技術(shù)編號：11885452
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本文所公開的技術(shù)涉及包括半導(dǎo)體襯底的旋轉(zhuǎn)涂布的旋轉(zhuǎn)涂布系統(tǒng)和旋轉(zhuǎn)涂布處理。背景技術(shù)幾十年來，旋轉(zhuǎn)涂布被用作對平面涂布聚合物、光刻膠或其他復(fù)合物的薄層的方法。旋轉(zhuǎn)涂布一般通過在平整的襯底上沉積溶劑溶液、聚合物溶液或其他液體材料來實(shí)施。該襯底以足以建立使溶液朝向襯底的邊緣向外流動的離心力的角速度旋轉(zhuǎn)，從而涂布襯底的整個(gè)表面。過量的溶液從襯底的邊緣被排出，并且剩余的溶液隨著溶劑的蒸發(fā)而變薄且變硬，最終形成薄的聚合物膜。這種旋轉(zhuǎn)涂布是半導(dǎo)體器件制造中所使用的光刻法中的常規(guī)步驟。在光刻處理示例中，實(shí)施光刻...
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