本實(shí)用新型涉及一種基材的涂布裝置，特別是適合于防止多孔基材涂布漏料且保證涂布均勻的涂布裝置。

背景技術(shù)：

涂布是鋰離子電池或者是鋰離子電容器的正負(fù)極片及隔離膜生產(chǎn)過程中必不可少的一道工序，涂布工藝的好壞將直接影響電池或者電容的容量以及一致性等性能。涂布的過程就是將制作好的糊狀粘稠漿料均勻的，連續(xù)或間斷的涂覆在基材(銅箔或鋁箔)的正反面?，F(xiàn)有涂布方法是將涂布頭設(shè)置在基材的上方或側(cè)方，即漿料從涂布在基材的上面，或者同時(shí)將涂布頭設(shè)置在箔材的側(cè)方和下方，上下兩面同時(shí)涂布。這對(duì)于普通的無孔基材而言不會(huì)出現(xiàn)工藝缺陷，但對(duì)于多孔基材，由于漿料的重力作用，漿料極易從基材的孔隙中滲漏，這不但影響基材的涂布工藝，造成基材涂布不均勻，而且滲漏的漿料由于未及時(shí)烘干而玷污涂布輥，無法正常生產(chǎn)。此外，傳統(tǒng)涂布工藝中，涂布頭設(shè)置在烘箱的頭部位置處，如專利文獻(xiàn)CN 103567116 B和CN 102744183 A所述，這種涂布方式存在一定的缺陷。由于烘箱內(nèi)較大的空氣流速，基材在行進(jìn)過程中會(huì)出現(xiàn)波動(dòng)，進(jìn)而造成基材涂布不均勻，從而影響產(chǎn)品一致性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是，提供一種適合于多孔基材的涂布裝置，使用該裝置在多孔基材上進(jìn)行涂布避免多孔基材涂布不均勻以及漏料污染涂布輥的缺陷。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型公開了一種適合于多孔基材的涂布裝置，包括基材，沿基材行進(jìn)方向依次布置的放卷機(jī)輥、涂布輥、烘箱、牽引輥和收卷機(jī)輥，以及對(duì)基材進(jìn)行涂布的涂布頭，所述涂布頭設(shè)置于涂布輥下方。

進(jìn)一步地，所述基材與涂布輥的切點(diǎn)為A，所述涂布頭的頂部為噴涂頭B，噴涂頭B與切點(diǎn)A在基材行進(jìn)方向上的水平距離L為0.5-5mm。涂布頭在基材行進(jìn)方向上越靠近涂布輥切點(diǎn)，則涂布作業(yè)時(shí)，基材波動(dòng)越小，涂布均一性越好。

進(jìn)一步地，所述涂布頭在涂布作業(yè)時(shí)噴涂頭B到基材的垂直間隙H為0.2-1mm。涂布工況確定后，涂布頭與涂布輥之間的間隙恒定，以保證涂布基材的均勻性。

進(jìn)一步地，所述基材為銅箔，鋁箔，鎳箔，鋼網(wǎng)，隔膜中的任意一種。

進(jìn)一步地，所述基材包括多孔基材，其孔徑為0-500μm。

進(jìn)一步地，所述放卷機(jī)輥有兩個(gè)或兩個(gè)以上，用于將基材卷出，增加放卷機(jī)輥可以保證基材在行進(jìn)方向的平整度，使涂覆更為均勻。

進(jìn)一步地，所述涂布裝置還包括離型輥，所述離型輥設(shè)置于基材的上方，且位于涂布輥與烘箱之間。增加離型輥可以減小因烘箱附近快速的空氣流動(dòng)而導(dǎo)致基材較大的波動(dòng)。

進(jìn)一步地，所述基材沿烘箱水平方向通過，且烘箱從上下兩個(gè)方向?qū)倪M(jìn)行干燥。

進(jìn)一步地，所述基材位于烘箱前三分之二處沿水平方向通過，位于后三分之一處自水平方向向上傾斜，直至基材完全通過烘箱，且烘箱從上下兩個(gè)方向?qū)倪M(jìn)行干燥。

進(jìn)一步地，所述烘箱三分之二處起設(shè)置支撐輥，且支撐輥置于基材的上方，用于支撐基材沿牽引方向行進(jìn)。

進(jìn)一步地，所述牽引輥至少有兩個(gè)，牽引輥?zhàn)鳛榛牡臓恳到y(tǒng)，將基材沿著收卷機(jī)輥卷繞方向行進(jìn)。

本實(shí)用新型的有益效果：由于涂布頭位于涂布輥的下方，漿料通過涂布頭由下而上進(jìn)行涂布，可以避免漿料漏料而玷污涂布輥的缺陷，保證基材涂布均勻；其次，由于涂布位置處在涂布輥下方，所以基材在行進(jìn)過程中波動(dòng)較小，從而保證涂布的均勻性，進(jìn)而提高制備電極的電化學(xué)性能。

附圖說明

圖1為第一種實(shí)施方式的涂布裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為第二種實(shí)施方式的涂布裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為第三種實(shí)施方式的涂布裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為涂布頭與涂布輥裝置的放大圖；

圖中附圖標(biāo)記，1-放卷機(jī)輥；2-基材；3-涂布輥；4-涂布頭；5-烘箱；6-牽引輥；7-收卷機(jī)輥；8-支撐輥；9-離型輥。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例，更具體地闡述本實(shí)用新型的內(nèi)容。本實(shí)用新型的實(shí)施并不限于下面的實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型所做的任何形式上的變通或改變都應(yīng)在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。

實(shí)施例1：

本實(shí)用新型提供了一種適合于多孔基材的涂布裝置，如圖1所示。包括基材2，放卷機(jī)輥1，涂布輥3，涂布頭4，烘箱5，牽引輥6和收卷機(jī)輥7。本實(shí)施例中，采用多孔銅箔，孔徑為350μm?；?通過放卷機(jī)輥1向下卷出，再橫向依次經(jīng)過涂布輥3下方，烘箱5內(nèi)部，再經(jīng)牽引輥6牽引之后由收卷機(jī)輥7卷入，涂布頭4設(shè)置于涂布輥3的下方，基材2經(jīng)過涂布頭4與涂布輥3之間，涂布頭4與涂布輥3裝置的放大圖如圖4所示，其中基材2與涂布輥3的切點(diǎn)為A，所述涂布頭4的頂部為噴涂頭B，用于噴出漿料，噴涂頭B與切點(diǎn)A在基材2行進(jìn)方向上的水平距離L在本實(shí)施例中取0.5mm。需要說明的是噴涂頭B距A的水平距離越近(即L越短)，則涂布作業(yè)時(shí)，基材2波動(dòng)越小，涂布均一性越好。涂布頭4中噴涂頭B在涂布作業(yè)時(shí)到基材2的垂直間隙H為0.2mm(基材2的上側(cè)面緊貼涂布輥3)，涂布工況確定后，涂布頭與涂布輥之間的間隙恒定，進(jìn)一步保證涂布基材的均勻性?；?沿烘箱5水平方向通過，且烘箱5從上下兩個(gè)方向?qū)?進(jìn)行干燥。本實(shí)施例中放卷機(jī)輥1為1個(gè)，也可以增加放卷機(jī)輥1的數(shù)量，以保證基材2在行進(jìn)方向的平整度，使涂覆更為均勻。牽引輥6作為基材2的牽引系統(tǒng)，將基材2沿著收卷機(jī)輥7卷繞方向行進(jìn)，牽引輥6有兩個(gè)，增加牽引輥6的個(gè)數(shù)可以進(jìn)一步保證基材2行進(jìn)的平整度。

實(shí)施例2：

本實(shí)用新型還提供一種適合于多孔基材的涂布裝置，如圖2所示。該裝置與實(shí)施例1中的不同之處在于烘箱5前三分之二處，基材2沿水平方向通過，從烘箱5三分之二處起設(shè)置支撐輥8，使基材2在烘箱5的后三分之一處沿著支撐輥8從水平方向向上傾斜，直至基材2完全通過烘箱5，基材2傾斜程度可以根據(jù)烘箱5的具體長(zhǎng)度來調(diào)整，且烘箱5從上下兩個(gè)方向?qū)?進(jìn)行干燥，其他未述及部分同實(shí)施例1。

實(shí)施例3：

本實(shí)用新型還提供一種適合于多孔基材的涂布裝置，如圖3所示。該裝置與實(shí)施例1或?qū)嵤├?中的不同之處在于該涂布裝置還包括一個(gè)離型輥9，所述離型輥9設(shè)置于基材2的上方，且位于涂布輥3與烘箱5之間，增加離型輥9可以減小因烘箱5附近快速的空氣流動(dòng)而導(dǎo)致基材2較大的波動(dòng)，其他未述及部分同實(shí)施例1或?qū)嵤├?。

實(shí)施例4：

本實(shí)用新型還提供一種適合于多孔基材的涂布裝置，該裝置與實(shí)施例1或?qū)嵤├?中的不同之處在于涂布頭4的噴涂頭B與切點(diǎn)A在基材2行進(jìn)方向上的水平距離L為5mm，其他未述及部分同實(shí)施例1或?qū)嵤├?。

實(shí)施例5：

本實(shí)用新型還提供一種適合于多孔基材的涂布裝置，該裝置與實(shí)施例1或?qū)嵤├?中的不同之處在于涂布頭4中噴涂頭B在涂布作業(yè)時(shí)到基材2的垂直間隙H為1mm，其他未述及部分同實(shí)施例1或?qū)嵤├?。

本實(shí)用的裝置在使用時(shí)可包括以下步驟：

(1)、基材2隨放卷機(jī)輥1卷出，進(jìn)入涂布輥3下方；

(2)、涂布頭4設(shè)置于涂布輥3的下方，漿料從涂布頭4上噴涂頭B噴出，垂直涂布至基材2上，且涂布方向與基材2行進(jìn)方向垂直；

(3)、經(jīng)過涂布后的基材2進(jìn)入烘箱5干燥；

(4)、經(jīng)烘箱5干燥后，基材2通過收卷機(jī)輥7卷入。