在第一組件和第二組件之間并且與之流體連通，并且與含氧氣體入口流體連通。在至少一 個實施方案中，用于NH 3氧化的小孔分子篩是Cu負載的CHA骨架型小孔分子篩，例如Cu負載 的SAP0-34。
[0089] 在本發(fā)明的另一實施方案中，用于減少氨(NH3)排放的方法包括:將含氧氣體引入 具有NH3和λ〈1的排氣中以提供氧化的氣流;和使氧化的氣流暴露于NH 3氧化催化劑(包括負 載至少一種過渡金屬的至少一種小孔分子篩）以將NH3的至少一部分選擇性氧化成N 2。在本 發(fā)明的另一實施方案中，該方法還在引入含氧氣體的步驟上游包括以下步驟:將富燃排氣 暴露于用于轉化氮氧化物(N0X)、烴(HC)和一氧化碳(C0)的三效催化劑以產生具有順3和λ〈1 的氣流?？梢詫⒑鯕怏w引入以產生具有至少約1:1，優(yōu)選地從約2:1至約1:1的0 2:ΝΗ3比的 氧化的氣流。在至少一個實施方案中，含氧氣體包含至少0.1 %氧氣，例如為環(huán)境空氣。優(yōu)選 地當富燃排氣處于至少約350°C，優(yōu)選地在約400-650°C范圍內的溫度時，進行暴露步驟。
[0090] TWC優(yōu)選地包括負載在載體材料上的單層或多層活性催化劑材料（即，鉑族金屬 (PGM)或非PGM)，或由其組成，其可以或可以不具有涂覆整料形式或者擠出形式的用于增強 比催化劑活性(例如H 2S抑制、N0X存儲、HC存儲）的另外添加劑。 實施例
[0091 ]實施例1:頂層中具有Pd的ASC催化劑的制備
[0092] 用第一氧化催化劑涂覆流通式蜂窩芯（4.66英寸\3.0英寸，400〇?8丨，411^1壁厚 度）以形成底層，并且隨后用第二氧化催化劑/SCR催化劑涂覆以形成底層之上的頂層。 [0093]底層的催化劑如下制備:將研磨的γ氧化鋁載體涂層添加至合適的容器中。γ氧 化鋁的d50被測定為約3.2-4.Ομπι。使用高剪切混合器將去離子水混入載體涂層中，并且將 琥珀酸添加至載體涂層以形成凝膠。將各種量的硝酸鉑和任選硝酸鈀添加至凝膠中，并且 然后將材料混合以形成漿料。將漿料施加至蜂窩芯作為底部催化劑層，并且干燥和煅燒該 涂覆芯。樣品中的Pt和Pd的各種量在表1中示出。
[0094]頂層的催化劑如下制備:將醋酸銅溶液與SAP0-34混合以產生具有約2.5重量％Cu 的催化劑。單獨地，Pd硝酸鹽和琥珀酸在去離子水中以1.1琥珀酸/Pd重量比混合以制備始 潤溶液。將此溶液通過始潤法添加至γ氧化鋁載體，目標是超過始潤點5%的溶液量以產生 濕糊劑。將該糊劑干燥、研磨并且在靜態(tài)烘箱中使用3°C/分鐘的升溫速率在500°C下燒2小 時。
[0095]單獨地，在去離子水中形成氧化鋁的分散體。將干燥的Cu/SAP0-34添加至分所述 散體，隨后添加干燥的Pd/氧化鋁。將所得的載體涂層施加至蜂窩芯作為頂部催化劑層，并 且干燥和煅燒該涂覆芯。頂部載體涂層具有約2.6-2.8 8八113的負載量，包括約0.358八113的 氧化鋁和約2g/in 3的Cu/SAP0-34。底部載體涂層具有約0.7g/in3的負載量。
[0096]表 1
[0097]
[0098] 實施例2:催化劑性能
[0099]針對NH3轉化率、⑶轉化率和HC轉化率來評估催化劑樣品，所述催化劑樣品具有： 頂層，其含有釩基SCR催化劑和Pd氧化催化劑的混合物;和底層，其含有Pt ΑΜ0Χ催化劑。將 這些結果與類似但頂層中無 Pd氧化催化劑的催化劑比較進行。與頂層中無 Pd的催化劑相 比，頂層中具有Pd的催化劑示出顯著更佳的C0和HC轉化性能（圖3和圖4)。令人驚奇的是，制 備有Pd頂層和沒有Pd頂層的催化劑示出在NH 3轉化率和N0X輸出方面極類似的性能（圖5)。 [0100]針對就在廣泛溫度范圍內nh 3轉化以及就co轉化的n2選擇性來評估催化劑樣品，所 述催化劑樣品具有:頂層，其含有Cu/SAP0-34 SCR催化劑和Pd氧化催化劑的混合物;和底 層，其含有Pt ΑΜ0Χ催化劑。將這些結果與類似但頂層中無 Pd氧化催化劑的催化劑進行比 較。與頂層中無 Pd的催化劑相比，頂層中具有Pd的催化劑示出顯著較佳的C0轉化性能（圖 8)。令人驚奇的是，制備有Pd頂層和沒有Pd頂層的催化劑示出在就NH 3轉化的N2選擇性方面 極類似的性能（圖7)。
【主權項】
1. 用于處理排氣的催化劑制品，所述催化劑制品包含基材，所述基材具有設置在所述 基材之上或之內的第一催化劑層和涂覆在所述第一催化劑層上的第二催化劑層;其中所述 第一催化劑層包含第一氧化催化劑，并且所述第二催化劑層含有以下（i)和（ii)的混合物： (i)由負載的鈀組成的第二氧化催化劑和（i i)用于選擇性還原NOx和/或存儲NH3的催化劑； 并且其中所述第一氧化催化劑和所述第二氧化催化劑是不同的配制物。2. 用于處理排氣的催化劑制品，所述催化劑制品包含： a. 基材； b. 第一氧化催化劑層，所述第一氧化催化劑層設置在所述基材上和/或內； c .第二催化劑層，所述第二催化劑層涂覆或設置在所述第一催化劑層之上，其中所述 第二層含有用于選擇性還原N0X和/或存儲NH3的催化劑;和 d.第三催化劑層，所述第三催化劑層涂覆或設置在所述第二催化劑層之上，其中所述 第三催化劑層包含由負載的Pd組成的第二氧化催化劑； 其中所述第一氧化催化劑和所述第二氧化催化劑是不同的配制物。3. 用于處理排氣的催化劑制品，所述催化劑制品包含： a. 基材； b. 第一催化劑層，所述第一催化劑層包含設置在所述基材上和/或內的第一氧化催化 劑； c .第二催化劑層，所述第二催化劑層涂覆或設置在所述第一催化劑層之上，其中所述 第二層含有用于選擇性還原N0X和/或存儲NH3的催化劑;和 d.第三催化劑層，所述第三催化劑層涂覆或設置在所述第一催化劑層和第二催化劑層 的上游，其中所述第三催化劑層包含由負載的Pd組成的第二氧化催化劑； 其中所述第一氧化催化劑和所述第二氧化催化劑是不同的配制物。4. 權利要求2或權利要求3所述的催化劑制品，其中所述第三催化劑層基本上不含釕、 錸、銠、銀、鋨、銥、鉑、金、堿金屬和堿土金屬以及過渡金屬，除了用于鈀的金屬氧化物顆粒 載體的形式的過渡金屬之外。5. 前述權利要求中任一項所述的催化劑制品，其中所述第二催化劑層基本上不含Ag、 Au、Pt、Rh、Ru、Ir和Os。6. 前述權利要求中任一項所述的催化劑制品，其中所述第一氧化催化劑是負載的貴金 屬。7. 前述權利要求中任一項所述的催化劑制品，其中所述第一氧化催化劑是負載在金屬 氧化物顆粒上的Pt或負載在金屬氧化物顆粒上的Pt和Pd的混合物。8. 前述權利要求中任一項所述的催化劑制品，其中用于選擇性還原N0X和/或存儲NH3的 所述催化劑是負載有Fe和/或Cu的沸石。9. 前述權利要求中任一項所述的催化劑制品，其中所述基材是具有約50-65%的壁孔 隙率的流通式蜂窩。10. 前述權利要求中任一項所述的催化劑制品，其中所述第一催化劑層的大部分設置 在所述基材壁內，并且所述第二催化劑層的大部分設置在所述基材壁的表面上。11. 用于處理排氣的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括： a.排氣歧管； b. 子系統(tǒng)，其用于將氮基還原劑引入所述排氣中； c. SCR催化劑;和 d. 前述權利要求中任一項中定義的催化劑制品； 其中組件(a)-(d)串聯(lián)地流體連通，并且分別處于從上游到下游的連續(xù)順序;并且其中 所述系統(tǒng)在所述基材與所述排氣歧管之間不含氧化催化劑。12. 用于處理排氣的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括： a. 第一氧化催化劑，其用于產生約4:1至約1:3的N0/N02比； b. 子系統(tǒng)，其用于將氮基還原劑引入所述排氣中； c. SCR催化劑； d. 用于將燃料引入所述排氣中的注射器； e. 第二流通式整料，其具有設置在所述基材上或內的第二催化劑層和涂覆在第二催化 劑層的至少一部分之上的第一催化劑層;其中所述第一催化劑層含有以下（i)和（ii)的混 合物：（i)由第一載體上的鈀組成的第一氧化催化劑和（ii)用于選擇性還原N0 X和/或存儲 NH3的催化劑，并且所述第二催化劑層包含第二氧化催化劑;其中所述基材與所述排氣歧管 流體連通;和 f. 柴油機顆粒過濾器； 其中組件(a)-(e)分別處于從上游到下游的連續(xù)順序。13. 用于處理排氣的方法，所述方法包括使含有NH3的排氣與根據權利要求1至10中任一 項所述的催化劑制品接觸;其中所述接觸(a)將所述NH 3的至少一部分存儲在所述第二催化 劑層中；（b)使所述NH3的至少一部分氧化以形成他和/或次級N0 X;并且(c)用所述存儲的NH3 選擇性還原所述次級N0x的至少一部分以產生N2和H20。14. 權利要求13所述的方法，其中所述排氣還包含CO和/或烴;并且其中所述接觸使所 述C0和/或烴的至少一部分氧化以形成C0 2和任選的H20。15. 權利要求13或權利要求14所述的方法，還包括以下步驟： d. 將燃料引入所述催化劑制品上游的所述排氣中； e. 使所述燃料與所述催化劑制品接觸以氧化所述燃料，并且產生加熱的排氣;和 f. 使用所述加熱的排氣來再生下游的顆粒過濾器。
【專利摘要】本發(fā)明提供氨逸出(ammonia？slip)催化劑制品，所述氨逸出催化劑制品具有：在頂層或上游層中的用于對一氧化碳和/或烴進行氧化的負載的鈀；在所述頂層中或單獨的下層或下游層中的SCR催化劑；以及在底層中的氨氧化催化劑。還提供用于使用所述催化劑制品來處理排氣的方法，其中所述處理包括降低氨和任選一氧化碳和/或烴在所述排氣中的濃度。
【IPC分類】B01J23/745, B01J23/44, B01J23/72, B01J35/04, B01J29/85, B01J37/02
【公開號】CN105555403
【申請?zhí)枴緾N201480045713
【發(fā)明人】J·M·菲杰耶科, K·道拉, E·C·威格特, J·P·考克斯, H-Y·陳, P·J·安德森
【申請人】莊信萬豐股份有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2014年7月30日
【公告號】DE102014110811A1, EP3027309A2, US20150037233, WO2015017516A2, WO2015017516A3