專利名稱：離線鍍膜低輻射玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于玻璃制造和節(jié)能技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及以含硅薄膜和組分漸變薄膜為介
質(zhì)層的低輻射玻璃，。
背景技術(shù)：
建筑耗能大約占總能源消耗的30%，建筑節(jié)能潛力非常大。采用低輻射中空玻璃 配合隔熱窗框，可以將通過窗戶的傳熱降低到普通窗戶的25%左右，效果非常顯著。低輻 射玻璃是一種可以透過陽(yáng)光中的大部分可見光，反射陽(yáng)光中的部分近紅外線，并具有很低 的遠(yuǎn)紅外線輻射系數(shù)的玻璃。在世界上發(fā)達(dá)國(guó)家，大部分建筑都采用這種低輻射玻璃。在 我國(guó)，低輻射玻璃的應(yīng)用還不十分廣泛，主要原因是成本問題。由于售價(jià)比普通白玻璃高得 多，因此只能用于高檔建筑中，民用住宅很少采用。 低輻射玻璃分在線鍍膜和離線鍍膜兩種。在線鍍膜是在浮法玻璃生產(chǎn)線上采用化 學(xué)方法鍍制氧化錫薄膜，保溫性能稍差。離線鍍膜是采用磁控濺射方法在玻璃上沉積多層 金屬和介質(zhì)薄膜，保溫性能好。離線鍍膜低輻射玻璃中的金屬膜一般都采用銀膜，按銀膜的 層數(shù)可分單銀、雙銀和三銀等，按介質(zhì)薄膜成分可分為軟膜和硬膜兩種，按功能又可分為高 透型和遮陽(yáng)型等。軟膜低輻射玻璃中的介質(zhì)膜包括氧化鋅、氧化錫兩種，由于膜層較軟，耐 磨性差。由于這兩種氧化物折射率較低，使得反射光顏色的調(diào)整范圍受到一定限制。硬膜 低輻射玻璃中的介質(zhì)膜主要是二氧化鈦。二氧化鈦薄膜不但硬度高，而且折射率也高，顏色 調(diào)整性能更好。硬膜的缺點(diǎn)是濺射速率低，用很多濺射靶同時(shí)工作才能達(dá)到一定的沉積速 率。已有的離線低輻射玻璃還有一個(gè)明顯的缺點(diǎn)是穩(wěn)定性能差，生產(chǎn)出來后幾天內(nèi)必須封 成中空玻璃，否則膜層性能將發(fā)生變化。即使封接成中空結(jié)構(gòu)，由于軟性封接材料的弱呼吸 作用，氧氣仍能緩慢進(jìn)入其中，導(dǎo)致性能劣化。 由于離線鍍膜低輻射玻璃存在的各種問題，使其在中國(guó)只能用于高檔寫字樓，還 很難大規(guī)模推廣。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中離線低輻射玻璃存在的不足和缺點(diǎn)，提供一種低輻射玻 璃，使其不僅具有材料普通、性能穩(wěn)定，完全不氧化等特點(diǎn)，而且解決了已有產(chǎn)品生產(chǎn)成本 高的問題，可以推動(dòng)低輻射節(jié)能玻璃的大規(guī)模應(yīng)用。
本發(fā)明的技術(shù)方案為 低輻射玻璃，具有單銀層結(jié)構(gòu)，其基本結(jié)構(gòu)中，由下而上依次包括玻璃板10、第1 介質(zhì)層11、銀層12、第2介質(zhì)層13。本發(fā)明的技術(shù)特征在于所述的各介質(zhì)層由1至10個(gè) 子層組成，構(gòu)成子層的材料包括氧化鋅薄膜、氧化錫薄膜、氧化銦錫薄膜、硅薄膜、硅和其它 金屬組成的以硅為主的硅合金薄膜、氧化硅薄膜、氧化硅合金薄膜、氮化硅薄膜、氮化硅合 金薄膜等，構(gòu)成子層的材料還包括鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的氧化 物和氮化物薄膜，構(gòu)成子層的材料還包括沿玻璃表面法線方向上組分和折射率漸變分布的
4硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜，構(gòu)成子
層的材料還包括沿玻璃表面法線方向上組分和折射率漸變分布的鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金
屬及這些金屬之間合金的氮薄膜。構(gòu)成介質(zhì)層的各個(gè)子層的薄膜可以相同，也可以不同，但
至少有一個(gè)子層是由硅薄膜和硅合金薄膜中的一種構(gòu)成，或者由沿玻璃表面法線方向上組
分和折射率漸變分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅
合金氧氮薄膜中的一種構(gòu)成，或者由沿玻璃表面法線方向上組分和折射率漸變分布的鋁、
鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的氮薄膜中的一種構(gòu)成。 本發(fā)明的另一種技術(shù)方案為 低輻射玻璃，具有雙銀層結(jié)構(gòu)，其基本結(jié)構(gòu)中，由下而上依次包括玻璃板20、第1 介質(zhì)層21、第1銀層22、第2介質(zhì)層23、第2銀層24、第3介質(zhì)層25。本發(fā)明的技術(shù)特征在 于所述的各介質(zhì)層由1至10個(gè)子層組成，構(gòu)成子層的材料包括氧化鋅薄膜、氧化錫薄膜、 氧化銦錫薄膜、硅薄膜、硅和其它金屬組成的以硅為主的硅合金薄膜、氧化硅薄膜、氧化硅 合金薄膜、氮化硅薄膜、氮化硅合金薄膜等，構(gòu)成子層的材料還包括鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等 金屬及這些金屬之間合金的氧化物和氮化物，構(gòu)成子層的材料還包括沿玻璃表面法線方向 上組分和折射率漸變分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄 膜、硅合金氧氮薄膜，構(gòu)成子層的材料還包括沿玻璃表面法線方向上組分和折射率漸變分 布的鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的氮薄膜。構(gòu)成介質(zhì)層的各個(gè)子層的 薄膜可以相同，也可以不同，但至少有一個(gè)子層是由硅薄膜和硅合金薄膜中的一種構(gòu)成，或 者由沿玻璃表面法線方向上組分和折射率漸變分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、 硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜中的一種構(gòu)成，或者由沿玻璃表面法線方向上 組分和折射率漸變分布的鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的氮薄膜中的一 種構(gòu)成。 上述兩種低輻射玻璃中，構(gòu)成介質(zhì)層中子層的組分和折射率漸變分布的硅氧薄 膜、硅氮薄膜、硅氧氮薄膜等是硅含量沿玻璃表面法線方向上逐漸變化的薄膜，以該子層的 中心平面為對(duì)稱平面，組分和折射率在該中心平面的上下兩側(cè)成對(duì)稱分布，硅組分和折射 率最高的部分位于該子層的中心平面，硅組分和折射率最低的部分位于該子層最外側(cè)的兩 個(gè)平面。所述構(gòu)成介質(zhì)層中子層的組分和折射率漸變分布的硅合金氧薄膜、硅合金氮薄膜、 硅合金氧氮薄膜等是硅合金含量沿玻璃表面法線方向上逐漸變化的薄膜，以該子層的中心 平面為對(duì)稱平面，組分和折射率在該中心平面的上下兩側(cè)成對(duì)稱分布，硅合金組分和折射 率最高的部分位于該子層的中心平面，硅合金組分和折射率最低的部分位于該子層最外側(cè) 的兩個(gè)平面。所述構(gòu)成介質(zhì)層中子層的組分和折射率漸變分布的鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金 屬及這些金屬之間合金的氮薄膜是鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的含量 沿玻璃表面法線方向上逐漸變化的薄膜，以該子層的中心平面為對(duì)稱平面，組分和折射率 在該中心平面的上下兩側(cè)成對(duì)稱分布，鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的 組分和折射率最高的部分位于該子層的中心平面，鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬 之間合金的組分和折射率最低的部分位于該子層最外側(cè)的兩個(gè)平面。 為了提高低輻射玻璃的可靠性和壽命，在銀層的上下兩側(cè)或單側(cè)設(shè)置保護(hù)層兼附 著力強(qiáng)化層，該層采用鈦、鋯、鉿、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、鎢、鎳、鈷等金屬薄膜或這些金屬之間的 合金薄膜，也可采用不銹鋼薄膜，其厚度小于3納米。
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所述的以硅為主的硅合金薄膜包括硅與銅、銀、鎂、鋁、鈦、鋯、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、 鎢、錳、鉻、鐵、鈷、鎳等金屬組成的二元合金，也包括硅與上述金屬之間構(gòu)成的多元合金；硅 合金氧薄膜包括硅與銅、銀、鎂、鋁、鈦、鋯、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、鎢、錳、鉻、鐵、鈷、鎳金屬組成 的二元合金氧薄膜，也包括硅與上述金屬之間構(gòu)成的多元合金氧薄膜；硅合金氮薄膜包括 硅與銅、銀、鎂、鋁、鈦、鋯、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、鴇、錳、鉻、鐵、鈷、鎳金屬組成的二元合金氮薄 膜，也包括硅與上述金屬之間構(gòu)成的多元合金氮薄膜；硅合金氧氮薄膜包括硅與銅、銀、鎂、 鋁、鈦、鋯、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、鴇、錳、鉻、鐵、鈷、鎳金屬組成的二元合金氧氮薄膜，也包括硅 與上述金屬之間構(gòu)成的多元合金氧氮薄膜。 本發(fā)明中，介質(zhì)層采用子層結(jié)構(gòu)，并且每個(gè)子層中采用組分漸變結(jié)構(gòu)，是為了滿足 大規(guī)模量產(chǎn)的需要，其性能與折射率均勻分布的情況差別很小。組分均勻分布是漸變分布 的一個(gè)特例。采用子層結(jié)構(gòu)和子層中組分漸變結(jié)構(gòu)后，完全可以采用標(biāo)準(zhǔn)的磁控反應(yīng)濺射 方法進(jìn)行大規(guī)模制造。 附著力強(qiáng)化層同時(shí)還具有對(duì)銀層的保護(hù)功能，防止硅氧介質(zhì)層沉積過程中銀層被 氧化。 本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)及突出性效果本發(fā)明所提供的低輻射玻 璃中，介質(zhì)層的折射率可以在1. 5到4之間任意調(diào)整，大大增加了結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的靈活性；這些 薄膜致密，強(qiáng)度高，大大提高了低輻射玻璃的性能穩(wěn)定性；硅氧薄膜沉積速率高，可以大大 提高生產(chǎn)率，降低成本。 與已有的低輻射玻璃相比，穩(wěn)定性大大提高，可在空氣中長(zhǎng)期存放。由于不存在氧 化問題，封成中空結(jié)構(gòu)后，不怕弱呼吸作用，即使氧進(jìn)入中空玻璃中，性能也不會(huì)降低，更不 會(huì)出現(xiàn)薄膜脫離現(xiàn)象。這些為大批量生產(chǎn)和廣泛應(yīng)用提供了很好的前提條件。本發(fā)明完全 克服了已有各類低輻射玻璃的缺點(diǎn)，可以使低輻射玻璃的應(yīng)用得到極大的推廣，對(duì)建筑節(jié) 能的發(fā)展起到很好的推動(dòng)作用。


圖1為本發(fā)明提供的單銀層結(jié)構(gòu)低輻射玻璃結(jié)構(gòu)示意圖。該低輻射玻璃依次包括 玻璃板10、設(shè)置在襯底上第1介質(zhì)層11、銀層12、第2介質(zhì)層13。 圖2為本發(fā)明提供的具有保護(hù)層兼界面改善層的單銀層結(jié)構(gòu)低輻射玻璃結(jié)構(gòu)示 意圖。該低輻射玻璃依次包括玻璃板10、設(shè)置在襯底上第1介質(zhì)層11、保護(hù)層兼界面改善 層14、銀層12、保護(hù)層兼界面改善層15、第2介質(zhì)層13。 圖3為本發(fā)明提供的雙銀結(jié)構(gòu)低輻射玻璃結(jié)構(gòu)示意圖。該低輻射玻璃依次包括玻 璃板20、設(shè)置在襯底上第1介質(zhì)層21、第1銀層22、第2介質(zhì)層23、第2銀層24、第3介質(zhì) 層25。 圖4為本發(fā)明提供的具有保護(hù)層兼界面改善層的雙銀結(jié)構(gòu)低輻射玻璃結(jié)構(gòu)示意 圖。該低輻射玻璃依次包括玻璃板20、設(shè)置在襯底上第1層介質(zhì)21、保護(hù)層兼界面改善層 26、第1銀層22、保護(hù)層兼界面改善層27、第2介質(zhì)層23、保護(hù)層兼界面改善層28、第2銀 層24、保護(hù)層兼界面改善層29、第3介質(zhì)層25。 圖5為本發(fā)明提供的單銀和雙銀低輻射玻璃中折射率漸變介質(zhì)層的結(jié)構(gòu)示意圖。 介質(zhì)層由若干子層構(gòu)成，K代表折射率最高的部位，N2代表折射率最低的部位。
具體實(shí)施例方式
下面通過幾個(gè)具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的實(shí)施做進(jìn)一步的說明。 實(shí)施例1 :單銀層結(jié)構(gòu)低輻射玻璃，其結(jié)構(gòu)依次為玻璃板、45納米厚的第1介質(zhì) 層、10納米厚的銀層、54納米厚的第2層介質(zhì)層。介質(zhì)層采用硅氧薄膜，第1介質(zhì)層采用3 個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折射率控制在2. 3，硅組分最低的部位，折射率 控制在1.5 ;第2介質(zhì)層也采用3個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折射率控制在 2. 1，硅組分最低的部位，折射率控制在1.5。該低輻射玻璃的可見光透過率超過85%，陽(yáng)光 透過率超過65% ，輻射系數(shù)小于0. 05。 實(shí)施例2 :單銀層結(jié)構(gòu)低輻射玻璃，其結(jié)構(gòu)依次為玻璃板、39納米厚的第1介質(zhì) 層、2納米厚的鈦保護(hù)層兼界面改善層、10納米厚的銀層、2納米厚的鈦保護(hù)層兼界面改善 層、51納米厚的第2介質(zhì)層。介質(zhì)層采用硅鋁氧薄膜，硅和鋁原子數(shù)比為IO : l，第l介質(zhì) 層采用3個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅鋁組分高的部位，折射率控制在2.3，硅鋁組分最低的 部位，折射率控制在1. 5 ;第2介質(zhì)層也采用3個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅鋁組分最高的部 位，折射率控制在2. 3，硅鋁組分最低的部位，折射率控制在1. 5。該低輻射玻璃的可見光透 過率超過85% ，陽(yáng)光透過率超過65% ，輻射系數(shù)小于0. 07。 實(shí)施例3 :單銀層結(jié)構(gòu)低輻射玻璃，其結(jié)構(gòu)依次為玻璃板、36納米厚的第1介質(zhì) 層、10納米厚的銀層、45納米厚的第2層介質(zhì)層。介質(zhì)層采用硅氮薄膜，第1介質(zhì)層采用3 個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折射率控制在2. 6，硅組分最低的部位，折射率 控制在2. 0 ;第2介質(zhì)層也采用3個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折射率控制在 2. 3，硅組分最低的部位，折射率控制在2. 0。該低輻射玻璃的可見光透過率超過85%，陽(yáng)光 透過率超過65% ，輻射系數(shù)小于0. 05。 實(shí)施例4 :單銀層結(jié)構(gòu)低輻射玻璃，其結(jié)構(gòu)依次為玻璃板、3納米厚的第1介質(zhì) 層、10納米厚的銀層、15納米厚的第2介質(zhì)層。第1介質(zhì)層只有一個(gè)子層，為氧化鋅薄膜， 第2介質(zhì)層采用2個(gè)子層，分別是8納米后的氧化鋅和7納米厚的硅，該低輻射玻璃的可見 光透過率超過75% ，陽(yáng)光透過率超過50% ，輻射系數(shù)小于0. 05。 實(shí)施例5 :單銀層結(jié)構(gòu)低輻射玻璃，其結(jié)構(gòu)依次為玻璃板、5納米厚的第1介質(zhì) 層、10納米厚的銀層、25納米厚的第2介質(zhì)層。第1介質(zhì)層只有1個(gè)子層，采用氮化鉿薄 膜，第1介質(zhì)層采用2個(gè)子層，分別5納米厚的組分漸變的硅氮薄膜和20納米厚的氮化硅 薄膜，其中組分漸變的硅氮薄膜中，折射率最高的部位，折射率控制在2. 8，折射率最低的部 位，折射率控制在2. 0。該低輻射玻璃的可見光透過率超過80%，陽(yáng)光透過率超過為60%， 輻射系數(shù)小于O. 07。 實(shí)施例6 :單銀層結(jié)構(gòu)低輻射玻璃，其結(jié)構(gòu)依次為玻璃板、42納米厚的第1介質(zhì) 層、10納米厚的銀層、51納米厚的第2層介質(zhì)層。介質(zhì)層采用硅氧氮薄膜，第1介質(zhì)層采用 3個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折射率控制在2. 4，硅組分最低的部位，折射 率控制在1.6 ;第2介質(zhì)層也采用3個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折射率控制 在2. l，硅組分最低的部位，折射率控制在1. 6 ;該低輻射玻璃的可見光透過率超過85%，陽(yáng) 光透過率超過65% ，輻射系數(shù)小于0. 05。
實(shí)施例7 :雙銀結(jié)構(gòu)低輻射玻璃，其結(jié)構(gòu)依次為玻璃板、30納米厚第1介質(zhì)層、10納米厚的第1銀層、78納米厚的第2介質(zhì)層、10納米厚的第2銀層、39納米厚的第3介質(zhì) 層。介質(zhì)層采用硅氧薄膜，第1介質(zhì)層采用3個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折 射率控制在2. 4，硅組分最低的部位，折射率控制在1. 5 ;第2介質(zhì)層采用6個(gè)子層，各子層 結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折射率控制在2. 1，硅組分最低的部位，折射率控制在1.5 ;第3 介質(zhì)層采用3個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折射率控制在2. l，硅組分最低的 部位，折射率控制在1. 5。該低輻射玻璃的可見光透過率超過80%，紅外透過率低于35%， 輻射系數(shù)小于O. 07。 實(shí)施例8 :雙銀結(jié)構(gòu)低輻射玻璃，其結(jié)構(gòu)依次為玻璃板、30納米厚第1介質(zhì)層、2 納米厚的鈦保護(hù)層兼界面改善層，10納米厚的第1銀層、2納米厚的鈦保護(hù)層兼界面改善 層，78納米厚的第2介質(zhì)層、2納米厚的鈦保護(hù)層兼界面改善層，10納米厚的第2銀層、2納 米厚的鈦保護(hù)層兼界面改善層，39納米厚的第3介質(zhì)層。介質(zhì)層采用硅氧薄膜，第l介質(zhì)層 采用3個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折射率控制在2. 4，硅組分最低的部位， 折射率控制在1. 5 ;第2介質(zhì)層采用6個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu)相同，硅組分高的部位，折射率控 制在2. l，硅組分最低的部位，折射率控制在1. 5 ;第3介質(zhì)層也采用3個(gè)子層，各子層結(jié)構(gòu) 相同，硅組分高的部位，折射率控制在2. l，硅組分最低的部位，折射率控制在1. 5。該低輻 射玻璃的可見光透過率超過80%，紅外透過率低于35%，輻射系數(shù)小于0. 07。
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權(quán)利要求
低輻射玻璃，具有單銀層結(jié)構(gòu)，其基本結(jié)構(gòu)中，由下而上依次包括玻璃板10、第1介質(zhì)層11、銀層12、第2介質(zhì)層13，其特征在于所述的各介質(zhì)層由1至10個(gè)子層組成，構(gòu)成子層的材料包括氧化鋅薄膜、氧化錫薄膜、氧化銦錫薄膜、硅薄膜、硅和其它金屬組成的以硅為主的硅合金薄膜、氧化硅薄膜、氧化硅合金薄膜、氮化硅薄膜、氮化硅合金薄膜等，構(gòu)成子層的材料還包括鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的氧化物和氮化物薄膜，構(gòu)成子層的材料還包括沿玻璃表面法線方向上組分和折射率漸變分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜，構(gòu)成子層的材料還包括沿玻璃表面法線方向上組分和折射率漸變分布的鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的氮薄膜；構(gòu)成介質(zhì)層的各個(gè)子層的薄膜可以相同，也可以不同，但至少有一個(gè)子層是由硅薄膜和硅合金薄膜中的一種構(gòu)成，或者由沿玻璃表面法線方向上組分和折射率漸變分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜中的一種構(gòu)成，或者由沿玻璃表面法線方向上組分和折射率漸變分布的鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的氮薄膜中的一種構(gòu)成。
2. 低輻射玻璃，具有雙銀層結(jié)構(gòu)，其基本結(jié)構(gòu)中，由下而上依次包括玻璃板20、第l介 質(zhì)層21、第1銀層22、第2介質(zhì)層23、第2銀層24、第3介質(zhì)層25，其特征在于所述的各 介質(zhì)層由1至10個(gè)子層組成，構(gòu)成子層的材料包括氧化鋅薄膜、氧化錫薄膜、氧化銦錫薄 膜、硅薄膜、硅和其它金屬組成的以硅為主的硅合金薄膜、氧化硅薄膜、氧化硅合金薄膜、氮化硅薄膜、氮化硅合金薄膜等，構(gòu)成子層的材料還包括鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金 屬之間合金的氧化物和氮化物薄膜，構(gòu)成子層的材料還包括沿玻璃表面法線方向上組分和 折射率漸變分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金 氧氮薄膜，構(gòu)成子層的材料還包括沿玻璃表面法線方向上組分和折射率漸變分布的鋁、鈦、 鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的氮薄膜；構(gòu)成介質(zhì)層的各個(gè)子層的薄膜可以相 同，也可以不同，但至少有一個(gè)子層是由硅薄膜和硅合金薄膜中的一種構(gòu)成，或者由沿玻璃 表面法線方向上組分和折射率漸變分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄 膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜中的一種構(gòu)成，或者由沿玻璃表面法線方向上組分和折射 率漸變分布的鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的氮薄膜中的一種構(gòu)成。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1和2所述的低輻射玻璃，其特征在于所述構(gòu)成介質(zhì)層中子層的組 分和折射率漸變分布的硅氧薄膜、硅氮薄膜、硅氧氮薄膜等是硅含量沿玻璃表面法線方向 上逐漸變化的薄膜，以該子層的中心平面為對(duì)稱平面，組分和折射率在該中心平面的上下 兩側(cè)成對(duì)稱分布，硅組分和折射率最高的部分位于該子層的中心平面，硅組分和折射率最 低的部分位于該子層最外側(cè)的兩個(gè)平面；所述構(gòu)成介質(zhì)層中子層的組分和折射率漸變分布 的硅合金氧薄膜、硅合金氮薄膜、硅合金氧氮薄膜等是硅合金含量沿玻璃表面法線方向上 逐漸變化的薄膜，以該子層的中心平面為對(duì)稱平面，組分和折射率在該中心平面的上下兩 側(cè)成對(duì)稱分布，硅合金組分和折射率最高的部分位于該子層的中心平面，硅合金組分和折 射率最低的部分位于該子層最外側(cè)的兩個(gè)平面；所述構(gòu)成介質(zhì)層中子層的組分和折射率漸 變分布的鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的氮薄膜是鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭 等金屬及這些金屬之間合金的含量沿玻璃表面法線方向上逐漸變化的薄膜，以該子層的中 心平面為對(duì)稱平面，組分和折射率在該中心平面的上下兩側(cè)成對(duì)稱分布，鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、 鉭等金屬及這些金屬之間合金的組分和折射率最高的部分位于該子層的中心平面，鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬及這些金屬之間合金的組分和折射率最低的部分位于該子層最外側(cè)的 兩個(gè)平面。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1和2所述的低輻射玻璃，其特征在于在銀層的上下兩側(cè)或單側(cè)設(shè) 置保護(hù)層兼附著力強(qiáng)化層，該層采用鈦、鋯、鉿、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、鎢、鎳、鈷等金屬薄膜或這些金屬之間的合金薄膜，也可采用不銹鋼薄膜，其厚度小于3納米。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1和2所述的低輻射玻璃，其特征在于所述的以硅為主的硅合金薄膜包括硅與銅、銀、鎂、鋁、鈦、鋯、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、鎢、錳、鉻、鐵、鈷、鎳等金屬組成的二元合金，也包括硅與上述金屬之間構(gòu)成的多元合金；硅合金氧薄膜包括硅與銅、銀、鎂、鋁、鈦、 鋯、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、鴇、錳、鉻、鐵、鈷、鎳金屬組成的二元合金氧薄膜，也包括硅與上述金 屬之間構(gòu)成的多元合金氧薄膜；硅合金氮薄膜包括硅與銅、銀、鎂、鋁、鈦、鋯、釩、鈮、鉭、鉻、 鉬、鎢、錳、鉻、鐵、鈷、鎳金屬組成的二元合金氮薄膜，也包括硅與上述金屬之間構(gòu)成的多元 合金氮薄膜；硅合金氧氮薄膜包括硅與銅、銀、鎂、鋁、鈦、鋯、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、鎢、錳、鉻、 鐵、鈷、鎳金屬組成的二元合金氧氮薄膜，也包括硅與上述金屬之間構(gòu)成的多元合金氧氮薄 膜。
全文摘要
離線鍍膜低輻射玻璃，屬于節(jié)能技術(shù)領(lǐng)域，基本結(jié)構(gòu)包括玻璃基底、介質(zhì)層和銀層。其技術(shù)特征是，介質(zhì)層包括多個(gè)子層，其中至少有一個(gè)子層是由硅或硅合金薄膜構(gòu)成，或者由組分漸變的硅氧、硅氮、硅氧氮、硅合金氧、硅合金氮、硅合金氧氮等薄膜構(gòu)成，或者由組分漸變的鋁、鈦、鋯、鉿、鈮、鉭等金屬或它們之間合金的氮薄膜構(gòu)成。采用本發(fā)明的低輻射玻璃，不僅性能穩(wěn)定，可靠性高，而且生產(chǎn)效率高，可大大降低成本，有利于大規(guī)模推廣應(yīng)用。
文檔編號(hào)C03C17/36GK101708961SQ20091023853
公開日2010年5月19日 申請(qǐng)日期2009年12月1日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月1日
發(fā)明者李德杰 申請(qǐng)人:李德杰