專利名稱：：金色低輻射鍍膜玻璃及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及鍍膜玻璃，尤其是涉及一種金色低輻射鍍膜玻璃及其制作方法。技術(shù)背景低輻射鍍膜玻璃又稱低輻射玻璃、"Low-E"玻璃，在玻璃基片的單表面鍍覆一至多層特殊的金屬或金屬氧化物、金屬氮化物薄膜，由此形成各種視覺效果和具有不同光學(xué)和熱學(xué)性能特點(diǎn)。對(duì)波長范圍0.78pm2.5(^m的紅外線具有較高反射比，有良好的隔熱保溫性能，該產(chǎn)品集裝飾建筑外觀、控制光線、調(diào)節(jié)熱量、節(jié)約能源、改善環(huán)境等多種功能為一體，在建筑、交通、娛樂等多種行業(yè)應(yīng)用廣泛。但是，現(xiàn)有金色低輻射鍍膜玻璃采用純金靶材，氣氛為純惰性氣體，價(jià)格十分昂貴，市場(chǎng)推廣受到很大限制。
發(fā)明內(nèi)容'本發(fā)明所要解決的一個(gè)技術(shù)問題是解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，在保持產(chǎn)品風(fēng)格與內(nèi)在質(zhì)量以及滿足市場(chǎng)需求的前提下，提出一種采用非純金鍍制的金色低輻射鍍膜玻璃。本發(fā)明所要解決的另一個(gè)技術(shù)問題是解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，在保持產(chǎn)品風(fēng)格與內(nèi)在質(zhì)量以及滿足市場(chǎng)需求的前提下，提出一種采用非純金鍍制的金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法。本發(fā)明的金色低輻射鍍膜玻璃通過以下技術(shù)方案予以解決。這種金色低輻射鍍膜玻璃，以玻璃為基片，所述玻璃單表面鍍覆有復(fù)合膜層，所述復(fù)合膜層的最外層為一保護(hù)膜層。這種金色低輻射鍍膜玻璃的特點(diǎn)是所述復(fù)合膜層包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銅膜層，一層是銀膜層，緊貼保護(hù)膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層。這種金色低輻射鍍膜玻璃的外觀顏色主要貢獻(xiàn)來源于金屬銅膜層。'由于金屬銅膜層、銀膜層具有導(dǎo)電性，對(duì)紅外線具有反射作用，從而降低太陽的輻射熱量，實(shí)現(xiàn)低輻射功能。采用三層金屬膜層，可以更多地降低太陽的輻射熱量，使得產(chǎn)品具有優(yōu)異的熱學(xué)性能。所述金屬膜層厚度為0.1,100nm，即為納米級(jí)膜層。本發(fā)明的金色低輻射鍍膜玻璃通過以下進(jìn)一步的技術(shù)方案予以解決。在所述玻璃單表面與最下面的金屬膜層之間還設(shè)有一介質(zhì)膜層，所述介質(zhì)膜層包括鈦氧化物膜層、錫氧化物膜層、鋅氧化物膜層、鋅錫氧化物膜層、硅氧化物膜層、硅氮化物膜層。銅膜層與銀膜層及介質(zhì)膜層對(duì)光線干涉所形成的外觀顏色為高亮的金色，可以替代現(xiàn)有的純金膜層。在陽光下觀看，鍍復(fù)合膜層的玻璃面顏色為金色。所述介質(zhì)膜層厚度為lnm300nm。所述保護(hù)膜層包括鈦氧化物膜層、錫氧化物膜層、鋅氧化物膜層、鋅錫氧化物膜層、硅氧化物膜層、硅氮化物膜層。所述保護(hù)膜層厚度比所述介質(zhì)膜層厚，厚度為lnm300nm。優(yōu)選的，所述復(fù)合膜層自下而上是氧化鈦(Ti02)介質(zhì)膜層、銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅(Si3N4)保護(hù)膜層，在陽光下觀看，鍍復(fù)合膜層的玻璃面顏色為金色。本發(fā)明的金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法通過以下技術(shù)方案予以解決。這種金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法，依次有以下步驟(1)清洗，對(duì)基片玻璃清洗；(2)干燥，將清洗后的所述玻璃干燥；(3)鍍覆，在干燥后的所述玻璃單表面鍍覆復(fù)合膜層。這種金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法的特點(diǎn)是所述步驟(3)的鍍覆是真空磁控濺射鍍覆，將干燥后的所述玻璃置入真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶材室自下而上逐層鍍覆復(fù)合膜層最外層為一保護(hù)膜層，還包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銅膜層，一層是銀膜層，緊貼保護(hù)膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層，有的還包括在所述平板玻璃單表面與最下面的金屬膜層之間設(shè)有的一介質(zhì)膜層。所述靶材室的靶材包括氧化鈦陶瓷靶、鈦靶、銀靶、銅靶、鎳鉻靶、錫靶、鋅錫靶、硅鋁靶。所述金屬膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，為純惰性氣體，包括純氬氣、純氮?dú)?。本發(fā)明的金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法通過以下進(jìn)一步的技術(shù)方案予以解決。所述氧化鈦陶瓷靶為TiOx，純度為99.50%~99.99%。所述鈦靶、銀靶、銅靶、錫靶的鈦、銀、銅、錫的純度均為99.卯0%~99.999%。所述的鎳鉻靶為鉻鎳重量比為20%~30%的鎳鉻合金靶，鎳、鉻純度均為99.900%99.999%。所述鋅錫靶為鋅錫重量比為20%60%的鋅錫靶，鋅、錫的純度均為99.900%~99.999%。所述硅鋁靶為硅鋁重量比為10%20%的硅鋁靶，硅、鋁的純度均為99.900%~99.999%。所述靶材室的靶型包括旋轉(zhuǎn)靶、平面靶。所述介質(zhì)膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，包括氧氬比為1%100%的氧氣和氬氣混合氣體、氬氮比為0%~80%的氬氣和氮?dú)饣旌蠚怏w。所述保護(hù)膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，包括氧氬比為0%~80%的氧氣和氬氣混合氣體、.氬氮比為0%~80%的氬氣和氮?dú)饣旌蠚怏w。本發(fā)明的金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法通過以下進(jìn)一步的技術(shù)方案予以解決。，所述步驟(3)的鍍覆是逐層鍍覆氧化鈦(Ti02)介質(zhì)膜層、銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅(Si3N4)保護(hù)膜層，鍍覆氧化鈦介質(zhì)膜層采用鈦靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氧氣:氬氣=10.0%，或采用氧化鈦陶瓷靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氧氣:氬氣=8.0%;鍍覆銅膜層采用銅靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍覆銀膜層采用銀靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍覆鎳鉻膜層采用鎳鉻靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍制氮化硅保護(hù)膜層采用硅靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氬氣:氮?dú)?33.3°/。。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)對(duì)比的有益效果是-本發(fā)明選用特定的靶材、氣氛及組合替代金靶材制作金色低輻射鍍膜玻璃，具有性能優(yōu)良、色彩鮮艷且容易調(diào)節(jié)、質(zhì)量穩(wěn)定、制作效率高、成本低、易于推廣的特點(diǎn)，而且，能通過改變各膜層的厚度獲得不同透過率、透過色、反射率、反射色及遮陽系數(shù)、輻射率的多品種的金色低輻射鍍膜玻璃，以適應(yīng)市場(chǎng)的不同需求。具體實(shí)施方式下面結(jié)合具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。具體實(shí)施方式一一種復(fù)合膜層為五層的金色低輻射鍍膜玻璃采用美國BOC公司出品的真空磁控濺射鍍膜機(jī)，其靶材輸出功率為0kw120kw。工藝參數(shù)如表l。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>表l中a層是氧化鈦(Ti02)介質(zhì)膜層，b層、c層、d層分別是銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層，e層是氮化硅(Si3N4)保護(hù)膜層。所得制品的性能參數(shù)如下玻璃可見光的透過率=25%;可見光的玻面反射率=45%;可見光的玻面色坐標(biāo)3*=11;色坐標(biāo)^=36;可見光的膜面反射率=55%;可見光的膜面色坐標(biāo)3*=-1;色坐標(biāo)1)*=42;玻璃輻射率=0.06。制成結(jié)構(gòu)為6金色Low-e+12Air+6Glass中空玻璃窗的傳熱系數(shù)U=1.70W/m2，K，遮陽系數(shù)Sc-0.24，在陽光下觀看，鍍復(fù)合膜層的玻璃面顏色為金色。具體實(shí)施方式二一種復(fù)合膜層為四層的金色低輻射鍍膜玻璃采用設(shè)備同具體實(shí)施方式一。工藝參數(shù)如表2。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>表2中b層、c層、d層分別是銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層，e層是氮化硅(Si3N4)保護(hù)膜層。所得制品的性能參數(shù)如下玻璃可見光的透過率=34%;可見光的玻面反射率=44%;可見光的玻面色坐標(biāo)&*=8;色坐標(biāo)]3*=39;可見光的膜面反射率=51%;可見光的膜面色坐標(biāo)&*=-0.5;色坐標(biāo)1)*=41;玻璃輻射率=0.08。制成結(jié)構(gòu)為6金色Low-e+12Air+6Glass中空玻璃窗的傳熱系數(shù)U=1.73W/m2，K，遮陽系數(shù)Sc二0.25，在陽光下觀看，鍍復(fù)合膜層的玻璃面顏色為金色。具體實(shí)施方式三另一種復(fù)合膜層為五層的金色低輻射鍍膜玻璃采用設(shè)備同具體實(shí)施方式一。工藝參數(shù)如表3。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>表3中a層是氧化鈦(Ti02)介質(zhì)膜層，b層、c層、d層分別是銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層，e層是氮化硅(Si3N4)保護(hù)膜層。所得制品的性能參數(shù)如下玻璃可見光的透過率=26%;可見光的玻面反射率=48%;可見光的玻面色坐標(biāo)3*=9.5;色坐標(biāo)13*=39;可見光的膜面反射率=55°/。；可見光的膜面色坐標(biāo)3*=1.5;色坐標(biāo)13*=39;玻璃輻射率=0.04。制成結(jié)構(gòu)為6金色Low-e+12Air+6Glass中空玻璃窗的傳熱系數(shù)U=1.69W/m2*K，遮陽系數(shù)Sc=0.24，在陽光下觀看，鍍復(fù)合膜層的玻璃面顏色為金色。以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實(shí)施只局限于這些說明。對(duì)于本發(fā)明所屬
技術(shù)領(lǐng)域：
的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。權(quán)利要求1.一種金色低輻射鍍膜玻璃，以玻璃為基片，所述玻璃單表面鍍覆有復(fù)合膜層，所述復(fù)合膜層的最外層為一保護(hù)膜層，其特征在于所述復(fù)合膜層包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銅膜層，一層是銀膜層，緊貼保護(hù)膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層。2.如權(quán)利要求1所述的金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述金屬膜層厚度為0.1nm100nm，即為納米級(jí)膜層。3.如權(quán)利要求1或2所述的金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于在所述玻璃單表面與最下面的金屬膜層之間還設(shè)有一介質(zhì)膜層，所述介質(zhì)膜層包括鈦氧化物膜層、錫氧化物膜層、鋅氧化物膜層、鋅錫氧化物膜層、硅氧化物膜層、硅氮化物膜層。4.如權(quán)利要求3所述的金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述保護(hù)膜層包括鈦氧化物膜層、錫氧化物膜層、鋅氧化物膜層、鋅錫氧化物膜層、硅氧化物膜層、硅氮化物膜層。5.如權(quán)利要求4所述的金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述復(fù)合膜層自下而上是氧化鈦介質(zhì)膜層、銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅保護(hù)膜層。6.—種金色低輻射鍍膜玻璃制作方法，依次有以下步驟(1)清洗，對(duì)基片玻璃清洗；(2)干燥，將清洗后的所述玻璃干燥；(3)鍍覆，在干燥后的所述玻璃單表面鍍覆復(fù)合膜層，其特征在于所述步驟(3)的鍍覆是真空磁控濺射鍍覆，將干燥后的所述玻璃置入真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶材室自下而上逐層鍍覆復(fù)合膜層最外層為一保護(hù)膜層，還包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銅膜層，一層是銀膜層，緊貼保護(hù)膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層，有的還包括在所述平板玻璃單表面與最下面的金屬膜層之間設(shè)有的一介質(zhì)膜層；所述耙材室的耙材包括氧化鈦陶瓷耙、鈦耙、銀靶、銅耙、錫耙、鋅錫靶、鎳鉻靶、硅鋁靶；所述金屬膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，為純惰性氣體，包括純氬氣、純氮?dú)狻?.如權(quán)利要求6所述的金色低輻射鍍膜玻璃制作方法，其特征在于所述氧化鈦陶瓷靶為TiOx，純度為99.50%~99.99%;所述鈦靶、銀靶、銅靶、錫靶的鈦、銀、銅、錫的純度均為99.900%~99.999%;所述的鎳絡(luò)靶為格鎳重量比為20%30%的鎳鉻合金靶，鎳、鉻純度均為99.900%99.999%;所述鋅錫靶為鋅錫重量比為20%60%的鋅錫靶，鋅、錫的純度均為99.900%~99.999%;所述硅鋁靶為硅鋁重量比為10%20%的硅鋁靶，硅、鋁的純度'均為99.卯0%~99.999%。8.如權(quán)利要求6或7所述的金色低輻射鍍膜玻璃制作方法，其特征在于所述耙材室的靶型包括旋轉(zhuǎn)靶、平面靶。9.如權(quán)利要求8所述的金色低輻射鍍膜玻璃制作方法，其特征在于所述介質(zhì)膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，包括氧氬比為1%100%的氧氣和氬氣混合氣體、氬氮比為0%~80%的氬氣和氮?dú)饣旌蠚怏w；所述保護(hù)膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，包括氧氬比為0%~80%的氧氣和氬氣混合氣體、氬氮比為0%~80%的氬氣和氮?dú)饣旌蠚怏w。10.如權(quán)利要求9所述的金色低輻射鍍膜玻璃制作方法，其特征在于所述步驟(3)的鍍覆是逐層鍍覆氧化鈦介質(zhì)膜層、銅膜層、銀膜層、'鎳鉻膜層、氮化硅保護(hù)膜層，鍍覆氧化鈦介質(zhì)膜層采用鈦靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氧氣:氬氣=10.0%，或采用氧化鈦陶瓷靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氧氣:氬氣=8.0%;鍍覆銅膜層采用銅靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍覆銀膜層采用銀靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍覆鎳鉻膜層采用鎳鉻靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍制氮化硅保護(hù)膜層采用硅靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氬氣:氮?dú)?33.3%。全文摘要一種金色低輻射鍍膜玻璃，玻璃單表面鍍覆有復(fù)合膜層，復(fù)合膜層的最外層為一保護(hù)膜層，復(fù)合膜層包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銅膜層，一層是銀膜層，緊貼保護(hù)膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層。其制作方法包括清洗、干燥和鍍覆，鍍覆是真空磁控濺射鍍覆，將干燥后的玻璃置入真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶材室逐層鍍覆復(fù)合膜層。本發(fā)明選用特定的靶材、氣氛及組合替代金靶材制作金色低輻射鍍膜玻璃，具有性能優(yōu)良、色彩鮮艷且容易調(diào)節(jié)、質(zhì)量穩(wěn)定、制作效率高、成本低、易于推廣的特點(diǎn)，并能通過改變各膜層的厚度獲得不同透過率、透過色、反射率、反射色及遮陽系數(shù)、輻射率的多品種金色低輻射鍍膜玻璃，以適應(yīng)市場(chǎng)不同需求。文檔編號(hào)C03C17/36GK101244898SQ20081006565公開日2008年8月20日申請(qǐng)日期2008年1月25日優(yōu)先權(quán)日2008年1月25日發(fā)明者崔平生,志楊申請(qǐng)人:東莞南玻工程玻璃有限公司