專利名稱：連續(xù)真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空鍍膜技術(shù)，尤指一種連續(xù)真空鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
一般的真空鍍膜，是在一個(gè)固定的鍍膜空間進(jìn)行，鍍件每鍍一層膜，需要從鍍膜腔體取出，再進(jìn)行第二次鍍膜，工作效率低，成本高，污染環(huán)境嚴(yán)重。

發(fā)明內(nèi)容
為解決前述存在的問題，本發(fā)明提供一種連續(xù)真空鍍膜裝置，該裝置由若干個(gè)鍍膜腔體串接節(jié)聯(lián)構(gòu)成，每個(gè)鍍膜腔體配置有離子束清洗源、和/或過濾陰極真空鍍膜膜源、和/或磁控濺射源和分子真空泵，鍍膜腔體之間用插板閥關(guān)閉密封或開啟，節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體，兩頭各有一個(gè)裝載/卸載室和一個(gè)真空過渡室，裝載/卸載室后面分別有鍍制工件轉(zhuǎn)動架平臺，鍍制工件轉(zhuǎn)動架平臺上放置鍍制工件轉(zhuǎn)動架，鍍制工件轉(zhuǎn)動架上懸掛有鍍制工件，鍍制工件轉(zhuǎn)動架通過傳動滾軸傳送到各個(gè)鍍膜腔體，依次、連續(xù)實(shí)施不同需求的連續(xù)鍍膜后，分別從一端的裝載/卸載室取出。所述多個(gè)鍍膜腔體，每個(gè)腔體是框架箱體結(jié)構(gòu)，腔體兩頭是矩形開口，分別與矩形插板閥連接密封，以使不同腔體有不同真空度，或者兩腔體對接密封，以使對接的腔體有相同的真空度，旁邊設(shè)有分子真空泵，腔休下方有傳動滾軸，腔體底部與旋轉(zhuǎn)加偏壓裝置連接，腔體一側(cè)有過濾陰極真空鍍膜膜源接口。鍍膜腔體采用標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)。所述兩頭的裝載/卸載室和真空過渡室，其大小與鍍膜腔體匹配，并與鍍膜腔體串接貫通，由插板閥連接密封，每個(gè)真空過渡室有分子真空泵。所述旋轉(zhuǎn)加偏壓裝置，設(shè)有氣缸和電動機(jī)，電動機(jī)轉(zhuǎn)軸連接一縱向轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸頂端有機(jī)械咬合裝置，通過氣缸使旋轉(zhuǎn)加偏壓裝置升降，上升時(shí)，機(jī)械咬合裝置嵌進(jìn)鍍膜腔體內(nèi)放置的鍍制工件轉(zhuǎn)動架的槽內(nèi)嵌合，電機(jī)帶動鍍制工件轉(zhuǎn)動架在鍍膜腔體內(nèi)旋轉(zhuǎn)，實(shí)施鍍膜。所述的過濾陰極真空鍍膜膜源在每個(gè)鍍膜腔體內(nèi)設(shè)置有不同高度的過濾陰極真空鍍膜膜源，膜源粒子的方向角度，能夠調(diào)整。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于，本發(fā)明的真空鍍膜可以連續(xù)生產(chǎn)，可長時(shí)間連續(xù)鍍膜，延長了設(shè)備維護(hù)周期，從串接節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體一頭送進(jìn)被鍍件，從串接節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體另一頭便出來一件完好的鍍制品，一次能夠鍍多個(gè)鍍件，生產(chǎn)效率提高許多倍。


附圖1是本發(fā)明的主視圖；附圖2是圖1的俯視附圖3是單個(gè)鍍膜腔體的立體圖。
具體實(shí)施例方式請參閱附圖所示，本發(fā)明由由若干個(gè)鍍膜腔體6串接節(jié)聯(lián)構(gòu)成，每個(gè)鍍膜腔體6配置有離子束清洗源、和/或過濾陰極真空鍍膜膜源8、和/或磁控濺射源和分子真空泵7，鍍膜腔體6之間用插板閥3關(guān)閉密封或開啟，節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體6，兩頭各有一個(gè)裝載/卸載室4和一個(gè)真空過渡室5，裝載/卸載室4后面分別有鍍制工件轉(zhuǎn)動架平臺2，鍍制工件轉(zhuǎn)動架平臺2上放置鍍制工件轉(zhuǎn)動架1，鍍制工件轉(zhuǎn)動架1上懸掛有鍍制工件(圖中未示出)，鍍制工件轉(zhuǎn)動架1通過傳動滾軸10傳送到各個(gè)鍍膜腔體6，依次、連續(xù)實(shí)施不同需求的連續(xù)鍍膜后，分別從一端的裝載/卸載4室取出。所述多個(gè)鍍膜腔體6，每個(gè)腔體是框架箱體結(jié)構(gòu)，腔體兩頭是矩形開口 11，分別與矩形插板閥3連接密封，以使不同腔體6有不同真空度，或者兩腔體6對接密封，以使對接的腔體6有相同的真空度，旁邊設(shè)有分子真空泵7，腔休6下方有傳動滾軸10，腔體6底部與旋轉(zhuǎn)加偏壓裝置9連接，腔體6 —側(cè)有過濾陰極真空鍍膜膜源8接口 12。鍍膜腔體6采用標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)。所述兩頭的裝載/卸載室4和真空過渡室5，其大小與鍍膜腔6體匹配，并與鍍膜腔6體串接貫通，由插板閥3連接密封，每個(gè)真空過渡室5有分子真空泵7。所述旋轉(zhuǎn)加偏壓裝置9，設(shè)有氣缸和電動機(jī)，電動機(jī)轉(zhuǎn)軸連接一縱向轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸頂端有機(jī)械咬合裝置，通過氣缸使旋轉(zhuǎn)加偏壓裝置升降，上升時(shí)，機(jī)械咬合裝置嵌進(jìn)鍍膜腔體6內(nèi)放置的鍍制工件轉(zhuǎn)動架1的槽內(nèi)嵌合，電機(jī)帶動鍍制工件轉(zhuǎn)動架1在鍍膜腔體內(nèi)旋轉(zhuǎn)，實(shí)施鍍膜。所述的過濾陰極真空鍍膜膜源8在每個(gè)鍍膜腔體6內(nèi)設(shè)置有不同高度的過濾陰極真空鍍膜膜源，膜源粒子的方向角度，能夠調(diào)整。本發(fā)明的鍍膜腔體采用不銹鋼制成，設(shè)置有專用電氣控制柜。本發(fā)明的過濾陰極真空鍍膜膜源是申請人的專利技術(shù)。
權(quán)利要求
1.一種連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于該裝置由若干個(gè)鍍膜腔體串接節(jié)聯(lián)構(gòu)成，每個(gè)鍍膜腔體配置有離子束清洗源、和/或過濾陰極真空鍍膜膜源、和/或磁控濺射源和分子真空泵，鍍膜腔體之間用插板閥關(guān)閉密封或開啟，節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體，兩頭各有一個(gè)裝載/卸載室和一個(gè)真空過渡室，裝載/卸載室后面分別有鍍制工件轉(zhuǎn)動架平臺，鍍制工件轉(zhuǎn)動架平臺上放置鍍制工件轉(zhuǎn)動架，鍍制工件轉(zhuǎn)動架上懸掛有鍍制工件，鍍制工件轉(zhuǎn)動架通過傳動滾軸傳送到各個(gè)鍍膜腔體，依次、連續(xù)實(shí)施不同需求的連續(xù)鍍膜后，分別從一端的裝載/卸載室取出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述多個(gè)鍍膜腔體，每個(gè)腔體是框架箱體結(jié)構(gòu)，腔體兩頭是矩形開口，分別與矩形插板閥連接密封，或者兩腔體對接密封，旁邊設(shè)有分子真空泵，腔休下方有傳動滾軸，腔體底部與旋轉(zhuǎn)加偏壓裝置連接，腔體一側(cè)有過濾陰極真空鍍膜膜源接口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述兩頭的裝載/卸載室和真空過渡室，其大小與鍍膜腔體匹配，并與鍍膜腔體串接貫通，由插板閥連接密封，每個(gè)真空過渡室有分子真空泵。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述旋轉(zhuǎn)加偏壓裝置，設(shè)有氣缸和電動機(jī)，電動機(jī)轉(zhuǎn)軸連接一縱向轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸頂端有機(jī)械咬合裝置，通過氣缸使旋轉(zhuǎn)加偏壓裝置升降，上升時(shí)，機(jī)械咬合裝置嵌進(jìn)鍍膜腔體內(nèi)放置的鍍制工件轉(zhuǎn)動架的槽內(nèi)嵌合，電機(jī)帶動鍍制工件轉(zhuǎn)動架在鍍膜腔體內(nèi)旋轉(zhuǎn)，實(shí)施鍍膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述的過濾陰極真空鍍膜膜源在每個(gè)鍍膜腔體內(nèi)設(shè)置有不同高度的過濾陰極真空鍍膜膜源，膜源粒子的方向角度，能夠調(diào)整。
全文摘要
本發(fā)明公開一種連續(xù)真空鍍膜裝置，該裝置由若干個(gè)鍍膜腔體串接節(jié)聯(lián)構(gòu)成，每個(gè)鍍膜腔體配置有離子束清洗源、和/或過濾陰極真空鍍膜膜源、和/或磁控濺射源和分子真空泵，鍍膜腔體之間用插板閥關(guān)閉密封或開啟，節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體，兩頭各有一個(gè)裝載/卸載室和一個(gè)真空過渡室，裝載/卸載室后面分別有鍍制工件轉(zhuǎn)動架平臺，鍍制工件轉(zhuǎn)動架平臺上放置鍍制工件轉(zhuǎn)動架，鍍制工件轉(zhuǎn)動架上懸掛有鍍制工件，鍍制工件轉(zhuǎn)動架通過傳動滾軸傳送到各個(gè)鍍膜腔體，依次、連續(xù)實(shí)施不同需求的連續(xù)鍍膜后，分別從一端的裝載/卸載室取出。優(yōu)點(diǎn)在于，可長時(shí)間連續(xù)鍍膜，延長了設(shè)備維護(hù)周期，一次能夠鍍多個(gè)鍍件，生產(chǎn)效率提高許多倍。
文檔編號C23C14/56GK102560408SQ20121001820
公開日2012年7月11日 申請日期2012年1月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月20日
發(fā)明者史旭 申請人:納峰真空鍍膜(上海)有限公司