一種晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]晶圓在傳統(tǒng)濕法處理中有兩種處理方式，一種是在晶圓兩面都接觸化學(xué)品的槽式浸泡，一種是單面接觸化學(xué)品的旋轉(zhuǎn)式噴淋。兩種方式在不同類型襯底制程中都有應(yīng)用，其中，傳統(tǒng)中單面接觸化學(xué)品的旋轉(zhuǎn)式噴淋的濕法處理中，化學(xué)品或清洗液以柱狀直接噴淋方式噴射在晶圓表面，形成化學(xué)接觸來完成濕法處理，這種方法會導(dǎo)致液體噴淋速度過快，會對晶圓表面圖形形成巨大沖擊，破壞圖形；液體在經(jīng)過晶圓邊緣之后會有殘留，導(dǎo)致處理面的背面沾染液體，破壞晶圓。
[0003]因此，現(xiàn)有技術(shù)中采用的濕法處理存在容易對晶圓造成破壞的技術(shù)問題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型通過提供一種晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中采用的濕法處理裝置存在容易對晶圓造成破壞的技術(shù)問題，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了能夠保障晶圓完整性的技術(shù)效果O
[0005]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案如下:
[0006]—種晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置，包括夾持晶圓的水平夾具、獨(dú)立設(shè)置于水平夾具上方的高壓噴霧噴淋頭、在所述水平夾具下方且垂直所述水平夾具的氮?dú)馔夤艿?，高壓噴霧噴淋頭用于向所夾持晶圓噴淋化學(xué)品，所述水平夾具以所述氮?dú)馔夤艿罏檩S進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述水平夾具包括夾持托底、在夾持托底上表面邊緣處的凸起卡銷，所述凸起卡銷包括環(huán)形凸臺、均勻設(shè)置在環(huán)形凸臺上的多個嚙齒盤，所述環(huán)形凸臺、所述夾持托底的上表面與所夾持晶圓的背面形成腔室，所述腔室與所述氮?dú)馔夤艿肋B通。
[0007]進(jìn)一步地，所述高壓噴霧噴淋頭獨(dú)立設(shè)置于所述水平夾具偏向側(cè)邊的上方，所述高壓噴霧噴淋頭上設(shè)置多個噴淋孔。
[0008]進(jìn)一步地，所述多個嚙齒盤均連接可聯(lián)動驅(qū)動裝置。
[0009]本實(shí)用新型實(shí)施例中提供的一個或多個技術(shù)方案，至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)占.V.
[0010]由于采用在該晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置中設(shè)置有夾持晶圓的水平夾具，獨(dú)立設(shè)置于水平夾具上方的高壓噴霧噴淋頭，在水平夾具下方垂直該水平夾具的氮?dú)馔夤艿?，其中，該水平夾具可圍繞通氣管道旋轉(zhuǎn)，該水平夾具包括夾持托、在夾持托底上表面邊緣的凸起卡銷，該凸起卡銷包括環(huán)形凸臺、均勻設(shè)置在環(huán)形凸臺上的多個嚙齒盤，該環(huán)形凸臺、夾持托底的上表面與夾持晶圓的背面形成腔室，該腔室與氮?dú)馔夤艿肋B通，這樣，高壓噴霧噴淋頭向該晶圓上表面噴灑化學(xué)品，通過氮?dú)馔夤艿老蛟摼A背面通氮?dú)?，防止化學(xué)品液體沾染背面，由于高壓噴淋頭噴灑出的霧滴極小，不會對晶圓表面形成沖擊，不會破壞圖形，氮?dú)饪筛鶕?jù)噴淋頭液體流量和晶圓轉(zhuǎn)速來控制流量，吹掃背面防止背面被沾染，解決了現(xiàn)有技術(shù)中采用的濕法處理裝置存在容易對晶圓造成破壞的技術(shù)問題，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了能夠保障晶圓完整性的技術(shù)效果。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例中晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例中晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]本實(shí)用新型通過提供一種晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中采用的濕法處理裝置存在容易對晶圓造成破壞的技術(shù)問題，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了能夠保障晶圓完整性的技術(shù)效果O
[0014]為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)中采用的濕法處理裝置存在容易對晶圓造成破壞的技術(shù)問題，下面將結(jié)合說明書附圖以及具體的實(shí)施方式對上述技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的說明。
[0015]本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置，如圖1、圖2所示，包括夾持晶圓的水平夾具101、獨(dú)立設(shè)置于水平夾具101上方的高壓噴霧噴淋頭102、在水平夾具101下方且垂直該水平夾具101的氮?dú)馔夤艿?03，該高壓噴霧噴淋頭102用于向該夾持晶圓噴淋化學(xué)品，該水平夾具103以氮?dú)馔夤艿?03為軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，具體的，可以通過驅(qū)動裝置驅(qū)動該氮?dú)馔夤艿?03轉(zhuǎn)動，從而帶動該水平夾具101旋轉(zhuǎn)。該水平夾具101包括夾持托底1011、在夾持托底1011上表面邊緣的凸起卡銷，該凸起卡銷包括環(huán)形凸臺1012、均勻設(shè)置在環(huán)形凸臺1012上的多個嚙齒盤1013，該環(huán)形凸臺1012、夾持托底1011的上表面與夾持晶圓的背面形成腔室20，該腔室20與氮?dú)馔夤艿?03連通。
[0016]在具體的使用過程中，晶圓放置于該水平夾具101上，并通過多個嚙齒盤1013進(jìn)行卡合，具體的，該多個嚙齒盤連接有聯(lián)動驅(qū)動裝置，能夠控制多個嚙齒盤同時旋轉(zhuǎn)一定角度夾持住晶圓邊緣，在放置好晶圓之后，該高壓噴霧噴淋頭102獨(dú)立設(shè)置在水平夾具偏向一側(cè)的上方，接著，該高壓噴霧噴淋頭102開始噴灑化學(xué)品，同時控制該水平夾具101以氮?dú)馔夤艿?03為軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，這樣，能夠使得高壓噴霧噴淋頭102在該晶圓上均勻噴灑化學(xué)品，同時，可以調(diào)整高壓噴霧噴淋頭102的高度等。然后，根據(jù)晶圓旋轉(zhuǎn)速度以及高壓噴霧噴淋頭102噴淋液體的流量控制氮?dú)馔ㄈ氲牧髁浚@樣，氮?dú)怆S著氮?dú)馔夤艿?03通入腔室20內(nèi)，通過吹掃晶圓背面防止液體沾染晶圓背面。
[0017]上述所采用的高壓噴霧噴淋頭102的噴淋液滴極小，不會對晶圓表面圖形形成沖擊，因而不會破壞圖形。該高壓噴霧噴淋頭102上設(shè)置有多個噴淋孔，該噴淋孔的直徑小于預(yù)設(shè)直徑，這樣才能使得噴出的液滴形成霧滴。
[0018]通過采用上述濕法處理裝置處理的晶圓，不會對晶圓造成破壞。
[0019]盡管已描述了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實(shí)施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實(shí)施例以及落入本實(shí)用新型范圍的所有變更和修改。
[0020]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置，其特征在于，包括夾持晶圓的水平夾具、獨(dú)立設(shè)置于水平夾具上方的高壓噴霧噴淋頭、在所述水平夾具下方且垂直所述水平夾具的氮?dú)馔夤艿?，高壓噴霧噴淋頭用于向所夾持晶圓噴淋化學(xué)品，所述水平夾具以所述氮?dú)馔夤艿罏檩S進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述水平夾具包括夾持托底、在夾持托底上表面邊緣處的凸起卡銷，所述凸起卡銷包括環(huán)形凸臺、均勻設(shè)置在環(huán)形凸臺上的多個嚙齒盤，所述環(huán)形凸臺、所述夾持托底的上表面與所夾持晶圓的背面形成腔室，所述腔室與所述氮?dú)馔夤艿肋B通。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置，其特征在于，所述高壓噴霧噴淋頭獨(dú)立設(shè)置于所述水平夾具偏向側(cè)邊的上方，所述高壓噴霧噴淋頭上設(shè)置多個噴淋孔。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置，其特征在于，所述多個嚙齒盤均連接可聯(lián)動驅(qū)動裝置。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有技術(shù)中采用的濕法處理裝置存在容易對晶圓造成破壞的技術(shù)問題，通過提供一種晶圓旋轉(zhuǎn)濕法處理裝置，包括夾持晶圓的水平夾具、獨(dú)立設(shè)置于水平夾具上方的高壓噴霧噴淋頭、在所述水平夾具下方且垂直所述水平夾具的氮?dú)馔夤艿溃邏簢婌F噴淋頭用于向所夾持晶圓噴淋化學(xué)品，所述水平夾具以所述氮?dú)馔夤艿罏檩S進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述水平夾具包括夾持托底、在夾持托底上表面邊緣處的凸起卡銷，所述凸起卡銷包括環(huán)形凸臺、均勻設(shè)置在環(huán)形凸臺上的多個嚙齒盤，所述環(huán)形凸臺、所述夾持托底的上表面與所夾持晶圓的背面形成腔室，所述腔室與所述氮?dú)馔夤艿肋B通，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了能夠保障晶圓完整性的技術(shù)效果。
【IPC分類】H01L21/67
【公開號】CN204857677
【申請?zhí)枴緾N201520559702
【發(fā)明人】王守建
【申請人】成都嘉石科技有限公司
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2015年7月30日