專利名稱：鎂合金連續(xù)制漿熔爐裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種冶金熔爐，特別是鎂合金熔煉制漿的熔爐裝置。
背景技術(shù)：
鎂合金材料在用于產(chǎn)品成形時(shí)一般都需要熔煉為漿液，目前較常見的 熔煉設(shè)備是坩堝，由于坩堝多為敞口，為了防止鎂合金被氧化反應(yīng)，需要一直通保護(hù)氣，這 樣會(huì)使?jié){液攪拌均勻的難度加大，且傾倒時(shí)漿液還會(huì)接觸氧氣。如果是撒覆蓋劑在鎂合金 漿液上面，雖然容易攪拌，但覆蓋劑會(huì)混入漿液影響成形質(zhì)量。而且，坩堝底部容易沉積熔 渣，需要經(jīng)常清理非常麻煩?，F(xiàn)在也有比較先進(jìn)的特制坩堝熔爐系統(tǒng)，但是這樣的系統(tǒng)在生 產(chǎn)過程中需要經(jīng)常扒渣才能保證漿液的純凈度，影響連續(xù)生產(chǎn)的效率，并且使用后坩堝清 理也非常麻煩，整個(gè)系統(tǒng)的造價(jià)也較高。發(fā)明內(nèi)容針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供一種結(jié)構(gòu)簡單合理，熔渣清理方 便的鎂合金連續(xù)制漿熔爐裝置。本實(shí)用新型包括爐體及爐蓋，爐體外壁和外部熱源導(dǎo)熱接觸，爐體的內(nèi)底部上置 有可活動(dòng)的內(nèi)底盤，在爐體的側(cè)壁下方且高于底部處則設(shè)有出料口，爐體內(nèi)還置有可提升 的內(nèi)桶體，該內(nèi)桶體的底部敞口，構(gòu)成內(nèi)桶提升式出料控制機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型在熔煉鎂合金的制漿過程中，熔渣沉積在底部的內(nèi)底盤上，質(zhì)量輕的 雜質(zhì)會(huì)浮于鎂合金漿液上層，出料時(shí)只需提升內(nèi)桶體開啟出料口，中間層純凈度高的漿液 即可從出料口位置流出，通過內(nèi)桶體上移的距離控制出料口的開啟大小進(jìn)而控制流量非常 方便，而且生產(chǎn)中途無需扒渣可以連續(xù)進(jìn)行。當(dāng)熔渣沉積需要清理時(shí)，只要將內(nèi)底盤拉出即 可進(jìn)行，簡單方便。本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)簡單合理，造價(jià)成本低，連續(xù)制漿的生產(chǎn)效率高， 流出漿液質(zhì)量好。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例進(jìn)一步說明本實(shí)用新型。


圖1是實(shí)施例的主結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖1的I部放大圖。實(shí)施例如圖所示，爐體1蓋有爐蓋2，爐體1外壁和外部熱源4導(dǎo)熱接觸。外部 熱源4 一般可采用電熱爐，使用時(shí)將本裝置整個(gè)放在電熱爐中加熱。爐體1的內(nèi)底部上置 有可活動(dòng)的內(nèi)底盤5，在爐體1的側(cè)壁下方且高于底部處則設(shè)有出料口 3，爐體1內(nèi)還置有 可提升的內(nèi)桶體6，該內(nèi)桶體6的底部敞口，構(gòu)成內(nèi)桶提升式出料控制機(jī)構(gòu)。本實(shí)施例在爐 體1的內(nèi)底部上還設(shè)有一圈凹槽7，內(nèi)桶體6的下邊緣則和凹槽7對(duì)應(yīng)卡合，這樣內(nèi)桶體6 下移到底后定位更準(zhǔn)確，對(duì)鎂合金漿液的封阻防溢性更好。爐體1的底部還設(shè)有二根或更 多根豎直的導(dǎo)桿8，導(dǎo)桿8和內(nèi)桶體6及內(nèi)底盤5定位配合，構(gòu)成移動(dòng)限位導(dǎo)向機(jī)構(gòu)。在將 內(nèi)桶體6上、下移動(dòng)啟閉出料口 3時(shí)，或者上移取出內(nèi)底盤5清理時(shí)，導(dǎo)桿8可以限制并引 導(dǎo)內(nèi)桶體6或內(nèi)底盤5在上、下運(yùn)動(dòng)時(shí)不偏離移動(dòng)路線。在爐蓋2上還可設(shè)有若干個(gè)預(yù)備通孔10，并設(shè)有投料口 11及相應(yīng)的料口蓋12。預(yù) 備通孔10能夠插入保護(hù)氣導(dǎo)管，在必要時(shí)可通入保護(hù)性氣體實(shí)現(xiàn)漿液防氧化保護(hù)功能。還 能夠插入熱電偶，和外部熱源4反饋連接實(shí)現(xiàn)自動(dòng)溫控。投料口 11及相應(yīng)的料口蓋12在 連續(xù)制液時(shí)加料更方便，當(dāng)里面液位較淺時(shí)，無需打開爐蓋2，只要開啟料口蓋12，從投料 口 11加入鎂塊，以保持一定的液位高度。[0011]本實(shí)施例的內(nèi)桶體6上固定設(shè)有提升桿9，該提升桿9的上端穿出爐蓋2，將內(nèi)桶 體6移動(dòng)時(shí)上拉提升桿9即可，非常方便。內(nèi)底盤5上也設(shè)有若干個(gè)帶孔掛柱13，用外物鉤 住帶孔掛柱13即可拉出內(nèi)底盤5。熔煉鎂合金制漿時(shí)，內(nèi)桶體6下移到底遮擋關(guān)閉出料口 3，鎂合金熔液在內(nèi)桶體6 內(nèi)熔化積存，熔渣會(huì)沉積在底部的內(nèi)底盤5上，質(zhì)量輕的雜質(zhì)則會(huì)浮于鎂合金漿液上層。出 料時(shí)，只需提升內(nèi)桶體6開啟出料口 3，由于出料口 3高于底部，中間層純凈度高的漿液即可 從出料口 3位置流出，通過內(nèi)桶體6上移的距離可控制出料口 3的開啟大小進(jìn)而控制流量， 而且生產(chǎn)中途無需扒渣可以連續(xù)進(jìn)行。當(dāng)熔渣沉積需要清理時(shí)，只要將內(nèi)底盤5拉出爐體 1即可清理，簡單方便。
權(quán)利要求一種鎂合金連續(xù)制漿熔爐裝置，包括爐體及爐蓋，爐體外壁和外部熱源導(dǎo)熱接觸，其特征為爐體(1)的內(nèi)底部上置有可活動(dòng)的內(nèi)底盤(5)，在爐體(1)的側(cè)壁下方且高于底部處則設(shè)有出料口(3)，爐體(1)內(nèi)還置有可提升的內(nèi)桶體(6)，該內(nèi)桶體(6)的底部敞口，構(gòu)成內(nèi)桶提升式出料控制機(jī)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂合金連續(xù)制漿熔爐裝置，其特征為爐體(1)的內(nèi)底部上 還設(shè)有一圈凹槽(7)，內(nèi)桶體(6)的下邊緣則和凹槽(7)對(duì)應(yīng)卡合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鎂合金連續(xù)制漿熔爐裝置，其特征為爐體(1)的底部 還設(shè)有二根或更多根豎直的導(dǎo)桿(8)，導(dǎo)桿(8)和內(nèi)桶體(6)及內(nèi)底盤(5)定位配合，構(gòu)成 移動(dòng)限位導(dǎo)向機(jī)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鎂合金連續(xù)制漿熔爐裝置，其特征為爐蓋(2)上還設(shè) 有若干個(gè)預(yù)備通孔(10)，并設(shè)有投料口(11)及相應(yīng)的料口蓋(12)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鎂合金連續(xù)制漿熔爐裝置，其特征為內(nèi)桶體(6)上固 定設(shè)有提升桿(9)，該提升桿(9)的上端穿出爐蓋(2)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鎂合金連續(xù)制漿熔爐裝置，其特征為內(nèi)底盤(5)上設(shè) 有若干個(gè)帶孔掛柱(13)。
專利摘要一種鎂合金連續(xù)制漿熔爐裝置，包括爐體及爐蓋，爐體外壁和外部熱源導(dǎo)熱接觸，爐體的內(nèi)底部上置有可活動(dòng)的內(nèi)底盤，在爐體的側(cè)壁下方且高于底部處則設(shè)有出料口，爐體內(nèi)還置有可提升的內(nèi)桶體，該內(nèi)桶體的底部敞口，構(gòu)成內(nèi)桶提升式出料控制機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型在熔煉鎂合金的制漿過程中，熔渣沉積在底部的內(nèi)底盤上，質(zhì)量輕的雜質(zhì)會(huì)浮于鎂合金漿液上層，出料時(shí)只需提升內(nèi)桶體開啟出料口，中間層純凈度高的漿液即可從出料口位置流出，通過內(nèi)桶體上移的距離控制出料口的開啟大小進(jìn)而控制流量非常方便，而且生產(chǎn)中途無需扒渣可以連續(xù)進(jìn)行。當(dāng)熔渣沉積需要清理時(shí)，只要將內(nèi)底盤拉出即可進(jìn)行，簡單方便。
文檔編號(hào)F27B14/00GK201697453SQ20102023354
公開日2011年1月5日 申請日期2010年6月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月20日
發(fā)明者徐臨超, 李勇, 林繼興, 牛麗媛 申請人:浙江工貿(mào)職業(yè)技術(shù)學(xué)院