專利名稱：用于設(shè)備的氣液相混合物分配器裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于設(shè)備的氣液相混合物分配器裝置，所述裝置用于 在所述設(shè)備的橫截面上均勻地分配氣相和液相。
背景技術(shù)：
在化學(xué)方法中經(jīng)常需要經(jīng)由至少 一個(gè)供給口將氣相和液相，特別是以 氣液相混合物的形式，引入設(shè)備中，所述供給口的液力直徑可小于所述設(shè) 備的液力直徑。氣相與液相之間的液力直徑關(guān)系、由此帶來的流動關(guān)系以 及存在的密度差特別地導(dǎo)致氣相在設(shè)備的橫截面上不均勻的分布。這會導(dǎo) 致問題，特別是當(dāng)在設(shè)備中設(shè)置有連續(xù)式固定床時(shí)，或具有填充有固體顆 粒例如催化劑的接觸管時(shí)，或在換熱板之間存在間隙時(shí)。然而，即使在供 給管中，相應(yīng)的流動條件也會導(dǎo)致氣液相在一定程度上分離，或?qū)е職庖?br> 相的不均勻進(jìn)入，因此有必要使itJV的流均勻化。
另外，因?yàn)閮上嘀械臍庖悍植嫉淖兓蛘叱煞纸M成的變化會導(dǎo)致兩相 混合物中(產(chǎn)生)另外的自由度，所以發(fā)現(xiàn)兩相混合物的引入以及使所述 混合物在設(shè)備的橫截面上分布的均勻化是很成問題的。因此，各相的不均 勻的分布會導(dǎo)致平衡的偏移，從而導(dǎo)致單獨(dú)相的成分組成的局部變化。例 如，在僅有不充足的氣相到達(dá)的邊緣區(qū)域中，會導(dǎo)致成分從液相中揮發(fā)出， 從而使液相缺少這種成分。
其中引入氣相和液相的用于化學(xué)反應(yīng)的設(shè)備具有中央的筒狀或棱柱狀 部分，化學(xué)反應(yīng)在該部分中進(jìn)行。如可能則催化所述化學(xué)反應(yīng)，其中，在 設(shè)備中設(shè)置有連續(xù)式固定床，所述固定床帶有填充有催化劑或催化劑顆粒 的接觸管或彼此間布置有間隙的換熱板。所述設(shè)備在兩端用蓋或者端板封閉，所述蓋或者端板設(shè)計(jì)成例如扁平的或彎曲的、中凹的端板、拱形的端 板或球形殼。
在下端板的區(qū)域內(nèi)，可經(jīng)由供給裝置中的供給口將氣液相混合物引入 所述設(shè)備。當(dāng)氣液相混合物經(jīng)由供給口進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部時(shí)，在此處氣相的結(jié) 合會導(dǎo)致較大的氣泡或氣體射流，所述氣泡或氣體射流會集中的/在中心上 升，如可能會撞擊到固定床的表面或設(shè)置有接觸管的管板的表面。相反地， 僅有不充足的氣相到達(dá)設(shè)備的外部區(qū)域，由此導(dǎo)致局部變化的分布。在某 些情況下會另外出現(xiàn)一種或多種成分的相變，由此出現(xiàn)局部改變的平衡。 這導(dǎo)致設(shè)備中的反應(yīng)條件不均勻，因此不能優(yōu)化地進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)。然而， 即使在供給管中也會產(chǎn)生兩相的不均勻分布。另外，不同尺寸的氣泡導(dǎo)致 在設(shè)備的才黃截面上(出現(xiàn))不希望的不均勻的兩相分布。
為實(shí)現(xiàn)氣液相混合物分布的均勻化以及避免前述問題，必須在供給口 區(qū)域內(nèi)采用分配器裝置。參照用于在存在有連續(xù)液相的設(shè)備例如鼓泡塔中 使氣體分布均勻的氣體分配器，已知多孔式燒結(jié)板、孔板和篩板。如果將 氣相引入設(shè)備中，例如形式為孔板或燒結(jié)板的嵌入件由于壓降而使氣相在 板下方積聚，由此氣相與在橫截面上均勻穿過所述板的通流fel應(yīng)以使流 動阻力最小化。由此使氣體^L于液體中，以實(shí)現(xiàn)較大的用于換熱或物質(zhì) 交換的相界面。這種靜態(tài)的、產(chǎn)生壓降的嵌入件覆蓋了設(shè)備的寬橫截面， 因此出現(xiàn)較大的壓降，這提高了工作成本。當(dāng)在存在固定床的設(shè)備中應(yīng)用 時(shí)，這種嵌入件使得對位于后方的固定床的接近變得困難，特別是當(dāng)可能 必須對于催化劑固定床的情況替換已消耗的催化劑時(shí)。然而，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)這 種嵌入件不適于在兩相都流動的設(shè)備中使流動均勻化。
相反，這種嵌入件在多相多成分的系統(tǒng)中產(chǎn)生局部變化的氣液分布。 這種不穩(wěn)定的影響會導(dǎo)致流體運(yùn)動，特別是液相的流體運(yùn)動，由于產(chǎn)生壓 降的嵌入件的不水平的取向所述運(yùn)動導(dǎo)致兩相進(jìn)一步分離。
還已知將導(dǎo)向板作為用于氣相的分配器裝置，氣體射流撞擊該導(dǎo)向板 從而使得所述射流a成單獨(dú)的氣泡或射流。然而，對于使氣液相混合物 均勻分布，已知由此僅可減輕前述問題，但并不能解決該問題。設(shè)置于管板中并具有用于使分布均勻化的多個(gè)供給口的環(huán)狀分配器需 要較大的安裝空間，這是因?yàn)椋瑸榱耸狗植季鶆蛐枰鄠€(gè)具有大量開口的 環(huán)。發(fā)現(xiàn)這存在以下問題，即必須在環(huán)分配器的內(nèi)部確保兩相混合物的流 動一致以避免產(chǎn)生氣液相分布的偏移。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于，提供一種用于設(shè)備的氣相和液相的一特別 是兩相混合物的一分配器裝置，以實(shí)現(xiàn)在設(shè)備的整個(gè)橫截面上的均勻分布， 而不具有上述缺點(diǎn)。特別地，應(yīng)當(dāng)在各相的組成恒定的情況下確保在設(shè)備 的整個(gè)橫截面上的均勻分布，其中該分配器裝置應(yīng)當(dāng)結(jié)構(gòu)簡單并相應(yīng)地成 本低廉。這里，該分配器裝置應(yīng)當(dāng)適用于幾乎所有種類的氣液接觸設(shè)備， 優(yōu)選適用于設(shè)置有固定床的設(shè)備、或具有多個(gè)焊接在管板上并填充有催化 劑顆粒的接觸管的殼管式設(shè)備。本發(fā)明也可用于具有設(shè)于內(nèi)部的、彼此間 存在間隙的換熱板的設(shè)備，所述換熱板中填充有顆粒式異質(zhì)催化劑。
所述目的通過用于設(shè)備的氣^目混合物分配器裝置實(shí)現(xiàn)，其中經(jīng)由至
少一個(gè)供給口將氣相和';M目引入設(shè)備的內(nèi)部，其中，水平地設(shè)置于設(shè)備中 的分配器板包括具有通孔的活性區(qū)域以及向下延伸的邊緣(邊沿，空邊)， 其中分配器板不在設(shè)備的整個(gè)橫截面上延伸。
在一種優(yōu)選實(shí)施形式中，所述分配器裝置補(bǔ)充有設(shè)置于供給口與第一 分配器板之間的第二分配器板，該第二分配器板包括具有多個(gè)通孔的活性 區(qū)域以及向下延伸的邊緣，并主要起預(yù)分配器的作用。
本發(fā)明的分配器裝置所應(yīng)用的設(shè)備特別是這樣的設(shè)備，即，其中例如 在保持格柵上設(shè)置有固定床的設(shè)備，或者其中多個(gè)接觸管焊接在管板上的 殼管式設(shè)備，在所述設(shè)備中，氣^目混合物經(jīng)由一個(gè)端蓋中的至少一個(gè)供 給口進(jìn)入，例如通過接觸管流過并經(jīng)由另一蓋流出所述設(shè)備。
迄今為止，兩相分布的不均勻特別是因?yàn)楣┙o口的液力半徑比設(shè)備的 液力半徑小多倍而導(dǎo)致的。在流體^^支術(shù)中，"液力半徑"表示開口的面積 的四倍與周長的比值。由于氣相與液相之間的密度差，兩相混合物中的氣泡迅速上升，或在供給口上的給合行為會導(dǎo)致形成較大氣泡或氣體射流， 使得氣相高速且集中地大量上升。然而，例如彎曲的供給管路也會導(dǎo)致較 較大氣泡的形成，所述氣泡在進(jìn)入設(shè)備時(shí)導(dǎo)致前述問題。
根據(jù)本發(fā)明的分配器裝置的功能性基于在所述分配器裝置上使氣相與 液相分離。在分配器板下方由邊緣限定的區(qū)域內(nèi)形成氣墊，使得液相不流 過活性區(qū)域的通孔。而所述液相側(cè)向地經(jīng)過分配器裝置的向下延伸的邊緣， 通過分配器裝置與設(shè)備內(nèi)壁之間的無約束的環(huán)形區(qū)域并在分配器板上方在 設(shè)備的整個(gè)橫截面上分布。通過分配器板的通孔，使氣相在分配器橫截面 上均勻地分歉到液相中。由此實(shí)現(xiàn)了兩相多成分系統(tǒng)在分配器的橫截面上 恒定的分布。
所形成的氣墊的高度取決于貫穿分配器板的氣流的壓降、液相的壓降 以及氣體與液體之間的靜液壓差。根據(jù)氣液相之間的密度差、氣體體積流 或負(fù)荷情況以及分配器板的通孔的數(shù)量和直徑而決定氣墊的高度，所述高 度可能顯著地不同。
如可能，使分配器板水平地設(shè)置于設(shè)備中，由此在該分配器板下方形 成具有恒定高度的氣墊。為盡可能精確地水平對齊分配器板，在設(shè)備的內(nèi) 壁上焊接例如接片/連接板，以通過所述接片連接分配器裝置。然而，也可 設(shè)想將其固定在沿流動方向延伸的嵌入件例如管板上，或固定在設(shè)備的蓋 或端板上。
分配器裝置的布置使得，能夠在分配器板上方形成橫向于在活性區(qū)域 的通孔上介軟的氣相的上升方向的液相流。為顯著地最小化橫向流動對于 分軟氣泡的上升方向的影響，本發(fā)明的 一種實(shí)施形式中力求使液相的流動 速度盡可能地小。這通過為液相流動提供較大的區(qū)域來實(shí)現(xiàn)。分配器板的 橫截面選擇成， 一方面使得在分配器裝置處^t的氣相盡可能分布在設(shè)備 的整個(gè)橫截面上，另一方面使液相的流動速度較小。為此，根據(jù)設(shè)備的幾 何形狀，分配器板的形狀可以是圓形、多邊形或任何其它形狀。
分配器板與設(shè)備的可能的嵌入件例如管板之間的距離選擇成，使得可 能在分配器板上方形成具有較小流動速度的液相的橫向流，并且因此所述距離取決于物質(zhì)系統(tǒng)以及存在的流量。特別地，所^J巨離確保在液相與氣 相之間在設(shè)備橫截面上的分布均勻化。
分配器板的活性區(qū)域的通孔的數(shù)量和布置取決于設(shè)備的構(gòu)型。如果設(shè) 備包括嵌入件例如布置在支持格柵上的固定床的催化劑顆?；蚝附釉诠馨?中的填充有催化劑顆粒的接觸管，則根據(jù)本發(fā)明的分配器裝置確保設(shè)備的 橫截面被均勻地加載有兩相混合物。活性區(qū)域的通孔根據(jù)應(yīng)用可具有不同 的形狀例如孔或切口，并且可在分配器裝置內(nèi)變化。對于設(shè)計(jì)成殼管式反 應(yīng)器的設(shè)備的情況，分配器板的活性區(qū)域的孔平面盡可能地與相應(yīng)的焊接 在管板中的接觸管的管平面對齊，使得分配器板的活性區(qū)域的通孔布置于 接觸管的開口下方。在設(shè)計(jì)成殼管式反應(yīng)器的設(shè)備的一種有利實(shí)施形式中，
接觸管的內(nèi)徑選擇成在25mm到300mm之間，優(yōu)選地在30mm到100mm 之間，特別是在40mm到70mm之間。分配器板的活性區(qū)域的通孔的直徑 是接觸管內(nèi)徑的0.5-20%。合適的直徑比由在存在的體積流量比的情況下 得到足夠氣墊的需要確定，所述體積流量比優(yōu)選地為氣體體積流量比液體 體積流量在1:10到10:1的范圍內(nèi)。
分配器裝置的向下延伸的邊緣的高度選擇成，使得與設(shè)備中存在的負(fù) 荷情況無關(guān)地形成足夠的氣墊高度。由此確保氣相僅通過分配器板的通孔 ^t而不會被液相流帶走。邊緣的可能高度處于O.Olm到0.6m的范圍內(nèi)， 優(yōu)選地在0.05m到0.25m之間。
如將分配器裝置布置于封閉設(shè)備的端蓋中，則有利地通過較小的傾角 調(diào)節(jié)使向下延伸的邊緣與該端蓋的外形相匹配，由此減小結(jié)構(gòu)高度。
在某些物質(zhì)系統(tǒng)中在分配器裝置上不會產(chǎn)生足夠的氣';M目分離，因此
也不會產(chǎn)生根據(jù)本發(fā)明的分配器裝置的功能性所必需的在分配器的橫截面 上恒定高度的氣墊的形成。在供給管中的顯著的給合行為與不均勻性導(dǎo)致 氣墊的高度不穩(wěn)定，因此顯著地影響分配器裝置的功能性。這樣，發(fā)現(xiàn)具 有兩個(gè)分配器板的分配器裝置是有利的。有利地設(shè)置在供給口與第 一分配 器板之間的中央的第二分配器板起預(yù)分配器的作用。
這種預(yù)分配器用于最初4吏上升的氣相均勻化，其中在預(yù)分配器板上上升的氣泡不需要大小一致。氣相也流過布置于第二分配器板的活性區(qū)域上 的通孔，并且分散到流過的液相中。
所述的根據(jù)本發(fā)明的分配器裝置的第二分配器板的直徑可小于第 一分 配器板的直徑，其中所述第二分配器板的尺寸優(yōu)選地處于第一分配器板直 徑與供給口直徑之間。預(yù)分配器的功能主要在于通過使上升的大氣泡破裂 而使氣相最初均勻化。第二分配器板的活性區(qū)域上的通孔的直徑選擇成，
使得整個(gè)開口面積是第一分配器板的整個(gè)開口面積的1.5到3倍，所述整 個(gè)開口面積由孔的數(shù)量與孔的直徑得到。
或者，起預(yù)分配器作用的第二分配器板的邊緣可以與所^成一定角 度地向外傾斜，并同樣設(shè)有孔。因此，第二分配器板具有截錐曲面的形狀， 包括中央的平坦區(qū)域和周緣區(qū)域。這里，在中央和周緣區(qū)域中用于使氣體 通過的通孔不受限制。所述通孔可以i殳計(jì)成孔、切口或其它開口。在中央 和周緣區(qū)域中的通孔可以不同。優(yōu)選地，在周緣區(qū)域中的通孔大于在中央 區(qū)域中的通孑L，以促進(jìn)在預(yù)分配器下方積聚的氣相向流過的液相中的^。 有利地，將分配器與預(yù)分配器作為預(yù)組裝單元而相互連接。
然而，預(yù)分配器也可設(shè)計(jì)成具有齒(尖角)的環(huán)，這種隆起狀的預(yù)分 配器致使上升的氣泡在所述齒上破裂并以被預(yù)分配的形式上升。
通過大量的研究發(fā)現(xiàn)，氣液相混合物在設(shè)備的橫截面上分配不均勻的 問題可通過上文中限定的分配器裝置以簡單的方式解決，因此避免了氣相 以及各相的組成在設(shè)備的橫截面上的不均勻。


下面借助附圖詳細(xì)說明本發(fā)明。 在附圖中
圖1示出設(shè)計(jì)成殼管式反應(yīng)器的設(shè)備的縱剖面，所述設(shè)備在下端蓋中 具有分配器裝置的一個(gè)實(shí)施例；
圖2示出設(shè)計(jì)成殼管式反應(yīng)器的設(shè)備的橫剖面，所述設(shè)備具有位于下 部的分配器裝置；圖3示出具有根據(jù)本發(fā)明的分配器裝置的優(yōu)選實(shí)施形式的設(shè)備的縱剖 面，所述分配器裝置具有一個(gè)預(yù)分配器；
圖4示出用作預(yù)分配器的第二分配器板的替代方案。
具體實(shí)施例方式
圖1中的縱剖圖示出具有中央筒狀部分的i殳備2，所述筒狀部分在兩 端各通過半球狀的端蓋3封閉。通過在圖l所示的實(shí)施形式中示例性地設(shè) 置于下部端蓋3中心處的供給口 4，將氣液相混合物引入設(shè)備2的下部端 蓋3內(nèi)，并通過分配器裝置1均勻地分配。分配器裝置1包括具有活性區(qū) 域6和邊緣7的分配器板5，該邊緣7在供給口 4的方向上延伸。設(shè)置于 供給口 4上方的活性區(qū)域6具有圓形或多邊形的橫截面，并設(shè)置有通孔8， 通過所述通孔8使積聚的氣相分散。
在供給口 4的方向上向下延伸的邊緣7可以以一角度相對于平坦的活 性區(qū)域6傾斜，從而該邊緣7形成截錐曲面的形狀。由此，邊緣7與端蓋 3的外形相匹配，從而減小端蓋3的高度。
在圖1中，設(shè)備2設(shè)計(jì)成具有中間筒狀部分的殼管式反應(yīng)器，在該筒 狀部分中，在管板10內(nèi)設(shè)置有接觸管9。在管板10的底部下方設(shè)置有例 如保持格柵11。分配器裝置1在設(shè)備2中設(shè)置成，使得在分配器板5與下 部管板10之間存在間隙，從而使橫向于活性區(qū)域6的液相流的速度較小。 該才黃向流不會4吏穿過分配器裝置1的活性區(qū)域6的通孔8分歉的氣泡偏轉(zhuǎn) 并垂直于活性區(qū)域6極大地上升。
圖2示出設(shè)計(jì)成殼管式反應(yīng)器的設(shè)備2的橫剖面，所述設(shè)備具有設(shè)置 于所述設(shè)備的下部區(qū)域的分配器裝置1。分配器板5的活性區(qū)域6具有多 邊形的橫截面，由此使液相在設(shè)備的內(nèi)壁12與分配器板13的邊緣之間的 周向區(qū)域中能具有較大的流動橫截面。
圖2清楚地示出殼管式反應(yīng)器的接觸管9的管平面。所述接觸管9在 設(shè)備2的橫截面上均勻分布，該接觸管的內(nèi)徑14優(yōu)選地在30-100mm的范 圍內(nèi)。分配器板5的通孔8位于各接觸管9下方的中間，該通孔8與接觸管的孔徑比在0.5-20%的范圍內(nèi)。
圖3示出具有預(yù)分配器15的分配器裝置1，所述預(yù)分配器15沿供給 口 4的方向設(shè)置于第一分配器板5的下方。預(yù)分配器15包括一直徑小于第 一分配器板5的分配器板16，該分配器板16具有活性區(qū)域17和通孔18。 邊緣19從分配器板16向下沿供給口 4的方向延伸。邊緣19可垂直于分配 器板16或與該分配器板16成一角度地向下延伸。
圖3所示的分配器裝置特別地應(yīng)用于其中可在供給口 4處形成大量氣 泡并從而導(dǎo)致分配器板5下方的氣墊不穩(wěn)定的物質(zhì)系統(tǒng)。
在圖4中，邊緣19相對于分配器板16形成一角度，由此預(yù)分配器15 形成截錐曲面的形狀。這里，在傾斜的邊緣19中i殳有孔20，除活性區(qū)域 17的通孔18外，還通過該孔20使氣相^:。
邊緣19可包括平滑的邊緣區(qū)域21或在該區(qū)域上具有多個(gè)齒，在所述 齒上使氣相分散到流過的液相中。
權(quán)利要求
1.一種用于設(shè)備(2)的氣液相混合物分配器裝置(1)，氣相和液相經(jīng)由至少一個(gè)供給口(4)被引入該設(shè)備(2)的內(nèi)部，其中，水平地設(shè)置于設(shè)備(2)中的分配器板(5)包括具有通孔(8)的活性區(qū)域(6)以及向下延伸的邊緣(7)，所述水平地設(shè)置于設(shè)備(2)中的分配器板(5)未在該設(shè)備(2)的整個(gè)橫截面上延伸。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的分配器裝置(1),其特征在于，所述邊 緣(7)匹配于設(shè)備(2)的外形。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的分配器裝置(1)，其特征在于，所 述分配器板(5)具有圓形或多邊形橫截面。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的分配器裝置(1)，其特征 在于，預(yù)分配器(15)具有其邊緣(19)帶有齒狀邊緣區(qū)域(21)的形式。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的分配器裝置(1)，其特征 在于，在供給口 (4)與第一分配器板(5)之間設(shè)置有帶有第二分配器板(16)的預(yù)分配器(15)，其中第二分配器板(16)包括帶有通孔(18) 的活性區(qū)域(17)和向下延伸的邊緣(19)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的分配器裝置(1),其特征在于，預(yù)分配 器(15)的第二分配器板(16)的總開口面積由開口的數(shù)量和橫截面積確 定，該總開口面積是所述分配器板(5)的相應(yīng)的開口面積的1.5到3倍。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的分配器裝置(1)，其特征在于，第二分 配器板(16)的邊緣(19 )相對于該第二分配器板(16)以大于卯°的角 度延伸。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的分配器裝置(1)，其特征在于，在第二 分配器板(16)中以及邊緣(19)中設(shè)置有通孔，所述通孔的形式為切口、 孔和/或其它形式。
9. 一種設(shè)備(2),包括根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的分配 器裝置(1)，其中，所述裝置(2)設(shè)計(jì)成固定^^反應(yīng)器，該固定床反應(yīng)器具有設(shè)置在保持格柵(11 )上的連續(xù)式固定床。
10. —種設(shè)備(2)，包括根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的分配 器裝置(1)，其中，所述設(shè)備(2)設(shè)計(jì)成具有接觸管(9)的殼管式反應(yīng) 器，所述接觸管(9)焊接在管板(10)中并設(shè)置于該設(shè)備(2)的筒狀部 分中，所述筒狀部分在兩端均由端蓋(3)封閉，氣液相混合物經(jīng)過一個(gè)端 蓋(3)中的供給口 (4)進(jìn)入，并通過另一端蓋(3)流出所述設(shè)備。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備(2 )，所述設(shè)備包括根據(jù)權(quán)利要求 1至8中任一項(xiàng)所述的分配器裝置，其中，所述分配器板(5)設(shè)置成與保 持格柵(11)相距0.01-0.4m的恒定距離。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備(2),其特征在于，分配器裝置(1) 的分配器板(5)的活性區(qū)域(6)的通孔(8)的數(shù)量和布置與管板(10) 中的接觸管(9)的管平面相對應(yīng)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備(2 )，其特征在于，分配器板(5 ) 的活性區(qū)域(6)的通孔(8)的直徑與接觸管(9)的內(nèi)徑的比為0.5-20%。
14. 根據(jù)權(quán)利要求9至13中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(2)的工作方法，該 方法包括經(jīng)由至少一個(gè)供給口 (4)將氣相和液相引入設(shè)備(2)的內(nèi)部， 其中與設(shè)備(2 )的負(fù)荷情況無關(guān)地產(chǎn)生氣液分離以使氣相在分配器板(5 ) 下方積聚成氣墊，使^目流過分配器裝置(1)的邊緣(7)與設(shè)備(2)的 內(nèi)壁之間的環(huán)形空間，而氣相穿過分配器板(5)的活性區(qū)域(6)上的通 孔(8)沿流動方向在分配器板(5)的上方*到所述的其中存在液相的 空間。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于設(shè)備(2)的氣液相混合物分配器裝置(1)，其中經(jīng)由至少一個(gè)供給口(4)將氣相和液相引入該設(shè)備(2)的內(nèi)部。該裝置包括水平地設(shè)置于設(shè)備(2)中的分配器板(5)，該分配器板包含設(shè)置在活性區(qū)域(6)上的通孔(8)以及向下延伸的邊緣。該分配器板(5)不在設(shè)備(2)的整個(gè)橫截面上延伸。對于確定的物質(zhì)系統(tǒng)可設(shè)置預(yù)分配器(15)。
文檔編號B01J10/00GK101291724SQ200680038659
公開日2008年10月22日 申請日期2006年10月9日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月20日
發(fā)明者O·貝, T·馬特克, W·格林格 申請人:巴斯夫歐洲公司