專利名稱：真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置，特別是指 一種用于 一真空濺鍍設(shè)備的基材與耙材呈直立擺置條件的真空 濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置。
背景技術(shù)：
真空鍍膜技術(shù)中的濺鍍法(Sputtering),其原理是在一真 空腔體中通入工作氣體(通常為Ar或N2等惰性氣體)，并以基 材為陽極，以靶材為陰極，使得工作氣體在高壓電場作用下， 會(huì)被解離呈離子與電子，即形成等離子(Plasma),而等離子中 的正離子于高壓電場中會(huì)加速移動(dòng)并轟擊靶材(Target )的表 面，使靶材原子或團(tuán)簇(Cluster)濺飛出并沉積、附著在目標(biāo) 基材(Substrate)的表面上，以形成薄膜。如圖l所示，現(xiàn)有一真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置l,能多組地 直立設(shè)置于一真空濺鍍設(shè)備的一反應(yīng)腔體3中，用以將工作氣體 (如Ar、 N2、 02等)分路地輸送入該反應(yīng)腔體3中。每組真空濺鍍 設(shè)備的進(jìn)氣裝置1包括一直立地容置于該反應(yīng)腔體3中的矩條狀 的氣柱ll以及一 自該反應(yīng)腔體3外部延伸至其內(nèi)部中并連接該 氣柱11的進(jìn)氣管12。該氣柱ll包括一中空的長柱體13、 一設(shè)置 于該長柱體13的一表面中心處且用以連接該進(jìn)氣管12的 一端的 進(jìn)氣孔14以及多個(gè)內(nèi)外相通地密布于該長柱體13的相反另 一表 面上的出氣孔15。因此，工作氣體會(huì)經(jīng)該進(jìn)氣管12輸送入該氣 柱11的長柱體13內(nèi)部，續(xù)經(jīng)該多個(gè)出氣孔15而擴(kuò)散至該反應(yīng)腔 體3內(nèi)部。然而，由于該氣柱ll上只有唯一的中心進(jìn)氣點(diǎn)(即該進(jìn)氣孔14處)，相當(dāng)容易造成工作氣體過度集中于該氣柱ll的中間段 部，而該氣柱ll的上、下段部處的氣體量卻較為稀薄、不均的現(xiàn)象，如此一來，不只會(huì)連帶影響到該反應(yīng)腔體3內(nèi)部所通入工作氣體的擴(kuò)散均勻性，還會(huì)影響賊鍍作業(yè)的品質(zhì)效率，尤其所 述不良現(xiàn)象的負(fù)面影響，將隨著真空濺鍍設(shè)備的尺寸規(guī)格曰漸 增大而更趨明顯、嚴(yán)重。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種能使工作氣體(如Ar、 N2、 ()2等)均勻地通入一反應(yīng)腔體中，提升進(jìn)氣均勻性的真空濺鍍 設(shè)備的進(jìn)氣裝置。本實(shí)用新型的真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置，能將 一 工作氣體 輸入該真空濺鍍設(shè)備的一反應(yīng)腔體內(nèi)，并包括至少一容置于該 反應(yīng)腔體中的第 一 氣柱以及多個(gè)第 一進(jìn)氣管。該第 一 氣柱包括 一其內(nèi)部具有多個(gè)依序排列的段隔室的長柱體、多個(gè)設(shè)置于該 長柱體上且分別對應(yīng)連通多個(gè)該段隔室的進(jìn)氣孔以及多個(gè)密布 于該長柱體上且用以使多個(gè)該段隔室與該反應(yīng)腔體內(nèi)部互通的 出氣孔。該多個(gè)第一進(jìn)氣管一端分別連接設(shè)置于該第一氣柱的 進(jìn)氣孔處，以能將該工作氣體分流輸入該多個(gè)段隔室中。本實(shí)用新型所述真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置，還包括一容置 于該反應(yīng)腔體中且與該第 一 氣柱相并靠的第二氣柱以及一 能將 該工作氣體輸入該第二氣柱中的第二進(jìn)氣管，該第二氣柱具有 一中空的長柱體、 一設(shè)置于該長柱體上且連接該第二進(jìn)氣管一 端的進(jìn)氣孔以及多個(gè)密布于該長柱體上的出氣孔。本實(shí)用新型的功效在于，利用工作氣體能經(jīng)該多個(gè)第一進(jìn) 氣管而分流、分路地輸入該第一氣柱的多個(gè)段隔室的設(shè)計(jì)，讓 工作氣體能均勻地通入該反應(yīng)腔體內(nèi)部，整體能達(dá)到進(jìn)氣均勻性佳的功效。

圖l是一立體圖，說明現(xiàn)有一真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置的結(jié)構(gòu)；圖2是一立體分解圖，說明本實(shí)用新型真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣 裝置的一較佳實(shí)施例，能將一工作氣體分流地通入一反應(yīng)腔體 中；圖3是該較佳實(shí)施例的一后視立體圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)i兌明。如圖2與圖3所示，本實(shí)用新型真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置2 的該較佳實(shí)施例，直立設(shè)置于 一 真空濺鍍設(shè)備的 一 反應(yīng)腔體3 中，并用以將一工作氣體(如Ar、 N2、 02、 Ar+02等)分流、 分路地通入該反應(yīng)腔體3內(nèi)部。而有關(guān)該真空濺鍍設(shè)備的操作原 理與其他功能構(gòu)件，是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所熟知，也非關(guān)本 實(shí)用新型的技術(shù)特征，不予詳述。該真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置2包括一容置于該反應(yīng)腔體3中 的第一氣柱21、一容置于該反應(yīng)腔體3中且與該第一氣柱21相并 靠的第二氣柱22、三自該反應(yīng)腔體3外部延伸至其內(nèi)部并連接該 第一氣柱21的第一進(jìn)氣管23 25,以及一 自該反應(yīng)腔體3外部延 伸至其內(nèi)部且連接該第二氣柱2 2的第二進(jìn)氣管2 6 。本實(shí)施例中， 該三第一進(jìn)氣管23 25的長度各不相同，并皆能輸送Ar+02的 混合氣體，而該第二進(jìn)氣管26用以輸送02。該第 一 氣柱21包括一 其內(nèi)部具有三上下依序排列的段隔室 213的長柱體211、三上下間隔設(shè)置于該長柱體211的一表面上且分別對應(yīng)連通該三^殳隔室213的進(jìn)氣孔212,以及多個(gè)密布于該 長柱體211的相反另 一表面上且用以使該三段隔室213與該反應(yīng) 腔體3內(nèi)部互通的出氣孔214。因此，該三第 一進(jìn)氣管23 25的 底端部分別連4姿該第 一氣柱21的該三進(jìn)氣孔212,用以將工作氣 體的Ar + 02等氣體成分分路地輸送入該三段隔室213中，并續(xù) 經(jīng)該多個(gè)出氣孔214而均勻擴(kuò)散入該反應(yīng)腔體3內(nèi)部。該第二氣柱22具有一并靠該第 一氣柱21的長柱體211的中 空的長柱體221、 一設(shè)置于該長柱體221的一表面中心處且用以 連接該第二進(jìn)氣管26的底端部的進(jìn)氣孔222，以及多個(gè)密布于該 長柱體221的相反另 一表面上的出氣孔223。同樣地，該工作氣 體的02成分能另經(jīng)該第二進(jìn)氣管26輸入該第二氣柱22的長柱 體221中，續(xù)經(jīng)該多個(gè)出氣孔223通入該反應(yīng)腔體3內(nèi)部。因此，當(dāng)工作氣體經(jīng)由該真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置2以分 流、分路地通入該反應(yīng)腔體3內(nèi)部時(shí)，輔以該第一氣柱21的該三 段隔室213能分別供工作氣體分流注入的設(shè)計(jì)，使得該第一氣柱 21的上、中、下各段處能均勻地進(jìn)行出氣，該工作氣體便能均 勻地?cái)U(kuò)散、通進(jìn)入該反應(yīng)腔體3內(nèi)部，因此，整體能達(dá)到有效提 升進(jìn)氣均勻性的目的，改善一般真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置l (見 圖1 )的該氣柱ll只具單一的進(jìn)氣孔14,以致無法均勻出氣的問 題。另夕卜，該真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置2當(dāng)然也能有其他實(shí)施方 式，例如，以相同的一第一氣柱21與三第一進(jìn)氣管23 25等組 合構(gòu)造，取代上述該第二氣柱22與該第二進(jìn)氣管26的結(jié)構(gòu)，因 此，相對能使整體于進(jìn)氣均勻性上能更加提升。歸納上述，本實(shí)用新型的真空賊鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置2，利用 將工作氣體分路輸入該第一氣柱21的三段隔室213的設(shè)計(jì)，讓該 第一氣柱21能均勻地將工作氣體通入該反應(yīng)腔體3內(nèi)部，整體能達(dá)到進(jìn)氣均勻性佳的功效，所以，確實(shí)能達(dá)到本實(shí)用新型的功效。
權(quán)利要求1.一種真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置，能將一工作氣體輸入該真空濺鍍設(shè)備的一反應(yīng)腔體內(nèi)，并包括至少一容置于該反應(yīng)腔體中的第一氣柱以及多個(gè)第一進(jìn)氣管；其特征在于，該第一氣柱包括一其內(nèi)部具有多個(gè)依序排列的段隔室的長柱體、多個(gè)設(shè)置于該長柱體上且分別對應(yīng)連通多個(gè)該段隔室的進(jìn)氣孔以及多個(gè)密布設(shè)置于該長柱體上且用以使多個(gè)該段隔室與該反應(yīng)腔體內(nèi)部互通的出氣孔；該多個(gè)第一進(jìn)氣管一端分別連通設(shè)置于該第一氣柱的進(jìn)氣孔處，以能將該工作氣體分路地輸入該多個(gè)段隔室中。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置，其特征 在于，還包括一容置于該反應(yīng)腔體中且與該第 一 氣柱相并靠的 第二氣柱以及一 能將該工作氣體輸入該第二氣柱中的第二進(jìn)氣 管，該第二氣柱具有一中空的長柱體、 一設(shè)置于該長柱體上且 連接該第二進(jìn)氣管一端的進(jìn)氣孔以及多個(gè)密布于該長柱體上的 出氣孔。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種真空濺鍍設(shè)備的進(jìn)氣裝置，能將一工作氣體輸入該真空濺鍍設(shè)備的一反應(yīng)腔體內(nèi)，并包括至少一容置于該反應(yīng)腔體中的第一氣柱及多個(gè)第一進(jìn)氣管。該第一氣柱包括一其內(nèi)部具有多個(gè)依序排列的段隔室的長柱體、多個(gè)設(shè)置于該長柱體上且分別對應(yīng)連通該多個(gè)段隔室的進(jìn)氣孔以及多個(gè)密布于該長柱體上的出氣孔。該多個(gè)第一進(jìn)氣管一端分別連接設(shè)置于該第一氣柱的進(jìn)氣孔處，能將該工作氣體分流輸入該多個(gè)段隔室中，再經(jīng)該多個(gè)出氣孔以均勻擴(kuò)散入該反應(yīng)腔體內(nèi)部，讓整體能達(dá)到進(jìn)氣均勻性佳的效果。
文檔編號C23C14/34GK201172688SQ20082000789
公開日2008年12月31日 申請日期2008年4月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月9日
發(fā)明者鄭博仁, 黃泳釗 申請人:北儒精密股份有限公司