專利名稱：高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種鍍膜玻璃，特別是涉及一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜 玻璃。
背景技術(shù)：
低輻射鍍膜玻璃(又稱LOW-E玻璃)，是在玻璃表面鍍上多層金屬或其他化合 物組成的膜系產(chǎn)品。低輻射鍍膜玻璃是一種既能像浮法玻璃一樣讓室外太陽能、可見光 透過，又像紅外線反射鏡一樣(尤其是中遠(yuǎn)紅外有很高的反射率)，將物體二次輻射熱反 射回去的新一代鍍膜玻璃。在任何氣候環(huán)境下使用，均能達(dá)到控制陽光、節(jié)約能源、熱 量控制調(diào)節(jié)及改善環(huán)境。同時無論室內(nèi)外溫差有多少，只要裝上低輻射玻璃，夏天防熱 能入室，冬天防熱能泄露，具雙向節(jié)能效果，這樣室內(nèi)花很少的空調(diào)費用便可永遠(yuǎn)維持 冬暖夏涼的境地。90年代以來，用真空磁控濺射生產(chǎn)的低輻射玻璃在歐美發(fā)展很快，其作用是在 玻璃表面鍍制可以反射遠(yuǎn)紅外線的薄膜，從而降低玻璃表面的輻射率，減少玻璃因熱輻 射而造成的傳熱損耗，以提高玻璃窗的保溫隔熱能力，由于磁控濺射方法已經(jīng)廣泛用于 大面積鍍膜，成為生產(chǎn)薄膜玻璃產(chǎn)品的主流技術(shù)。真空磁控濺射是將玻璃置于真空中， 并通入工藝氣體(氬氣、氮氣、氧氣等)，當(dāng)在濺射陰極和陽極通入電場時，由于在電場 的作用下，氣體分子電離，帶正電的氬粒子將在電場的加速下，高速向帶負(fù)電的陰極靶 材表面撞擊，將靶材表面的金屬原子或離子擊出，逐漸沉積在玻璃表面形成薄膜。但是目前所生產(chǎn)的低輻射鍍膜玻璃沒有高硬度的最外層保護(hù)層，在運輸過程中 極易損壞，不能實現(xiàn)異地加工。且生產(chǎn)出的低輻射鍍膜玻璃的玻璃表面的輻射率仍然較 高，無法實現(xiàn)較好的隔熱效果。

實用新型內(nèi)容為了解決現(xiàn)有技術(shù)中生產(chǎn)低輻射鍍膜玻璃不能承受長途運輸，易損壞，且不具 有金色效果，隔熱效果較差的問題，本實用新型提供了一種高性能低輻射可鋼化金色鍍 膜玻璃。為了達(dá)到上述目的，本實用新型所采取的技術(shù)方案是1、一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于自玻 璃基板向外依次包括電介質(zhì)層1、電介質(zhì)層2、電介質(zhì)層3、保護(hù)層1、阻隔紅外線層、 保護(hù)層2、電介質(zhì)層4、電介質(zhì)層5;所述電介質(zhì)層1為SiOxNy，所述電介質(zhì)層2為 Si3N4，所述電介質(zhì)層3為TiO2,所述保護(hù)層1和保護(hù)層2為NiCr合金，所述電介質(zhì)層4 為ZnSnO3,所述合電介質(zhì)層5為Si3N4，所述阻隔紅外線層為Ag。前述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于電介質(zhì)層1、電 介質(zhì)層2、電介質(zhì)層3、電介質(zhì)層4采用交流雙陰極旋轉(zhuǎn)靶。前述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所述電介質(zhì)層1
3和電介質(zhì)層2的總膜厚為15nm 20nm，電介質(zhì)層1和電介質(zhì)層2作用是a、阻止玻璃中的Na+向膜層中滲透，b、調(diào)整玻璃的顏色。前述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所述電介質(zhì)層3 的膜厚為5nm lOrnn，電介質(zhì)層3作用是a、提高玻璃的物理和化學(xué)性能，b、調(diào)整玻 璃的顏色。前述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所述保護(hù)層1或 保護(hù)層2的膜厚為Irnn lOrnn，保護(hù)層1和保護(hù)層2作用是a、主要是保護(hù)Ag層不被 氧化、延長存放時間，b、保護(hù)鋼后數(shù)據(jù)及顏色無太大變化。前述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所述電介質(zhì)層4 的膜厚為IOnm 20nm，所述電介質(zhì)層5的膜厚為IOnm 20nm，電介質(zhì)層4和電介質(zhì) 層5作用是a、提高玻璃的機械性能，b、保護(hù)整個膜層.阻擋空氣中的化學(xué)物質(zhì)或氧氣 侵蝕銀層。前述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所述阻隔紅外線 層的膜厚為IOnm 20nm，阻隔紅外線層作用是a、可以降低輻射率，增加保溫或隔熱 效果。本實用新型的有益效果是本實用新型的高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃， 膜層中含有具有反射紅外線能力的銀層和具有減少可見光反射以及保護(hù)銀層作用的電介 質(zhì)層，使用銀生產(chǎn)出的金色鍍膜玻璃不僅具有金色效果而且具有低輻射的特點，輻射率 小于0.075，可見光透射率大于50%，玻璃面反射率為30%左右。同時本實用新型鋼化 后膜層更耐久，抗氧化性能更好，性能更穩(wěn)定，提高了整個玻璃的強度，可以實現(xiàn)異地 加工。

圖1是本實用新型高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型作進(jìn)一步的描述。如圖1所示，真空磁控濺射的設(shè)備為馮阿登納GC330H設(shè)備，包括19個交流雙 陰極旋轉(zhuǎn)靶和7個直流平面陰極，背景真空度可以達(dá)到lO-embar，其中電介質(zhì)層1、電介 質(zhì)層2、電介質(zhì)層3、電介質(zhì)層4采用交流雙陰極旋轉(zhuǎn)靶，在玻璃表面上均勻地鍍上多層 金屬或金屬氧化物。高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃的靶位及工藝參數(shù)表
權(quán)利要求1.一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于自玻璃基 板向外依次包括電介質(zhì)層(1)、電介質(zhì)層(2)、電介質(zhì)層(3)、保護(hù)層(1)、阻隔紅外線 層、保護(hù)層(2)、電介質(zhì)層(4)、電介質(zhì)層(5)；所述電介質(zhì)層⑴為SiOxNy，所述電介 質(zhì)層(2)為Si3N4，所述電介質(zhì)層(3)為TiO2,所述保護(hù)層⑴和保護(hù)層⑵為NiCr合金， 所述電介質(zhì)層⑷為ZnSnO3,所述合電介質(zhì)層(5)為Si3N4，所述阻隔紅外線層為Ag。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于電 介質(zhì)層(1)、電介質(zhì)層(2)、電介質(zhì)層(3)、電介質(zhì)層(4)采用交流雙陰極旋轉(zhuǎn)靶。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所 述電介質(zhì)層(1)和電介質(zhì)層(2)的總膜厚為15nm 20nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所 述電介質(zhì)層(3)的膜厚為5nm IOnm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所 述保護(hù)層⑴或保護(hù)層⑵的膜厚為Inm 10腿。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所 述電介質(zhì)層⑷的膜厚為IOnm 20nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所 述電介質(zhì)層(5)的膜厚為IOnm 20nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其特征在于所 述阻隔紅外線層的膜厚為IOnm 20nm。
專利摘要本實用新型公開了一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于自玻璃基板向外依次包括電介質(zhì)層(1)、電介質(zhì)層(2)、電介質(zhì)層(3)、保護(hù)層(1)、阻隔紅外線層、保護(hù)層(2)、電介質(zhì)層(4)、電介質(zhì)層(5)。本實用新型解決了現(xiàn)有技術(shù)中生產(chǎn)低輻射鍍膜玻璃不能承受長途運輸，易損壞，且不具有金色效果，隔熱效果較差的問題，提供了一種高性能低輻射可鋼化金色鍍膜玻璃，其膜層中含有具有反射紅外線能力的銀層，使用銀生產(chǎn)出的金色鍍膜玻璃不僅具有金色效果而且具有低輻射的特點，也可以異地加工。
文檔編號C03C17/36GK201793490SQ20102027113
公開日2011年4月13日 申請日期2010年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月26日
發(fā)明者林嘉宏 申請人:林嘉宏