專利名稱：一種雙銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于一種鍍膜玻璃，主要涉及一種八層膜結構的雙銀低輻射 鍍膜玻璃。
背景技術：
低輻射鍍膜玻璃是指在玻璃表面沉積一層高紅外線反射材料(金屬銀)， 使玻璃吸收太陽光光譜中的紅外線和其它物體發(fā)出的紅外線非常少，玻璃自 身又不存儲能量，因此鍍膜玻璃向外輻射的紅外線也非常少，稱為低輻射鍍 膜玻璃。該玻璃用于窗戶上，可有效地阻擋太陽光中的紅外線進入室內，降 低夏天室內溫度，節(jié)約空調制冷費用，冬天可以阻擋室內物體發(fā)出的紅外線 被玻璃吸收，散發(fā)到室外，提高室內溫度，節(jié)約取暖費用。
現(xiàn)在市場上己經有很多種低輻射鍍膜玻璃產品，第一層膜有用氧化錫 的，也有用氧化鋅的，第二層膜都是銀膜，也有前面加一層鎳鉻膜的結構， 第三層都用鎳鉻層，第四層主要為保護膜。 發(fā)明內容
本實用新型目的是提供一種八層膜結構的雙銀低輻射鍍膜玻璃，使其具 有成本低，輻射率低，耐磨、耐腐蝕性能好的優(yōu)點。
本實用新型的目的可采用如下技術方案來實現(xiàn)其具有玻璃基片，在玻 璃基片表面上從底層向上依次鍍有氧化錫膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氧化錫 膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氧化錫膜層、氮化硅膜層，從而構成八層膜結構 的雙銀低輻射鍍膜玻璃。
該產品具有生產效率高，輻射率低，耐磨性能和耐氧化、耐腐蝕性能好 的優(yōu)點。

附圖1為本實用新型的具體結構示意圖。
圖中1、玻璃基片，2、氧化錫膜層，3、銀膜層，4、鎳鉻膜層，5、 氧化錫膜層，6、銀膜層7、鎳鉻膜層，8、氧化錫膜層，9、氮化硅膜層。
具體實施方式

結合附圖，說明本實用新型的具體實施例。
如附圖l所示其具有玻璃基片l，在玻璃基片表面從底層向上依次
鍍有氧化錫膜層2、銀膜層3、鎳鉻膜層4、氧化錫膜層5、銀膜層6、鎳格 膜層7、氧化錫膜層8、氮化硅膜層9，從而構成八層膜結構的雙銀低輻射鍍膜玻璃。
本實用新型是在真空環(huán)境下，通過磁控濺射在玻璃表面沉積八層膜的方 法，生產一種紅外線輻射率很低的，包含有兩個銀層的低輻射鍍膜玻璃。
所述的低輻射鍍膜玻璃是在鍍膜室抽真空至1. 1X10—4Pa以下，充入工 藝氣體(氧氣或氮氣或氬氣)，使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0. 3Pa左右，將濺射源 送電，靶材開始濺射，送入玻璃將靶材原子或其化合物沉積到玻璃表面。第 一個鍍膜室充入氧氣，靶材為錫靶，將氧化錫膜沉積到玻璃表面為第一層膜， 厚度20至60納米，第二個鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，在氧化錫上面沉 積第二層銀膜，厚度1至10納米；第三個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶， 在銀膜上沉積第三層鎳鉻膜，厚度3至10納米；第四個鍍膜室充入氧氣， 靶材為錫靶，在鎳鉻膜上沉積第四層氧化錫膜，厚度15至60納米；第五個 鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，在氧化錫上面沉積第五層銀膜，厚度1至
10納米；第六個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，在銀膜上沉積第六層鎳 鉻膜，厚度1至10納米；第七個鍍膜室充入氧氣，靶材為錫靶，在鎳鉻膜 上沉積第七層氧化錫膜，厚度15至30納米；第八個鍍膜室充入氮氣，靶材 為硅靶，在氧化錫膜上沉積第八層氮化硅膜，厚度15 30納米。
第二層和第五層的銀膜起到降低鍍膜玻璃輻射率的作用，兩層不相鄰的 銀膜，可以產生比一層銀膜性能好很多，即輻射率低很多的優(yōu)點。第一層、 第七層氧化錫膜和第八層氮化硅膜都起保護銀膜和鎳鉻膜的作用，第七層氧 化錫膜和第八層氮化硅膜同時提高膜層的耐磨性能和耐氧化、耐腐蝕性能。
權利要求1、一種雙銀低輻射鍍膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，其特征是；在玻璃基片(1)表面上從底層向上依次鍍有氧化錫膜層(2)、銀膜層(3)、鎳鉻膜層(4)，氧化錫膜層(5)，銀膜層(6)，鎳鉻膜層(7)，氧化錫膜層(8)，氮化硅膜層(9)，從而構成八層膜結構的雙銀低輻射鍍膜玻璃。
專利摘要本實用新型公開了一種雙銀低輻射鍍膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上從底層向上依次鍍有氧化錫膜層(2)、銀膜層(3)、鎳鉻膜層(4)，氧化錫膜層(5)，銀膜層(6)，鎳鉻膜層(7)，氧化錫膜層(8)，氮化硅膜層(9)，從而構成八層膜結構的雙銀低輻射鍍膜玻璃。該產品具有生產效率高，輻射率低，耐磨性能和耐氧化、耐腐蝕性能好的優(yōu)點。
文檔編號C03C17/36GK201250182SQ20082014844
公開日2009年6月3日 申請日期2008年8月11日 優(yōu)先權日2008年8月11日
發(fā)明者楊真理, 王秀麗, 明 郭 申請人:洛陽新晶潤工程玻璃有限公司