吸附式硅片涂布旋轉(zhuǎn)臺(tái)的制作方法
【專利摘要】一種吸附式硅片涂布旋轉(zhuǎn)臺(tái)，包括臺(tái)面，其特征在于，在所述臺(tái)面上設(shè)置有與其同心的，且呈階梯狀徑向排列的圓環(huán)臺(tái)，在所述臺(tái)面的邊緣設(shè)置有向圓心延伸的開口；在所述開口的末端設(shè)置有與最內(nèi)側(cè)的所述圓環(huán)臺(tái)等高的擋板，所述擋板的兩端與最內(nèi)側(cè)的所述圓環(huán)臺(tái)連接，在所述擋板上設(shè)置有缺口。本發(fā)明通過在臺(tái)面上設(shè)置圓環(huán)臺(tái)，解決了操作人員在放置硅片時(shí)與臺(tái)面不同心的問題，在臺(tái)面邊緣設(shè)置開口方便硅片放取；本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，不僅實(shí)現(xiàn)了可以放置不同直徑的硅片，而且成本比夾持式旋轉(zhuǎn)設(shè)備底，且不容易損壞。
【專利說明】吸附式硅片涂布旋轉(zhuǎn)臺(tái)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及硅片涂布設(shè)備，具體地說是一種吸附式硅片涂布旋轉(zhuǎn)臺(tái)。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前，硅片加工涂布工藝中涂布旋轉(zhuǎn)設(shè)備主要有兩種，一種是夾持式，它設(shè)置有夾 持裝置，可以將硅片夾持在臺(tái)面上；另一種是吸附式，它包括臺(tái)面、轉(zhuǎn)軸、馬達(dá)、真空泵和開 關(guān)，臺(tái)面設(shè)置在轉(zhuǎn)軸的頂端，在轉(zhuǎn)軸的中心軸向設(shè)置一通孔，真空泵的吸氣端連接到轉(zhuǎn)軸的 中心通孔上，馬達(dá)用于驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，臺(tái)面為圓形平面，臺(tái)面中心設(shè)置有與轉(zhuǎn)軸上的通孔相 同的通孔。吸附式設(shè)備在使用時(shí)，將硅片放在臺(tái)面上，按下開關(guān)，馬達(dá)和真空泵同時(shí)工作，硅 片被吸附在臺(tái)面上，開始轉(zhuǎn)動(dòng)，操作人員用手拿著沾有涂液的毛刷對(duì)硅片進(jìn)行涂層。
[0003] 但是，由于吸附式設(shè)備的臺(tái)面上沒有卡位裝置，而且臺(tái)面的直徑小于硅片直徑，因 此，操作人員很難將硅片放在與臺(tái)面同心的位置，如果硅片與臺(tái)面圓心偏離較大，不僅不方 便涂布，而且會(huì)造成涂布不均。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于提供一種放置硅片方便， 保證硅片與臺(tái)面同心的吸附式硅片涂布旋轉(zhuǎn)臺(tái)。
[0005] 為了解決上述問題，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：一種吸附式硅片涂布旋轉(zhuǎn)臺(tái)，包括 臺(tái)面，其特征在于，在所述臺(tái)面上設(shè)置有與其同心的，且呈階梯狀徑向排列的圓環(huán)臺(tái)，在所 述臺(tái)面的邊緣設(shè)置有向圓心延伸的開口。
[0006] 進(jìn)一步的，在所述開口的末端設(shè)置有與最內(nèi)側(cè)的所述圓環(huán)臺(tái)等高的擋板，所述擋 板的兩端與最內(nèi)側(cè)的所述圓環(huán)臺(tái)連接，在所述擋板上設(shè)置有缺口。
[0007] 優(yōu)選的，所述開口包括上下左右對(duì)稱設(shè)置的四個(gè)。
[0008] 本發(fā)明的有益效果是：它通過在臺(tái)面上設(shè)置圓環(huán)臺(tái)，解決了操作人員在放置硅片 時(shí)與臺(tái)面不同心的問題，在臺(tái)面邊緣設(shè)置開口方便硅片放??；本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，不僅實(shí)現(xiàn)了 可以放置不同直徑的硅片，而且成本比夾持式旋轉(zhuǎn)設(shè)備底，且不容易損壞。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009] 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的說明： 圖1為本發(fā)明臺(tái)面的俯視圖； 圖2為圖1中沿A-A線剖視圖。
[0010] 圖中，1臺(tái)面、11圓環(huán)臺(tái)、12開口、2擋板、21缺口。

【具體實(shí)施方式】
[0011] 如圖1和圖2所示，本發(fā)明的具體實(shí)施例包括臺(tái)面1，在所述臺(tái)面1上設(shè)置有與其 同心的，且呈階梯狀徑向排列的圓環(huán)臺(tái)11，階梯狀為從圓心向外遞增，圓環(huán)臺(tái)11的高度與 硅片的高度相同或略小于硅片高度，這樣，在涂布時(shí)，硅片邊緣也能均勻涂抹。
[0012] 為了方便取放硅片，在所述臺(tái)面1的邊緣設(shè)置有向圓心延伸的開口 12,開口 12為 半圓弧形，優(yōu)選的，所述開口 12包括上下對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)和左右對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)，這樣臺(tái) 面1就被開口 12分成四個(gè)葉片，不僅方便硅片取放，而且節(jié)省了材料，降低了成本。
[0013] 為了對(duì)硅片產(chǎn)生更大的吸附力，需要將開口 12與圓環(huán)臺(tái)11之間的縫隙減小，本實(shí) 施例中，在所述開口 12的末端設(shè)置有與最內(nèi)側(cè)的所述圓環(huán)臺(tái)11等高的擋板2,擋板2與開 口 12末端的弧形相配合，所述擋板2的兩端與最內(nèi)側(cè)的所述圓環(huán)臺(tái)11連接，為了防止硅片 與最內(nèi)側(cè)的圓環(huán)臺(tái)及擋板2形成密閉空間，在真空泵工作時(shí)造成硅片破裂，在所述擋板2上 設(shè)置有缺口 21，這樣，部分氣體可以從缺口 21通過。
[0014] 以上所述只是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在 不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也被視為本發(fā) 明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1. 一種吸附式硅片涂布旋轉(zhuǎn)臺(tái)，包括臺(tái)面，其特征在于，在所述臺(tái)面上設(shè)置有與其同心 的，且呈階梯狀徑向排列的圓環(huán)臺(tái)，在所述臺(tái)面的邊緣設(shè)置有向圓心延伸的開口。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附式硅片涂布旋轉(zhuǎn)臺(tái)，其特征在于，在所述開口的末端設(shè) 置有與最內(nèi)側(cè)的所述圓環(huán)臺(tái)等高的擋板，所述擋板的兩端與最內(nèi)側(cè)的所述圓環(huán)臺(tái)連接，在 所述擋板上設(shè)置有缺口。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的吸附式硅片涂布旋轉(zhuǎn)臺(tái)，其特征在于，所述開口包括上下 左右對(duì)稱設(shè)置的四個(gè)。
【文檔編號(hào)】B05C13/02GK104096662SQ201410350810
【公開日】2014年10月15日 申請(qǐng)日期:2014年7月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月23日
【發(fā)明者】許玉雷 申請(qǐng)人:濟(jì)南晶博電子有限公司