專利名稱：多室連續(xù)真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及磁控濺射鍍膜設(shè)備，特別是一種多室連續(xù)真空鍍膜的生產(chǎn)裝置。
背景技術(shù)：
濺射真空鍍膜技術(shù)的迅速發(fā)展，令核心的真空室，已從單室轉(zhuǎn)向兩室，繼而向多室 發(fā)展，生產(chǎn)裝置也從單室間歇式，朝向多室連續(xù)生產(chǎn)線發(fā)展，生產(chǎn)效率不斷得到提高，大大 節(jié)省生產(chǎn)準(zhǔn)備和輔助時間，并提高真空度及其穩(wěn)定性，提升鍍膜質(zhì)量。當(dāng)鍍膜室抽至一定真 空度時，往鍍膜室內(nèi)充入工作氣體(常用氬氣)，調(diào)節(jié)濺射電源電流，使鍍膜室內(nèi)氣體電離 狀況穩(wěn)定，由電離出的正離子轟擊靶材表面，濺射出靶材原子到基片上，便形成薄膜。申請 號200810143143. 2"大面積反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線"，所設(shè)計(jì)的一條龐大的生 產(chǎn)線，包括有依次相鄰并與真空系統(tǒng)連通的各真空室，如前預(yù)抽室，前過渡室，前傳送室，連 續(xù)5臺介質(zhì)鍍膜室，2臺隔離傳送室，隔離室，導(dǎo)電膜鍍膜室，后傳送室，后過渡室，以及處于 兩頭的進(jìn)片區(qū)和出片區(qū)，還有所設(shè)置的磁導(dǎo)向傳送裝置，工件回行架等組成的生產(chǎn)環(huán)路。無 庸置疑，這樣的生產(chǎn)線的設(shè)備相當(dāng)龐雜，投資巨大，生產(chǎn)成本高。中國專利申請00122078.0 號"多層膜在線連續(xù)鍍制設(shè)備的工藝布置"(公開號CN 1338531 A)，公開了一種連續(xù)鍍膜 裝置的布置，該生產(chǎn)線布置依次為獨(dú)立閥門_裝片真空室_獨(dú)立閥門_過渡真空室_獨(dú)立 閥門-轉(zhuǎn)換真空室_2臺串聯(lián)的鍍膜真空室-緩沖真空室-2臺串聯(lián)的鍍膜真空室-轉(zhuǎn)換真 空室_獨(dú)立閥門_過渡真空室_獨(dú)立閥門_卸片真空室_獨(dú)立閥門。各真空室配有加熱系 統(tǒng)和溫控系統(tǒng)，核心的設(shè)備有由緩沖室隔離開的前、后各兩臺鍍膜真空室，該緩沖室是一個 高真空隔離氣阱，各臺獨(dú)立閥門分別設(shè)在各真空室之間?？梢钥闯?，這比起上面所引述的生 產(chǎn)線，在設(shè)備布置上是減少了，并可達(dá)到在線連續(xù)鍍膜制兩層以上薄膜的工藝效果。 上述現(xiàn)有真空鍍膜生產(chǎn)線裝置，所投入運(yùn)行的真空室，以及配套的真空設(shè)備，相當(dāng) 龐大復(fù)雜，設(shè)備投資大，生產(chǎn)成本高。以相對設(shè)備較少的申請?zhí)?0122078. 0而言，雖然設(shè) 備減少了，但在減少設(shè)備的同時，還要提高生產(chǎn)效率。這取決于工藝布置是否配置得當(dāng)，搭 檔合理，以充分發(fā)揮設(shè)備的利用效率。在鍍膜工件推進(jìn)的方向上，玻璃在導(dǎo)行架上是從進(jìn)片 區(qū)進(jìn)入，經(jīng)過鍍膜區(qū)，再從出片區(qū)出來。在推進(jìn)過程中，各真空室的真空度會是變化著的，或 抽、或停，或初級抽、或精抽(即深度排氣)，真空發(fā)生過程所需時間和工件停留時間也就有 所區(qū)別了。如在各室的停留時間差別過大，就會影響整體效率。真空室多的話，總的停留時 間就長，產(chǎn)生真空所需的能耗亦會增加。如上述的工藝布置，其中基片小車處于裝片室和卸 片室兩頭時，是采用間歇式動作，只在其余的鍍膜室里是連續(xù)運(yùn)作的，這樣使得在生產(chǎn)線兩 頭的裝、卸片室里，真空負(fù)載量很大，故采用了串聯(lián)3臺真空泵之多，排氣到O. 27X10—3Pa， 才開始鍍膜。該兩頭的片室就成了"瓶頸"效應(yīng)。其中鍍膜室的數(shù)量取決于鍍膜層數(shù)。故 此，在保證鍍膜質(zhì)量的同時，即不但要確保鍍膜室真空度夠高且穩(wěn)定，排氣過程平穩(wěn)、不波 動，還需盡量減少工件在各室的停留時間、和獲得真空的時間，以便提高效率，節(jié)約能源；為 此，抓住關(guān)鍵，合理地科學(xué)配置各個真空室，就顯得十分重要了 。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于避免上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，而提供一種鍍膜質(zhì)量好， 設(shè)備較少，運(yùn)行操作方便；生產(chǎn)效率較高，特別是可縮減進(jìn)、出片室排氣時間的多室連續(xù)真 空鍍膜裝置。
本實(shí)用新型的目的可通過如下的措施來達(dá)到 —種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，包括通過兩者之間的閥門相互串聯(lián)，且旁接有真空 發(fā)生裝置的多個真空室、所連接成的一種連續(xù)真空鍍膜的裝置，其特征在于，所述的多個真 空室和多個串聯(lián)的閥門，包括有依次串聯(lián)的以下設(shè)備 閥門I-進(jìn)片真空室-閥門II-前緩沖真空室-閥門III-前過渡真空室-鍍膜真 空室_后過渡真空室_閥門IV-后緩沖真空室_閥門V-出片真空室_閥門VI ;在鍍膜真 空室里，裝設(shè)有1條或若干條作為濺射鍍層材料的靶條； 所述的真空發(fā)生裝置，包括分別連接在各個真空室之上的、初級抽真空系統(tǒng)和深 度排氣系統(tǒng)；當(dāng)中有連接在進(jìn)片真空室的前初級抽真空系統(tǒng)，連接在出片真空室的后初級 抽真空系統(tǒng)；連接在前緩沖真空室的前緩沖深度排氣系統(tǒng)，連接在前過渡真空室的前深度 排氣系統(tǒng)，連接在鍍膜真空室的鍍膜深度排氣系統(tǒng)，連接在后過渡真空室的后深度排氣系 統(tǒng)，以及連接在后緩沖真空室上的后緩沖深度排氣系統(tǒng)，這些系統(tǒng)通過真空閥門，真空泵以 及相應(yīng)的真空管道，而連接成真空發(fā)生系統(tǒng)的。 上述的鍍膜深度排氣系統(tǒng)，包括在鍍膜真空室兩側(cè)各3臺對稱連接的擴(kuò)散泵或分 子泵，每臺擴(kuò)散泵或分子泵是各自通過1臺精抽閥而連接到真空室兩側(cè)上的，并且每臺泵 另一端的排氣端，均連接到一組包括羅茨泵和前置泵的、真空泵組進(jìn)氣端的真空管道上。 上述的前深度排氣系統(tǒng)，包括各1臺在前過渡真空室兩側(cè)，對稱連接的擴(kuò)散泵或 分子泵，每臺擴(kuò)散泵或分子泵，是各自通過1臺精抽閥而連接到真空室的兩側(cè)的，并且每臺 泵另一端的排氣端，均連接到一組包括有羅茨泵和前置泵的、真空泵組進(jìn)氣端的真空管道 上；所述的后深度排氣系統(tǒng)，包括各1臺在后過渡真空室兩側(cè)，對稱連接的擴(kuò)散泵或分子 泵，每臺擴(kuò)散泵或分子泵，是各自通過1臺精抽閥而連接到真空室的兩側(cè)的，并且每臺泵另 一端的排氣端，均連接到一組包括有羅茨泵和前置泵的、真空泵組進(jìn)氣端的真空管道上。 上述的前緩沖深度排氣系統(tǒng)，包括各1臺在前緩沖真空室兩側(cè)、對稱連接的擴(kuò)散 泵或分子泵，每臺擴(kuò)散泵或分子泵，是各自通過1臺精抽閥而連接到真空室兩側(cè)的，并且每 臺泵另一端的排氣端，均連接到一組包括羅茨泵和前置泵的、真空泵組進(jìn)氣端的真空管線 上，這組真空泵組的進(jìn)氣端，并連接到上述前緩沖真空室的一側(cè)；所述的后緩沖深度排氣 系統(tǒng)，包括各1臺在后緩沖真空室的兩側(cè)、對稱連接的擴(kuò)散泵或分子泵，每臺擴(kuò)散泵或分子 泵，是各自通過1臺精抽閥而連接到真空室兩側(cè)的，并且每臺泵另一端的排氣端，均連接到 一組包括羅茨泵和前置泵的、真空泵組進(jìn)氣端的真空管道上，這組真空泵組的進(jìn)氣端，并連 接到上述的后緩沖真空室的一側(cè)。 上述的前初級抽真空系統(tǒng)，包括有通過1臺粗抽閥而連接到進(jìn)片真空室的真空 泵，以及放氣閥，相關(guān)的真空管道；所述的后初級抽真空系統(tǒng)，包括有通過1臺粗抽閥而連 接到出片真空室的真空泵，以及放氣閥，相關(guān)的真空管道。 上述的閥門I，閥門II，閥門III，閥門IV，閥門V，和閥門VI，是一種翻板閥門。
本實(shí)用新型的真空鍍膜裝置，具有如下優(yōu)點(diǎn)[0015] 1.真空度平穩(wěn)、不波動，鍍膜質(zhì)量好。在鍍膜室和前、后過渡真空室的兩側(cè)，平衡 地對稱設(shè)置了 5組共10臺的擴(kuò)散泵，或者共10臺可產(chǎn)生更高真空度且無返油現(xiàn)象的分子 泵，并且還在其排氣端串聯(lián)上一級初級排氣的真空泵組，使得這些真空室里、各個位置上的 真空度高且相當(dāng)平穩(wěn)，不會發(fā)生波動，有利于靶電流的穩(wěn)定，提高鍍膜質(zhì)量。 2.縮短在進(jìn)、出片室的排氣時間，提高生產(chǎn)效率。工件在進(jìn)、出片室里，真空發(fā)生系 統(tǒng)對其抽氣，不是一直抽到高真空度階段，而是將此過程分解為兩個階段。因此，在進(jìn)、出片 室只配置初級抽真空系統(tǒng)，也就是從常壓抽排氣到500Pa為第一階段，工件在前、后緩沖室 里為第二階段，在該兩室里從500Pa抽到8X 10—屮a。通過前、后緩沖室對真空度的緩沖，可 將工件在進(jìn)、出片室的等待時間從3分鐘縮減到一分半鐘，成倍地提高生產(chǎn)效率，同時也相 應(yīng)減少了在進(jìn)、出片室的真空發(fā)生設(shè)備的配置，解決了連續(xù)化生產(chǎn)過程的'瓶頸'難題。 3.真空室的配置合理、效率高。本實(shí)用新型裝置的串聯(lián)真空室系統(tǒng)，通過6個翻板 閥門，將其分隔為5個區(qū)域，操作中可使每個區(qū)域有不同的真空度，減少了鍍膜基片某個階 段的周期時間，提高設(shè)備連續(xù)運(yùn)行的一致性，特別是在進(jìn)、出片室與過渡室之間設(shè)置的緩沖 室，合理地使排氣過程比較長的兩個階段，將其中的第二階段排氣放到緩沖室里進(jìn)行，這種 合理的科學(xué)配置，提高了整條生產(chǎn)線的生產(chǎn)效率。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的非限定性的敘述。
圖1是本實(shí)用新型多室連續(xù)真空鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖中，l是閥門1，2是進(jìn)片真空室，3是閥門11，4是前緩沖真空室，5是閥門III，6 是前過渡真空室，7是靶條，8是鍍膜真空室，9是后過渡真空室，10是閥門IV， 11是后緩沖 真空室，12是閥門V， 13是出片真空室，14是閥門VI， 15是前放氣閥，16表示初級抽真空系 統(tǒng)，161是該系統(tǒng)的真空泵，17表示前緩沖深度排氣系統(tǒng)，171， 172是該系統(tǒng)的擴(kuò)散泵或分 子泵，173是該系統(tǒng)的羅茨泵，174是該系統(tǒng)的前置泵，18表示前深度排氣系統(tǒng)，181， 182是 該系統(tǒng)的擴(kuò)散泵或分子泵，183是該系統(tǒng)的羅茨泵，184是該系統(tǒng)的前置泵，19表示鍍膜深 度排氣系統(tǒng)，191， 192， 193， 194， 195， 196是該系統(tǒng)的擴(kuò)散泵或分子泵，197是該系統(tǒng)的羅茨 泵，198是該系統(tǒng)的前置泵，20表示后深度排氣系統(tǒng)，201， 202是該系統(tǒng)的擴(kuò)散泵或分子泵， 203是該系統(tǒng)的羅茨泵，204是該系統(tǒng)的前置泵，21表示后緩沖深度排氣系統(tǒng)，211， 212是該 系統(tǒng)的擴(kuò)散泵或分子泵，213是該系統(tǒng)的羅茨泵，214是該系統(tǒng)的前置泵，22表示后初級抽 真空系統(tǒng)，221是該系統(tǒng)的真空泵，23是后放氣閥。
具體實(shí)施方式如附圖所示，在一條生產(chǎn)線的基礎(chǔ)上，依次安裝以下的真空室進(jìn)片真空室2-前 緩沖真空室4-前過渡真空室6-鍍膜真空室8-后過渡真空室9-后緩沖真空室11-出片真 空室13 ;其中，在鍍膜室8里裝置有若干條，最多10條， 一般4條的靶條7，鍍膜真空室與 前、后過渡真空室是直接連接的，其它各個真空室則通過一個個翻板閥門而連接。生產(chǎn)線的 兩頭，即進(jìn)片室的入口和出片室的出口處，亦安裝有翻板閥門，這樣的閥門依次為閥門1、閥 門11、閥門111、閥門IV、閥門V、閥門VI，其代號分別為1，3，5，10，12，14。這樣，沿著基片 的前進(jìn)方向，安裝好上述順序的真空室，以及室與室之間的閥門。上述每個真空室各自連接有包括初級抽真空系統(tǒng)和深度排氣系統(tǒng)的真空發(fā)生系統(tǒng)。 在前進(jìn)方向兩端分別連接有閥門I和閥門II的進(jìn)片真空室2，于其側(cè)面安裝有前 放氣閥15，以及前初級抽真空系統(tǒng)16，該真空系統(tǒng)16包括有粗抽的真空泵161，該泵161的 進(jìn)氣端通過一臺粗抽閥而連接到進(jìn)片真空室2之上，該泵進(jìn)氣端并連接到有一個通往大氣 的停泵充氣閥。而在生產(chǎn)線末端，類似地，同樣有兩端分別連接有閥門V和閥門VI的出片 真空室13，其側(cè)面安裝有后放氣閥23，以及連接有粗抽的真空泵221的后初級抽真空系統(tǒng) 22。在上述閥門1I后邊的前緩沖真空室4兩側(cè)，對稱設(shè)置有各1臺擴(kuò)散泵或分子泵171， 172，以及包括羅茨泵173和前置泵174真空泵組，的前緩沖深度排氣系統(tǒng)17，該2臺泵的 進(jìn)氣端各通過1臺精抽閥而連接到真空室兩側(cè)面，而2臺泵的排氣端并聯(lián)，通過一個閥門連 接到、包括羅茨泵173和前置泵174的真空泵組，該泵組的進(jìn)氣端也通過一個精抽閥門而連 接到真空室側(cè)面，為操作需要，該羅茨泵還裝有一個旁通閥，在羅茨泵與前置泵之間裝有停 泵充氣閥。類似地，在后緩沖真空室11上面，同樣連接有后緩沖深度排氣系統(tǒng)21，該系統(tǒng) 有在室兩側(cè)對稱安裝的擴(kuò)散泵或分子泵211，212，泵的排氣端并聯(lián)上包括羅茨泵213和前 置泵214的真空泵組。在前進(jìn)方向通過閥門III與前緩沖真空室4連接的上述前過渡真空 室6，在室的兩側(cè)對稱安裝有擴(kuò)散泵或分子泵1S1，182，該2臺泵通過各自的精抽閥而連接 在室兩側(cè)的，2臺泵的排氣端并聯(lián)，通過1臺閥門連接到包括羅茨泵183和前置泵184的真 空泵組，在羅茨泵與前置泵之間，旁接有一個停泵充氣閥。上面前過渡真空室6所連接的各 個真空設(shè)備，組成一個前深度排氣系統(tǒng)18。類似地，在通過閥門IV與后緩沖真空室11連接 的后過渡真空室9上面，連接有后深度排氣系統(tǒng)20，它們是在室兩側(cè)對稱連接各1臺擴(kuò)散泵 或分子泵201， 202，該2臺泵的進(jìn)氣端各自通過1臺精抽閥而連接在室上的，泵的排氣端并 聯(lián)，通過l臺控制閥門，連接到包括羅茨泵203和前置泵204的真空泵組。在上述前、后過 渡真空室6和9之間，是本實(shí)用新型裝置的核心設(shè)備，鍍膜真空室8，室內(nèi)裝置有4條靶條 7，裝置在該室的鍍膜深度排氣系統(tǒng)19，包括有2組共6臺擴(kuò)散泵或分子泵191， 192， 193和 194， 195， 196，它們對稱安裝在鍍膜室的兩側(cè)，每臺泵通過各自的精抽閥而連接到真空室上 的，泵的排氣端并聯(lián)，通過一個操作閥門連接到一個真空泵組，泵組有羅茨泵197和前置閥 198，該兩泵之間接一個停泵充氣閥。這樣，組成上述鍍膜深度排氣系統(tǒng)19。 使用時，分作準(zhǔn)備階段，鍍膜生產(chǎn)(自動操作)階段，關(guān)機(jī)階段，先將進(jìn)片真空室2 抽真空到500Pa，前緩沖真空室4，在抽至高于500Pa時，基片快速進(jìn)入該室。關(guān)閉閥門II， 繼續(xù)抽真空到達(dá)8X 10—中a時，以后按照操作流程，完成鍍膜生產(chǎn)。本實(shí)用新型裝置適用于 各種連續(xù)化生產(chǎn)的真空鍍膜設(shè)備。
權(quán)利要求一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，包括通過兩者之間的閥門相互串聯(lián)，且旁接有真空發(fā)生裝置的多個真空室、所連接成的一種連續(xù)真空鍍膜的裝置，其特征在于，所述的多個真空室和多個串聯(lián)的閥門，包括有依次串聯(lián)的以下設(shè)備閥門I(1)-進(jìn)片真空室(2)-閥門II(3)-前緩沖真空室(4)-閥門III(5)-前過渡真空室(6)-鍍膜真空室(8)-后過渡真空室(9)-閥門IV(10)-后緩沖真空室(11)-閥門V(12)-出片真空室(13)-閥門VI(14)；在鍍膜真空室(8)里，裝設(shè)有1條或若干條作為濺射鍍層材料的靶條(7)；所述的真空發(fā)生裝置，包括分別連接在各個真空室之上的、初級抽真空系統(tǒng)和深度排氣系統(tǒng)；當(dāng)中有連接在進(jìn)片真空室(2)的前初級抽真空系統(tǒng)(16)，連接在出片真空室(13)的后初級抽真空系統(tǒng)(22)；連接在前緩沖真空室(4)的前緩沖深度排氣系統(tǒng)(17)，連接在前過渡真空室(6)的前深度排氣系統(tǒng)(18)，連接在鍍膜真空室(8)的鍍膜深度排氣系統(tǒng)(19)，連接在后過渡真空室(9)的后深度排氣系統(tǒng)(20)，以及連接在后緩沖真空室(11)上的后緩沖深度排氣系統(tǒng)(21)，這些系統(tǒng)通過真空閥門，真空泵以及相應(yīng)的真空管道，而連接成真空發(fā)生系統(tǒng)的。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于，所述的鍍膜深度排氣 系統(tǒng)(19)，包括在鍍膜真空室(8)兩側(cè)各3臺對稱連接的擴(kuò)散泵或分子泵(191,192,193， 194，195，196)，每臺擴(kuò)散泵或分子泵(191， 192， 193， 194， 195， 196)是各自通過l臺精抽閥 而連接到真空室兩側(cè)上的，并且每臺泵另一端的排氣端，均連接到一組包括羅茨泵(197) 和前置泵(198)的、真空泵組進(jìn)氣端的真空管道上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于，所述的前深度排氣 系統(tǒng)(18)，包括各1臺在前過渡真空室(6)兩側(cè)，對稱連接的擴(kuò)散泵或分子泵(181,182)， 每臺擴(kuò)散泵或分子泵(181，182)，是各自通過1臺精抽閥而連接到真空室的兩側(cè)的，并且每 臺泵另一端的排氣端，均連接到一組包括有羅茨泵(183)和前置泵(184)的、真空泵組進(jìn) 氣端的真空管道上；所述的后深度排氣系統(tǒng)(20)，包括各1臺在后過渡真空室(9)兩側(cè)，對 稱連接的擴(kuò)散泵或分子泵(201，202)，每臺擴(kuò)散泵或分子泵(201，202)，是各自通過1臺精 抽閥而連接到真空室的兩側(cè)的，并且每臺泵另一端的排氣端，均連接到一組包括有羅茨泵 (203)和前置泵(204)的、真空泵組進(jìn)氣端的真空管道上。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于，所述的前緩沖深 度排氣系統(tǒng)(17)，包括各1臺在前緩沖真空室(4)兩側(cè)、對稱連接的擴(kuò)散泵或分子泵(171， 172)，每臺擴(kuò)散泵或分子泵(171，172)，是各自通過1臺精抽閥而連接到真空室兩側(cè)的，并 且每臺泵另一端的排氣端，均連接到一組包括羅茨泵(173)和前置泵(174)的、真空泵組進(jìn) 氣端的真空管道上，這組真空泵組的進(jìn)氣端，并連接到上述前緩沖真空室(4)的一側(cè)；所述 的后緩沖深度排氣系統(tǒng)(21)，包括各1臺在后緩沖真空室(11)的兩側(cè)、對稱連接的擴(kuò)散泵 或分子泵(211，212)，每臺擴(kuò)散泵或分子泵(211，212)，是各自通過1臺精抽閥而連接到真 空室兩側(cè)的，并且每臺泵另一端的排氣端，均連接到一組包括羅茨泵(213)和前置泵(214) 的、真空泵組進(jìn)氣端的真空管道上，這組真空泵組的進(jìn)氣端，并連接到上述的后緩沖真空室 (11)的一側(cè)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于，所述的前緩沖深度 排氣系統(tǒng)(17)，包括各1臺在前緩沖真空室(4)兩側(cè)、對稱連接的擴(kuò)散泵或分子泵(171，172)，每臺擴(kuò)散泵或分子泵(171， 172)，是各自通過1臺精抽閥面連接到真空室兩側(cè)的，并 且每臺泵另一端的排氣端，均連接到一組包括羅茨泵(173)和前置泵(174)的、真空泵組進(jìn) 氣端的真空管道上，這組真空泵組的進(jìn)氣端，并連接到上述前緩沖真空室(4)的一側(cè)；所述 的后緩沖深度排氣系統(tǒng)(21)，包括各1臺在后緩沖真空室(11)的兩側(cè)、對稱連接的擴(kuò)散泵 或分子泵(211，212)，每臺擴(kuò)散泵或分子泵(211,212)是各自通過l臺精抽閥面連接到真 空室兩側(cè)的，并且每臺泵另一端的排氣端，均連接到一組包括羅茨泵(213)和前置泵(214) 的、真空泵組進(jìn)氣端的真空管道上，這組真空泵組的進(jìn)氣端，還并聯(lián)到上述的后緩沖真空室 (11)的一側(cè)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于，所述的前初級抽 真空系統(tǒng)(16)，包括有通過1臺粗抽閥而連接到進(jìn)片真空室(2)的真空泵(161)，以及放氣 閥，相關(guān)的真空管道；所述的后初級抽真空系統(tǒng)(22)，包括有通過1臺粗抽閥而連接到出片 真空室(13)的真空泵(221)，以及放氣閥，相關(guān)的真空管線。
7. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于，所述的前初級抽真空 系統(tǒng)(16)，包括有通過1臺粗抽閥而連接到進(jìn)片真空室(2)的真空泵(161)，以及放氣閥， 相關(guān)的真空管道；所述的后初級抽真空系統(tǒng)(22)，包括有通過1臺粗抽閥而連接到出片真 空室(13)的真空泵(221)，以及放氣閥，相關(guān)的真空管道。
8. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于，所述的前初級抽真空 系統(tǒng)(16)，包括有通過1臺粗抽閥而連接到進(jìn)片真空室(2)的真空泵(161)，以及放氣閥， 相關(guān)的真空管線；所述的后初級抽真空系統(tǒng)(22)，包括有通過1臺粗抽閥而連接到出片真 空室(13)的真空泵(221)，以及放氣閥，相關(guān)的真空管道。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于，所述的前初級抽真空 系統(tǒng)(16)，包括有通過1臺粗抽閥而連接到進(jìn)片真空室(2)的真空泵(161)，以及放氣閥， 相關(guān)的真空管道；所述的后初級抽真空系統(tǒng)(22)，包括有通過1臺粗抽閥而連接到出片真 空室(13)的真空泵(221)，以及放氣閥，相關(guān)的真空管道。
10. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的多室連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于，所述的閥門I(l)，閥 門II (3)，閥門III (5)，閥門IV (10)，閥門V (12)，和閥門VI (14)，是一種翻板閥門。
專利摘要一種多室連續(xù)真空鍍膜裝置，包括有依次串聯(lián)、由6臺閥門隔開的以下的、進(jìn)片真空室2-前緩沖真空室4-前過渡真空室6-鍍膜真空室8-后過渡真空室9-后緩沖真空室11-出片真空室13；在鍍膜真空室8里，裝設(shè)有若干條的靶條7；各真空室連接有真空發(fā)生裝置，包括連接在進(jìn)、出片真空室的前、后初級抽真空系統(tǒng)16、22、連接在前、后緩沖真空室的前、后緩沖深度排氣系統(tǒng)17，21，連接在前、后過渡真空室的前、后深度排氣系統(tǒng)18和20，和連接在鍍膜真空室的鍍膜深度排氣系統(tǒng)19。本實(shí)用新型裝置真空度平穩(wěn)、不波動，鍍膜質(zhì)量好，縮短了在進(jìn)、出片室的排氣時間，提高生產(chǎn)效率，真空室的配置合理、效率高。適用于各種連續(xù)生產(chǎn)的真空鍍膜裝置。
文檔編號C23C14/56GK201447502SQ200920056199
公開日2010年5月5日 申請日期2009年5月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月11日
發(fā)明者鐘肇蘭 申請人:鐘肇蘭