專利名稱：一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜裝置，特別是涉及一種含有氣室隔離墻，能夠用于多室連續(xù)真空鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
目前，濺射技術(shù)是真空鍍膜的主要方式，現(xiàn)有技術(shù)中，涉及多次濺射的，一般采用非連續(xù)式分次濺射，中間需要運(yùn)轉(zhuǎn)和貯存環(huán)節(jié)。中間環(huán)節(jié)不僅令制造成本提高，被鍍基材還容易在中間環(huán)節(jié)被氧化或污染，直接影響鍍膜品質(zhì)?，F(xiàn)有的真空濺射裝置，無法實(shí)現(xiàn)連續(xù)式作業(yè)，尤其是多層薄膜的制備，如果采用一次鍍一層薄膜的方法時，既浪費(fèi)時間又浪費(fèi)人力物力，生產(chǎn)效率低；另外，不同濺射室的工作氣體和真空度有所不同，連續(xù)作業(yè)會導(dǎo)致工作氣體的混同，無法鍍膜。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是在大真空鍍膜室中設(shè)置一種氣室隔離墻，配合真空抽氣系統(tǒng)將大真空室分割成若干個氣氛獨(dú)立的小真空鍍膜室，實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的連續(xù)多層鍍膜。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，包括一個大真空室、與所述大真空室相連的真空泵，以及位于所述大真空室中的被鍍基材；大真空室兩端之間密封設(shè)置有若干個氣室隔離墻，氣室隔離墻的底部與大真空室內(nèi)壁固定；當(dāng)進(jìn)行真空鍍膜時，基材與所述氣室隔離墻的保持0. 1 Imm的間隙，任意相鄰的氣體隔離墻之間形成小真空鍍膜室，每個小真空鍍膜室都與至少一臺真空泵相連。氣室隔離墻采用中空結(jié)構(gòu)，在其頂部均勻分布若干個大小一致與隔離墻中空結(jié)構(gòu)聯(lián)通的的圓形透孔，氣室隔離墻底部設(shè)置一個與隔離墻中空結(jié)構(gòu)聯(lián)通的圓形透孔，在氣室隔離墻兩側(cè)壁面以“S”形結(jié)構(gòu)布置布置循環(huán)冷卻水管路。當(dāng)對柔性基材進(jìn)行真空鍍膜時候，所述大真空室為圓柱形真空室，所述氣室隔離墻呈梯形體。所述大真空室內(nèi)部設(shè)置一個冷鼓，冷鼓與梯形氣室隔離墻頂部之間卷繞柔性基材。當(dāng)對硬質(zhì)基材進(jìn)行真空鍍膜時候，所述大真空室為矩形真空室，所述氣室隔離墻呈矩形。所述大真空室頂部與矩形氣室隔離墻頂部鋪設(shè)硬質(zhì)基材。本實(shí)用新型中大的真空室由氣室隔離墻不完全密閉式地分割成若干小的真空室， 從而形成若干獨(dú)立的小真空鍍膜室；并且可以配合真空抽氣泵，可以達(dá)到小真空鍍膜室之間氣氛互不影響，保證小真空鍍膜室之間較好的氣氛隔離，對不同反應(yīng)磁控濺射多層膜的制備提供了便利；并且該氣室隔離墻采用中空結(jié)構(gòu)，可以節(jié)省鋼材，減輕真空室重量；在該氣室隔離墻頂部預(yù)留多個圓孔，以備真空抽氣所用，可以減少抽真空的時間，提高效率；同時在墻的兩側(cè)壁面設(shè)置的循環(huán)水管路，可以降低鍍膜室溫度，防止溫度過高造成被鍍基材變形或燒蝕。[0009]本實(shí)用新型是一種不完全密閉真空室之間的隔離墻。結(jié)構(gòu)簡單，制造方便，經(jīng)濟(jì)實(shí)用，可廣泛工業(yè)應(yīng)用；對真空鍍膜，尤其是連續(xù)多層鍍膜，以及連續(xù)鍍制多層不同薄膜的反應(yīng)濺射，不需要鍍完一層膜后從真空室中取出，更換鍍膜材料再重新抽真空，再在第一層薄膜上鍍制第二層不同材料的薄膜；本實(shí)用新型可以避免這些重復(fù)性的鍍膜前期步驟，尤其是重新抽真空和清潔真空室這些重復(fù)而又浪費(fèi)時間能源的步驟。

圖1為本實(shí)用新型的一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置的截面圖。圖2為圖1所示中多室連續(xù)真空鍍膜裝置中的梯形隔離墻的側(cè)視圖。圖3為梯形氣室隔離墻的俯視圖。圖4為梯形隔離墻冷卻水進(jìn)口一側(cè)壁面的水循環(huán)管路布置圖。圖5為本實(shí)用新型的另一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置橫截面圖。圖中，1為圓形大真空室，2為冷鼓，3為被鍍基材，4為真空泵，5為梯形氣室隔離墻，6為小真空鍍膜室，7為收卷裝置，8為放卷裝置，9為張力輥，10為隔離墻頂部圓孔，11 為隔離墻壁面，12為隔離墻壁面循環(huán)冷卻水管路進(jìn)水口，13為隔離墻壁面循環(huán)冷卻水管路出水口，14為隔離墻壁面循環(huán)冷卻水管路頂部水平管路，15為矩形氣室隔離墻，16為料傳送輥，。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的實(shí)施方式作進(jìn)一步說明。實(shí)施例1如圖1至圖4所示，圓柱形大真空室1內(nèi)部設(shè)置有冷鼓2，圓柱形大真空室1與冷鼓2之間均勻間隔設(shè)置3個梯形氣室隔離墻5，梯形氣室隔離墻5的底部與圓柱形大真空室1內(nèi)壁固定；任意相鄰的梯形氣室隔離墻5之間形成小真空鍍膜室6，形成的兩個小真空鍍膜室6分別與一臺真空泵相連，圓柱形大真空室1的其余部分與兩臺真空泵相連；梯形氣室隔離墻5采用中空結(jié)構(gòu)，其頂部均勻分布若干與中空結(jié)構(gòu)聯(lián)通的圓孔10，圓孔10個數(shù)以及間隔大小按照實(shí)際需要自行選擇，另外在墻體底部設(shè)置有一個與中空結(jié)構(gòu)聯(lián)通的圓孔， 這些圓孔都是便于快速抽真空而設(shè)置；梯形氣室隔離墻5的兩側(cè)壁面布置有循環(huán)冷卻水管路，冷卻循環(huán)水由隔離墻壁面循環(huán)冷卻水管路進(jìn)水口 12流入，在梯形氣室隔離墻5 —側(cè)壁面從下到上沿著“S”形結(jié)構(gòu)管路流至頂部，通過隔離墻壁面循環(huán)冷卻水管路頂部水平管路 14過渡到梯形氣室隔離墻5另一側(cè)壁面，并在該側(cè)壁面從上到下沿著“S”形結(jié)構(gòu)管路流至底部，最后由為隔離墻壁面循環(huán)冷卻水管路出水口 13流出。梯形氣室隔離墻5與冷鼓2相鄰，其間為被鍍基材3，當(dāng)進(jìn)行真空鍍膜時，被鍍基材 3與隔離墻5頂部保持0. 1 Imm的間隙，例如可選0. Imm, 0. 5mm或1mm。在真空泵4和梯形氣室隔離墻5的相互配合作用下，以及適當(dāng)調(diào)節(jié)冷鼓2與隔離墻5頂部之間的距離可以保證小真空鍍膜室6與圓柱形大真空室1以及小真空鍍膜室6彼此之間真空度的獨(dú)立性； 收卷裝置7、放卷裝置8以及張力輥9位于圓柱形大真空室1內(nèi)部，通過放卷裝置8放卷被鍍基材3，由張力輥9建立張力使被鍍基材3繞卷在冷鼓2上，再通過與張力輥9與收卷裝置7與共同運(yùn)作，實(shí)現(xiàn)對被鍍基材的真空連續(xù)鍍多層不同薄膜的目的。[0020]從圖1至圖4所示的實(shí)施例適用于柔性基材(如PET等柔性基材)連續(xù)卷繞鍍膜。實(shí)施例2如圖5所示，與實(shí)施例1不同在于采用3個矩形氣室隔離墻15將大真空室分割成4小真空鍍膜室6，各個小真空鍍膜室7分別與一臺真空泵4相連；各個小真空鍍膜室6 頂部與矩形氣室隔離墻15頂部鋪設(shè)被鍍基材3 ；通過設(shè)置在真空室外側(cè)的料傳送輥16運(yùn)作，實(shí)現(xiàn)被鍍基材3在各個鍍膜室之間的連續(xù)鍍膜。圖5所示的實(shí)施例適用于硬質(zhì)基材(如玻璃，Si片)平面連續(xù)鍍膜。
權(quán)利要求1.一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，包括一個大真空室、與所述大真空室相連的真空泵，以及位于所述大真空室中的被鍍基材，其特征在于大真空室兩端之間密封設(shè)置有若干個氣室隔離墻，所述氣室隔離墻的底部與所述大真空室內(nèi)壁固定；當(dāng)進(jìn)行真空鍍膜時，基材與所述氣室隔離墻的頂部之間保持0. 1 Imm的間隙，任意相鄰的氣體隔離墻之間形成小真空鍍膜室，所述每個小真空鍍膜室都與至少一臺真空泵相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述氣室隔離墻彼此之間均勻間隔，所述氣室隔離墻采用中空結(jié)構(gòu)，在其頂部均勻分布若干個大小一致的與所述隔離墻中空結(jié)構(gòu)聯(lián)通的圓形透孔；在所述氣室隔離墻兩側(cè)壁面以“S”形結(jié)構(gòu)布置布置循環(huán)冷卻水管路。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述大真空室為圓柱形真空室，所述氣室隔離墻呈梯形體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述大真空室為矩形真空室，所述氣室隔離墻呈矩形。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述大真空室內(nèi)部設(shè)置一個冷鼓，所述冷鼓與所述氣室隔離墻頂部之間卷繞柔性基材。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述大真空室頂部與所述氣室隔離墻頂部鋪設(shè)硬質(zhì)基材。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，旨在提供一種能夠?qū)⒋笳婵帐曳指顬槿舾蓚€氣氛獨(dú)立的小真空鍍膜室，能夠?qū)崿F(xiàn)多室連續(xù)真空鍍膜的裝置。它包括一個大真空室、若干個真空泵，大真空室中均勻設(shè)置若干個氣室隔離墻，氣室隔離墻之間形成小真空鍍膜室，大真空室與小真空鍍膜室各自與至少一臺真空泵相連。本實(shí)用新型適用于真空環(huán)境下的連續(xù)多層鍍膜。
文檔編號C23C14/34GK202124659SQ20112021605
公開日2012年1月25日 申請日期2011年6月24日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月24日
發(fā)明者劉曉波, 文磊, 李緒波, 王珂, 翟玉濤 申請人:核工業(yè)西南物理研究院