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連續(xù)掩膜擋板傳動(dòng)裝置的制造方法

文檔序號(hào):10363930閱讀:394來源:國(guó)知局
連續(xù)掩膜擋板傳動(dòng)裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種薄膜鍍膜用設(shè)備,特別涉及一種薄膜連續(xù)掩膜擋板傳動(dòng)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]薄膜鍍膜作業(yè)是在真空條件下利用鍍膜設(shè)備通過不同的鍍膜工藝(例如:物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積等)對(duì)工件進(jìn)行鍍膜,但現(xiàn)有薄膜鍍膜設(shè)備無法完成對(duì)膜厚變化有要求的鍍膜作業(yè)。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、鍍膜效果好的連續(xù)掩膜擋板傳動(dòng)裝置。
[0004]為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供了一種連續(xù)掩膜擋板傳動(dòng)裝置,包括電機(jī)、掩膜擋板、安裝支架、傳動(dòng)組件和底座,安裝支架內(nèi)開有貫穿上、下端面的鍍膜槽口,鍍膜槽口內(nèi)側(cè)壁上開有至少一條滑槽,掩膜擋板在所述滑槽內(nèi)移動(dòng),底座放置在鍍膜槽口下側(cè);
[0005]傳動(dòng)組件至少包括傳動(dòng)絲桿,傳動(dòng)絲桿包括螺桿和螺母,螺桿支撐在安裝支架上,螺桿的放置走向與滑槽的走向一致,螺母固定在掩膜擋板上;
[0006]電機(jī)帶動(dòng)傳動(dòng)組件的螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0007]采用這樣的結(jié)構(gòu)后,初始狀態(tài)下掩膜擋板完全遮擋待鍍膜的工件,電機(jī)驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)組件帶動(dòng)掩膜擋板移動(dòng),使工件逐步暴露在掩膜擋板外,配合外部鍍膜設(shè)備對(duì)工件持續(xù)鍍膜,進(jìn)而達(dá)到漸進(jìn)式鍍膜的目的,滿足對(duì)工件鍍膜厚度的變化要求。
[0008]本連續(xù)掩膜擋板傳動(dòng)裝置允許用戶通過手動(dòng)或自動(dòng)控制,精確控制掩膜擋板在鍍膜過程中的傳動(dòng)走位,適用于多種鍍膜機(jī)的工藝開發(fā)。
[0009]為了更好的理解本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容,以下將本連續(xù)掩膜擋板傳動(dòng)裝置簡(jiǎn)稱為本傳動(dòng)裝置。
[0010]本傳動(dòng)裝置的傳動(dòng)組件還包括真空磁流體動(dòng)密封件、聯(lián)軸器、渦輪和渦桿,螺桿一端裝有渦輪,渦輪與渦桿配合,渦桿通過聯(lián)軸器與真空磁流體動(dòng)密封件連接,真空磁流體動(dòng)密封件與電機(jī)的輸出軸連接;采用這樣的結(jié)構(gòu)后,通過真空磁流體動(dòng)密封件將電機(jī)設(shè)置在真空作業(yè)空間外,可以提高真空作業(yè)空間的使用效率;渦輪和蝸桿可以改變輸出軸的方向,便于合理布置位置,使本裝置適用于更多作業(yè)場(chǎng)所。
【附圖說明】
[0011 ]圖1是本傳動(dòng)裝置實(shí)施例的主視圖。
[0012]圖2是圖1沿A-A方向剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]如圖1至2所示
[0014]本傳動(dòng)裝置包括電機(jī)5、掩膜擋板3、安裝支架1、傳動(dòng)組件和底座2。
[0015]安裝支架I水平放置,安裝支架I內(nèi)開有貫穿上、下端面的鍍膜槽口11,鍍膜槽口 11延伸至安裝支架I的右端面,鍍膜槽口 11中部固定有支撐桿12,支撐桿12兩端分別與鍍膜槽口 11前、后側(cè)壁固定,鍍膜槽口 11的前、后側(cè)壁上分別開有左、右走向滑槽13,兩條滑槽13的位置對(duì)應(yīng)。
[0016]底座2放置在安裝支架I下側(cè),底座2上端面為放置工件6的置物平臺(tái),置物平臺(tái)對(duì)準(zhǔn)安裝支架I的鍍膜槽口 11。
[0017]掩膜擋板3為長(zhǎng)方形板體,掩膜擋板3前、后部分別伸入兩個(gè)滑槽13內(nèi),并且掩膜擋板3可以沿兩個(gè)滑槽13的走向左右往復(fù)移動(dòng)。
[0018]傳動(dòng)組件包括傳動(dòng)絲桿、真空磁流體動(dòng)密封件43、聯(lián)軸器44、渦輪45和渦桿46,傳動(dòng)絲桿包括螺桿41和螺母42,螺桿41的左端通過軸承支撐在安裝支架I左部,螺桿41的右端通過軸承支撐在安裝支架I的支撐桿12上,螺桿41可以相對(duì)安裝支架I自用自由轉(zhuǎn)動(dòng),螺桿41的放置走向與滑槽13的走向一致,螺母42與螺桿41配合,并且螺母42與掩膜擋板3下端面固定;
[0019]渦輪45安裝在螺桿41左端部,渦輪45與渦桿46配合,渦桿46通過聯(lián)軸器44與真空磁流體動(dòng)密封件43連接,真空磁流體動(dòng)密封件43與電機(jī)5的輸出軸連接。
[0020]鍍膜作業(yè)時(shí),將待鍍膜的工件6放置在底座2上,掩膜擋板3處于其行程的最右側(cè)位置,待鍍膜的工件6此時(shí)完全被掩膜擋板3遮擋,啟動(dòng)外部的鍍膜設(shè)備,本轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的電機(jī)5帶動(dòng)真空磁流體動(dòng)密封件43轉(zhuǎn)動(dòng),經(jīng)過渦輪45和渦桿46的傳動(dòng),進(jìn)而驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)絲桿的螺桿41轉(zhuǎn)動(dòng),掩膜擋板3在螺母42的帶動(dòng)下向左側(cè)緩慢移動(dòng),待鍍膜的工件6則逐步脫離掩膜擋板3的遮擋,達(dá)到漸進(jìn)式鍍膜的目的;
[0021]掩膜擋板3處于其行程的最左側(cè)位置,工件6則暴露在鍍膜設(shè)備的鍍膜范圍內(nèi),鍍膜作業(yè)完畢后,啟動(dòng)電機(jī)5反轉(zhuǎn)使掩膜擋板3回到右側(cè)的初始位置。
[0022]本傳動(dòng)裝置可以采用以下步驟進(jìn)行:
[0023]1.手動(dòng)或自動(dòng)程序精確控制電機(jī)5,控制掩膜擋板3從原始的“右側(cè)”位置向“左側(cè)”位置運(yùn)動(dòng),運(yùn)動(dòng)可以是連續(xù),可以是漸進(jìn),由手動(dòng)或自動(dòng)程序控制。
[0024]2.鍍膜工藝完成后,手動(dòng)或自動(dòng)程序控制掩膜擋板3復(fù)位到“左側(cè)”位置。
[0025]以上所述的僅是本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下,還可以作出若干變型和改進(jìn),這些也應(yīng)視為屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種連續(xù)掩膜擋板傳動(dòng)裝置,其特征是:包括電機(jī)、掩膜擋板、安裝支架、傳動(dòng)組件和底座,安裝支架內(nèi)開有貫穿上、下端面的鍍膜槽口,鍍膜槽口內(nèi)側(cè)壁上開有至少一條滑槽,掩膜擋板在所述滑槽內(nèi)移動(dòng),底座放置在鍍膜槽口下側(cè); 傳動(dòng)組件至少包括傳動(dòng)絲桿,傳動(dòng)絲桿包括螺桿和螺母,螺桿支撐在安裝支架上,螺桿的放置走向與滑槽的走向一致,螺母固定在掩膜擋板上; 電機(jī)帶動(dòng)傳動(dòng)組件的螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)掩膜擋板傳動(dòng)裝置,其特征是: 所述傳動(dòng)組件還包括真空磁流體動(dòng)密封件、聯(lián)軸器、渦輪和渦桿,螺桿一端裝有渦輪,渦輪與渦桿配合,渦桿通過聯(lián)軸器與真空磁流體動(dòng)密封件連接,真空磁流體動(dòng)密封件與電機(jī)的輸出軸連接。
【專利摘要】本實(shí)用新型給出了一種連續(xù)掩膜擋板傳動(dòng)裝置,包括電機(jī)、掩膜擋板、安裝支架、傳動(dòng)組件和底座,安裝支架內(nèi)開有貫穿上、下端面的鍍膜槽口,鍍膜槽口內(nèi)側(cè)壁上開有至少一條滑槽,掩膜擋板在所述滑槽內(nèi)移動(dòng),底座放置在鍍膜槽口下側(cè);傳動(dòng)組件至少包括傳動(dòng)絲桿,傳動(dòng)絲桿包括螺桿和螺母,螺桿支撐在安裝支架上,螺桿的放置走向與滑槽的走向一致,螺母固定在掩膜擋板上;電機(jī)帶動(dòng)傳動(dòng)組件的螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)。初始狀態(tài)下掩膜擋板完全遮擋待鍍膜的工件,電機(jī)驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)組件帶動(dòng)掩膜擋板移動(dòng),使工件逐步暴露在掩膜擋板外,配合外部鍍膜設(shè)備對(duì)工件持續(xù)鍍膜,進(jìn)而達(dá)到漸進(jìn)式鍍膜的目的,滿足對(duì)工件鍍膜厚度的變化要求。
【IPC分類】C23C14/04, C23C16/04
【公開號(hào)】CN205275688
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521142082
【發(fā)明人】郭祖華, 葛懷慶, 練菊, 朱向煒
【申請(qǐng)人】蚌埠雷諾真空技術(shù)有限公司
【公開日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2015年12月31日
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