zhuǎn)軸線更近，所述面向襯底的表面的所述內(nèi)環(huán)形部分沿徑向彎曲，而所述面向襯底的表面的所述外環(huán)形部分是平的，使得當(dāng)所述流體流動構(gòu)件被定位在所述襯底的所述加工表面的豎直上方時，在所述加工表面與所述面向襯底的表面的所述外環(huán)形部分之間存在大致恒定的豎向距離。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，還包括豎向移動機(jī)構(gòu)，所述豎向移動機(jī)構(gòu)構(gòu)造成當(dāng)所述襯底設(shè)置在所述襯底保持件上時增大或減小所述面向襯底的表面與所述加工表面之間的平均豎向距離。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述豎向移動機(jī)構(gòu)構(gòu)造成將所述外環(huán)形部分與所述加工表面之間的垂直距離設(shè)定成小于約5毫米。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述面向襯底的表面的所述內(nèi)環(huán)形部分具有在約20毫米至90毫米之間的第一曲率半徑。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述面向襯底的表面具有外環(huán)形部分和內(nèi)環(huán)形部分，所述內(nèi)環(huán)形部分比所述外環(huán)形部分離所述旋轉(zhuǎn)軸線更近，所述面向襯底的表面的所述內(nèi)環(huán)形部分具有第一曲率半徑，所述面向襯底的表面的所述外環(huán)形部分具有第二曲率半徑，所述第二曲率半徑不同于所述第一曲率半徑，所述面向襯底的表面相對于所述加工表面為凸的。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述第一曲率半徑在約20毫米至90毫米之間，并且其中，所述第二曲率半徑在約1000毫米至2000毫米之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述第一曲率半徑在約50毫米至70毫米之間，并且其中，所述第二曲率半徑在約1300毫米至1500毫米之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述面向襯底的表面限定截頭錐形狀，所述截頭錐形狀相對于所述加工表面為凸的，使得所述面向襯底的表面與所述加工表面之間的距離沿徑向方向朝向所述加工表面的外邊緣而減小。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述面向襯底的表面具有被選擇用以提高旋轉(zhuǎn)涂布處理期間的干燥均勻度的曲率。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述面向襯底的表面與所述加工表面之間的變化的給定的豎向距離被選擇以使所述加工表面上的湍流流動最小化。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述流體流動構(gòu)件包括兩個或更多個部段，使得至少一個部段構(gòu)造成移動遠(yuǎn)離臨近的部段。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述流體流動構(gòu)件包括四個部段，使得每個部段構(gòu)造成被機(jī)械地移動遠(yuǎn)離臨近的部段。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述流體流動構(gòu)件的所述面向襯底的表面包括多個平面徑向部段，使得所述流體流動構(gòu)件的截面曲率由多個線性部段組成。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述流體流動構(gòu)件限定開口以使得所述流體流動構(gòu)件在所述襯底保持件上方形成部分環(huán)。
20.一種用于制造半導(dǎo)體器件的方法，所述方法包括：
將襯底定位在襯底保持件上，所述襯底保持件水平地保持所述襯底并且具有旋轉(zhuǎn)軸線，所述襯底具有與所述襯底保持件接觸的下表面以及與所述下表面相反的加工表面；
將流體流動構(gòu)件定位在所述襯底保持件上方，所述流體流動構(gòu)件具有面向襯底的表面，定位所述流體流動構(gòu)件包括將所述面向襯底的表面在所述加工表面上方的預(yù)定平均豎向距離處定位于所述加工表面的豎直上方，所述面向襯底的表面的至少一部分彎曲成使得所述面向襯底的表面與所述加工表面之間的給定的豎向距離沿徑向相對于離所述旋轉(zhuǎn)軸線的給定的徑向距離而變化；
將液體材料經(jīng)由定位在所述襯底上方的液體分配器分配至所述襯底的所述加工表面上；以及
經(jīng)由聯(lián)接至所述襯底保持件的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述襯底和所述襯底保持件旋轉(zhuǎn)，使得所述液體材料蔓延跨越所述襯底的所述加工表面。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，還包括：
在將所述液體材料分配至所述加工表面上之前，將所述面向襯底的表面保持在所述加工表面上方的所述預(yù)定平均豎向距離處；以及
在開始分配所述液體材料之后，將所述預(yù)定平均豎向距離經(jīng)由豎向移動機(jī)構(gòu)減小至第二預(yù)定平均豎向距離。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，所述面向襯底的表面具有外環(huán)形部分和內(nèi)環(huán)形部分，所述內(nèi)環(huán)形部分比所述外環(huán)形部分離所述旋轉(zhuǎn)軸線更近，所述面向襯底的表面的所述內(nèi)環(huán)形部分沿徑向彎曲，而所述面向襯底的表面的所述外環(huán)形部分具有大致線性的徑向傾斜，其中，通過使所述預(yù)定平均豎向距離減小至所述第二預(yù)定平均豎向距離而使所述面向襯底的表面的外部分被定位在離所述加工表面小于約4毫米處，當(dāng)所述加工表面具有約300毫米的直徑時，所述外部分延伸超過離所述旋轉(zhuǎn)軸線約80毫米至120毫米的徑向距離，當(dāng)所述加工表面具有約450毫米的直徑時，所述外部分延伸超過離所述旋轉(zhuǎn)軸線約100毫米至170毫米的徑向距離。
23.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中，在始于開始將所述液體材料分配至所述加工表面上的預(yù)定時間內(nèi)將所述預(yù)定平均豎向距離減小至所述第二預(yù)定平均豎向距離。
24.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，還包括：
使所述面向襯底的表面沿與所述襯底保持件相同的旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)，使得所述面向襯底的表面以與所述加工表面大約相同的角速度旋轉(zhuǎn)。
25.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中，將所述流體流動構(gòu)件定位在所述襯底保持件上方包括將多個流體流動構(gòu)件部段機(jī)械地組合以形成所述流體流動構(gòu)件。
26.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，還包括：
在將所述液體材料分配至所述加工表面上之前，將所述面向襯底的表面保持在所述加工表面上方的預(yù)定平均豎向距離處長達(dá)第一時間段；
在開始分配所述液體材料之后，經(jīng)由豎向移動機(jī)構(gòu)將所述預(yù)定平均豎向距離減小至第二預(yù)定平均豎向距離并持續(xù)長達(dá)第二時間段；以及
當(dāng)所述襯底在所述襯底保持件上保持旋轉(zhuǎn)的同時，將所述預(yù)定平均豎向距離增大至第三預(yù)定平均豎向距離并持續(xù)長達(dá)第三時間段。
27.一種用于涂布襯底的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，所述旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備包括：
襯底保持件，所述襯底保持件構(gòu)造成在旋轉(zhuǎn)涂布處理期間水平地保持所述襯底；
旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接至所述襯底保持件，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)構(gòu)造成使所述襯底保持件繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)；
液體分配器，所述液體分配器構(gòu)造成在所述襯底被設(shè)置在所述襯底保持件上時將液體材料分配至所述襯底的加工表面上，所述加工表面為平面并且與所述襯底的與所述襯底保持件接觸的下表面相反；以及
流體流動構(gòu)件，所述流體流動構(gòu)件具有面向襯底的表面，所述流體流動構(gòu)件構(gòu)造成當(dāng)所述襯底被設(shè)置在所述襯底保持件上時所述流體流動構(gòu)件被定位成使得所述面向襯底的表面被定位在所述襯底的所述加工表面的豎直上方，所述流體流動構(gòu)件限定以所述旋轉(zhuǎn)軸線為中心的大致圓形的開口，所述流體流動構(gòu)件構(gòu)造成使得能夠增大和減小所限定的所述開口的直徑。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述流體流動構(gòu)件包括隔膜構(gòu)件和環(huán)形基板。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述隔膜構(gòu)件包括多個葉片，所述多個葉片構(gòu)造成滑動跨越彼此以增大或減小所限定的所述開口的直徑。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，其中，所述多個葉片經(jīng)由多個棒條而附接至安裝環(huán)，使得通過旋轉(zhuǎn)所述安裝環(huán)而引起所述葉片來增大或減小所限定的所述開口的直徑。