專利名稱：用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于實(shí)現(xiàn)分份的、特別是單人份的烹飪制備物、例如特別是酸奶或甜點(diǎn)的電氣設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
制作以奶和酵素為原料的制備物例如酸奶、或者以奶和凝乳素為原料的制備物例如白乳酪或者也稱為干奶酪(faisselle)的凝乳酪通常需要較長(zhǎng)時(shí)間的轉(zhuǎn)換(發(fā)酵)，該轉(zhuǎn)換會(huì)達(dá)到數(shù)小時(shí)。為了實(shí)現(xiàn)這些制備物而由食物通常達(dá)到的溫度是約36°C至40°C以便制作白乳酪或者凝乳酪，并且溫度是約40°C至50°C以便制作酸奶。制作甜味和/或咸味的甜食例如奶油甜食、焦糖布丁、還有蛋奶酥、(奶油雞蛋)布丁、水果蛋糕或者巧克力軟糖需要不太長(zhǎng)的烹飪時(shí)間(通常可達(dá)約一小時(shí))，但是需要較高的溫度。為了實(shí)現(xiàn)這些制備物而由食物通常達(dá)到的溫度是例如約85°C至95°C以便制作焦糖布丁。文獻(xiàn)FR 2311522公開了一種用于甜食的自動(dòng)停止電氣烹飪?cè)O(shè)備。該設(shè)備包括烹飪?nèi)萸唬撆腼內(nèi)萸槐辉O(shè)計(jì)成收納包含待烹飪食物的多個(gè)杯。熱慣性加熱裝置使得能夠在開始冷卻階段之前達(dá)到烹飪溫度并保持所述烹飪溫度。然而，所提出的結(jié)構(gòu)具有的缺點(diǎn)是，為了獲得期望的溫度分布而進(jìn)行調(diào)整比較煩瑣。并且，容器放置在加熱基部上，這產(chǎn)生不均勻加熱區(qū)域。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其中，制備物的轉(zhuǎn)變?cè)谕蝗萜鲀?nèi)是更均勻的。本發(fā)明的另一目的是提供一種用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其中，制備物的轉(zhuǎn)變從一個(gè)容器到另一容器是更均勻的。上述這些目的是使用這樣一種用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)的，該設(shè)備包括加熱基部、主蓋以及用于容納烹飪制備物的至少一個(gè)容器，特征在于，該設(shè)備還包括支架，該支架被插入在加熱基部和主蓋之間，支架包括開口，該開口用于懸掛每個(gè)容器，使得每個(gè)容器的底部遠(yuǎn)離加熱基部，支架在一個(gè)或多個(gè)容器的大部分高度上圍繞一個(gè)或多個(gè)容器。通過(guò)避免在容器和加熱基部之間的直接接觸，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備提供烹飪制備物的最佳加熱并從而改進(jìn)其感官性能。在一個(gè)或多個(gè)容器的大部分高度上圍繞一個(gè)或多個(gè)容器的支架允許通過(guò)避免利用加熱基部對(duì)一個(gè)或多個(gè)容器的一側(cè)的優(yōu)先加熱來(lái)促進(jìn)容器內(nèi)部的均勻加熱。在一個(gè)或多個(gè)容器的大部分高度上圍繞容器的支架還允許通過(guò)避免來(lái)自加熱基部的壁的部分側(cè)向加熱來(lái)促進(jìn)從一個(gè)容器到另一容器的均勻加熱，并且尤其是允許考慮使用由其它容器圍繞的一個(gè)或多個(gè)容器。此外，這樣提出的承載一個(gè)或多個(gè)容器的支架可被放置在平表面上。
根據(jù)一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式，每個(gè)容器的底部突出在支架之下。該布置允許當(dāng)支架被放置在平表面上時(shí)通過(guò)使一個(gè)或多個(gè)容器與支架中的一個(gè)或多個(gè)開口分離來(lái)便于抓握容
器。 根據(jù)一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式，支架包括環(huán)狀部，該環(huán)狀部放置在加熱基部的周邊。另外優(yōu)選地，環(huán)狀部由塑料制成。根據(jù)一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式，支架包括托盤，該托盤承載用于每個(gè)容器的一個(gè)或多個(gè)開口。另外優(yōu)選地，托盤是可拆卸的。還優(yōu)選地，支架的上部包括上邊緣，該上邊緣用于放置主蓋。還優(yōu)選地，支架的外表面包括用于握持的手柄。還優(yōu)選地，每個(gè)容器包括在上邊緣附近的肩部，該肩部抵靠在支架的相關(guān)聯(lián)的開口的邊緣上。還優(yōu)選地，加熱基部包括金屬板，該金屬板與加熱機(jī)構(gòu)相關(guān)聯(lián)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式，加熱機(jī)構(gòu)設(shè)置在金屬板的中央部?jī)?nèi)。另外優(yōu)選地，金屬板包括腔，該腔的尺寸被確定成收納定量的液體。還優(yōu)選地，加熱機(jī)構(gòu)由鎧裝加熱元件形成，該鎧裝加熱元件在腔處固定在金屬板之下。還優(yōu)選地，金屬板由鋁制成。還優(yōu)選地，該電氣設(shè)備包括控制機(jī)構(gòu)，該控制機(jī)構(gòu)保證加熱機(jī)構(gòu)在第一模式中和在第二模式中工作，該第一模式將金屬板的溫度限制到100°C以下，該第二模式允許金屬板的溫度高于100°c。還優(yōu)選地，該電氣設(shè)備包括控制機(jī)構(gòu)，該控制機(jī)構(gòu)保證加熱元件根據(jù)介于35°C和90 0C之間的至少兩個(gè)規(guī)定溫度工作。根據(jù)一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式，金屬板被收納在基座內(nèi)。另外優(yōu)選地，墊圈安裝在金屬板的周邊，以使金屬板與基座熱絕緣。另外優(yōu)選地，為了避免支架的直接加熱，支架放置在加熱基部之上、在墊圈的周邊。還優(yōu)選地，為了便于獲得在容器之下的均勻加熱，金屬板在容器的底部之下延伸。還優(yōu)選地，為了便于獲得在容器之下的均勻加熱，加熱基部包括表面加熱機(jī)構(gòu)，該表面加熱機(jī)構(gòu)安置在容器之下。


從以下參照僅作為非限定性示例所提供的附圖進(jìn)行的說(shuō)明，將清楚地了解本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點(diǎn)圖I是根據(jù)本發(fā)明的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備的前視圖；圖2是圖I所示的設(shè)備的分解立體圖；圖3是圖I和圖2所示的設(shè)備的橫截面圖；圖4是圖I至圖3所示的設(shè)備的加熱基部的分解立體圖；圖5是圖4所示的加熱基部的橫截面圖。
具體實(shí)施例方式圖I至圖5示出一種用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備的一個(gè)實(shí)施方式。圖I示出一種用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，該設(shè)備包括加熱基部I、用于至少一個(gè)容器4的支架2、以及主蓋3，該至少一個(gè)容器4用于收納烹飪制備物。根據(jù)本發(fā)明，能夠在容器中制備不同類型的以奶為原料的甜食和制備物。如圖I所示，支架2被插入在加熱基部I和主蓋3之間。這樣，支架2具有下邊緣23，下邊緣23放置在加熱基部I的周邊，并且支架2的上部包括上邊緣24，上邊緣24用于放置主蓋3。支架2的外表面包括用于握持的手柄25。如圖2所示，支架2包括環(huán)狀部20，環(huán)狀部20放置在加熱基部I的周邊。環(huán)狀部 20構(gòu)成支架2的側(cè)壁。握持手柄25從環(huán)狀部20延伸。環(huán)狀部20優(yōu)選地由具有低導(dǎo)熱性的材料例如塑料制成。支架2還包括托盤21，托盤21大致平行于加熱基部I。托盤21占據(jù)環(huán)狀部20的內(nèi)部空間。根據(jù)本發(fā)明，托盤21配備有開口 22。這些開口 22允許將容器4設(shè)置在用于實(shí)現(xiàn)烹飪制備物的電氣設(shè)備內(nèi)。根據(jù)所示的實(shí)施變型例，托盤21包括十二個(gè)開口 22。在不脫離本發(fā)明范圍的情況下，能夠?qū)嵤┎煌瑪?shù)量的開口并且尤其是能夠僅設(shè)置單個(gè)開口用于單個(gè)容器，支架2在所述容器的大部分高度上圍繞所述容器。這樣，支架2包括至少一個(gè)開口22，該開口 22用于懸掛每個(gè)容器4，使得每個(gè)容器4的底部41遠(yuǎn)離加熱基部I。托盤21承載用于每個(gè)容器4的一個(gè)或多個(gè)開口 22。如圖3的截面圖更確切地示出，支架2允許將容器4懸掛在加熱基部I之上。這樣，根據(jù)本發(fā)明的特征之一，容器4不放置在加熱基部I上。相反，容器4的底部41與加熱基部I間隔一高度h。舉例來(lái)說(shuō)，高度h介于2mm和15mm之間，且優(yōu)選介于3mm和IOmm之間。在圖3可以看出，支架2在容器4的大部分高度上圍繞容器4。具體地，支架2沿著在開口 22之下延伸的容器4的側(cè)壁的大部分延伸，并且稍許在容器4的底部41之上停止。這樣，每個(gè)容器4的底部41在支架2之下突出。每個(gè)容器4包括在上邊緣43附近的肩部42。這樣，當(dāng)容器4被安置在支架2內(nèi)時(shí)，肩部2抵靠在支架2的相關(guān)聯(lián)的開口 22的邊緣26上。容器4則被鎖定平移并且到達(dá)不了加熱基部I。因此，每個(gè)容器4的下部的尺寸小于開口 22的尺寸。并且，在肩部42和開口 22的邊緣26之間的接觸區(qū)域形成一個(gè)密封區(qū)域，該密封區(qū)域允許使容器4的上部與從加熱基部I發(fā)出的熱或者可能的蒸汽排放隔離。因此，支架2包括至少一個(gè)開口 22，該開口 22用于懸掛每個(gè)容器4，使得每個(gè)容器4的底部41遠(yuǎn)離加熱基部I。根據(jù)所示的實(shí)施變型例，容器4可配備有蓋5。這些蓋5僅用于在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備中的烹飪或發(fā)酵后保存烹飪制備物。同樣，容器4可包括穿孔的內(nèi)貯器6，該穿孔的內(nèi)貯器6用于制備白乳酪或者凝乳酪。托盤21在支架2的環(huán)狀部20上的高度以及環(huán)狀部20的高度尤其允許借助于握持手柄25容易處理所有容器4。在圖示的實(shí)施變型例中，支架2使用單一部件制成。根據(jù)未示出的一個(gè)實(shí)施變型例，環(huán)狀部20的高度被確定成使得當(dāng)支架2未放置在加熱基部I上時(shí)，能夠?qū)⒅Ъ?及其容器4放置在平表面上，而不將容器4的底部41放置在該表面上。
如上所述，主蓋3放置在支架2的上邊緣24上。為了提供在主蓋3和支架2之間的一定的密閉性，主蓋3的周邊包括肩部30，肩部30抵靠支架2的上邊緣24。主蓋3還包括握持手柄31?，F(xiàn)在將參照?qǐng)D4和圖5說(shuō)明加熱基部I。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的加熱基部I包括金屬板10,金屬板10與加熱機(jī)構(gòu)12相關(guān)聯(lián)。金屬板被收納在基座16內(nèi)。基座16還包括控制面板15和用于控制加熱機(jī)構(gòu)12的相關(guān)聯(lián)的電子裝置。為了使金屬板10與基座16熱絕熱，墊圈13安裝在金屬板10的周邊。并且，間隔件14用于將金屬板10組裝在基座16上。在組裝期間，墊圈13被安裝到金屬板10的邊緣上。然后，間隔件14被嵌裝到基座16上。最后，裝備有墊圈13的金屬板10被插入到基座16內(nèi)。間隔件14還構(gòu)成支架2的下邊緣23的支承表面。間隔件14通過(guò)墊圈13與金屬板10熱絕緣，支架2不經(jīng)受過(guò)熱的溫度。在圖3中可以看出，支架2放置在加熱基部I上、在墊圈13的周邊。金屬板10例如由鋁制成，以確保在金屬板10的整個(gè)表面上的均勻的溫度分布，并且優(yōu)選使用鑄鋁制成，鑄鋁允許獲得良好的輻射來(lái)加熱容器4。在圖2和圖3中可以看出，·金屬板10在容器4的底部41之下延伸。加熱機(jī)構(gòu)12設(shè)置在金屬板10的中央部?jī)?nèi)。金屬板10可包括腔11，腔11的尺寸被確定成收納定量的液體，例如大致在金屬板10的中央。腔11的尺寸被確定成收納定量的液體例如水。舉例來(lái)說(shuō)，腔11的體積允許收納介于IOOml和200ml之間的量的水。金屬板10具有升高邊緣，該升高邊緣允許將所形成的凝結(jié)水容納在支架2之下。如果需要，金屬板10的底部可具有從升高邊緣朝腔11的斜度。加熱機(jī)構(gòu)12例如由鎧裝加熱元件形成，該鎧裝加熱元件例如在腔11處固定在金屬板10之下，這在圖4中可以看出。因此，加熱基部I包括表面加熱機(jī)構(gòu)，該表面加熱機(jī)構(gòu)安置在容器4之下，允許實(shí)現(xiàn)在容器4之下的均勻加熱。使用根據(jù)本發(fā)明的支架2允許避免在容器4和金屬加熱板10之間的直接接觸，這允許均勻化容器4內(nèi)的溫度的升高和保持。事實(shí)上，由金屬板10、托盤21和支架的環(huán)狀部20限定的空間形成用于容器4的外表面的大致均勻的加熱空間e。該加熱模式允許提高在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備內(nèi)進(jìn)行的烹飪制備的質(zhì)量。為了改善加熱空間e的隔熱，支架2由具有低導(dǎo)熱性的材料例如塑料制成。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備可在至少兩個(gè)模式中工作第一模式即所謂的干熱模式，第二模具即所謂的濕熱模式。第一模式即所謂的干熱模式特別適合于通過(guò)酵素的發(fā)酵來(lái)制備酸奶，或者通過(guò)凝乳酶的發(fā)酵來(lái)制備白乳酪或者凝乳酪。在該第一模式中，加熱空間e中的溫度針對(duì)酸奶被調(diào)節(jié)到約45°C，或者針對(duì)白乳酪或者凝乳酪被調(diào)節(jié)到約38°C。為此并且以自身公知的方式，恒溫調(diào)節(jié)裝置(未示出)調(diào)節(jié)對(duì)加熱機(jī)構(gòu)12的供電以保持加熱空間e內(nèi)的該溫度。該恒溫調(diào)節(jié)裝置包括例如CTN型傳感器，該傳感器抵靠金屬板10安裝，對(duì)于向加熱機(jī)構(gòu)12供電，具有約60 V的規(guī)定溫度以制作酸奶。第二模具即所謂的濕熱模式能夠烹飪甜食。該第二模式需要較高溫度。濕環(huán)境允許該溫度的快速升高和保持。為了實(shí)施該第二方式，腔11被填充定量的水例如150ml，并且調(diào)節(jié)溫度被增大至100°C以上，以允許蒸發(fā)容納在腔內(nèi)的水。如果需要，還可以通過(guò)交替加熱期間和停止期間來(lái)調(diào)節(jié)加熱機(jī)構(gòu)12的功率。
控制面板15允許從實(shí)施該兩個(gè)模式中的一個(gè)或另一個(gè)的不同程序中進(jìn)行選擇。制作酸奶或者白乳酪可以是使用第一模式的兩個(gè)不同程序的目標(biāo)。這樣，該電氣設(shè)備包括控制機(jī)構(gòu)，該控制機(jī)構(gòu)保證加熱機(jī)構(gòu)12在第一模式中和在第二模式中工作，該第一模式將金屬板10的溫度限制到100°C以下，該第二模式允許金屬板10的溫度大于100°C。在不脫離本發(fā)明范圍的情況下，控制面板15和相關(guān)聯(lián)的電子裝置可允許根據(jù)介于例如35°C和90°C之間的其它規(guī)定溫度工作，其中向腔11內(nèi)添加或不添加液體。因此，如前所述，根據(jù)本發(fā)明的支架2的安置通過(guò)提供在烹飪或者發(fā)酵的整個(gè)過(guò)程中的容器4的最佳加熱來(lái)改善烹飪制備物的感官質(zhì)量。并且，支架2便于在烹飪或者發(fā)酵之前和之后操縱容器4。根據(jù)未示出的一個(gè)實(shí)施方式，托盤可從環(huán)狀部上取下。因此，具有不同開口尺寸和形狀的多個(gè)托盤可以例如通過(guò)嵌裝被安裝到環(huán)狀部上。
作為變型例，加熱基部I可以包括表面加熱機(jī)構(gòu)而不是金屬板10和加熱元件12，例如固定在加熱基部I的上板之下的自粘接加熱器，或者絲網(wǎng)印刷在加熱基部I的上板下面上的加熱元件。本發(fā)明決不限定于上述的實(shí)施方式，而是包括在權(quán)利要求范圍內(nèi)的諸多變更。
權(quán)利要求
1.一種用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，所述電氣設(shè)備包括加熱基部(I)、主蓋(3)以及用于容納食物制備物的至少一個(gè)容器(4)，其特征在于，所述設(shè)備還包括支架(2)，所述支架(2 )被設(shè)置在所述加熱基部(I)和所述主蓋(3 )之間，所述支架(2 )包括開口( 22 )，所述開口( 22 )用于懸掛每個(gè)所述容器(4 )，使得每個(gè)所述容器(4 )的底部(41)遠(yuǎn)離所述加熱基部(I )，所述支架(2)在一個(gè)或多個(gè)所述容器(4)的大部分高度上圍繞一個(gè)或多個(gè)所述容器。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，每個(gè)所述容器(4)的底部(41)在所述支架(2)之下突出。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述支架(2 )包括環(huán)狀部(20 )，所述環(huán)狀部(20 )放置在所述加熱基部(I)的周邊。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述環(huán)狀部(20)由塑料制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求I至4中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述支架(2)包括托盤(21)，所述托盤(21)承載用于每個(gè)所述容器(4)的一個(gè)或多個(gè)所述開口(22)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述托盤(21)是可拆卸的。
7.根據(jù)權(quán)利要求I至6中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述支架(2 )的上部包括上邊緣(24)，所述上邊緣(24)用于放置所述主蓋(3 )。
8.根據(jù)權(quán)利要求I至7中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述支架(2)的外表面包括用于握持的手柄(25)。
9.根據(jù)權(quán)利要求I至8中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，每個(gè)所述容器(4)包括在上邊緣(43 )附近的肩部(42 )，所述肩部(42 )抵靠在所述支架(2)的相關(guān)聯(lián)的開口(22)的邊緣(26)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求I至9中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述加熱基部(I)包括金屬板(10)，所述金屬板(10)與加熱機(jī)構(gòu)(12)相關(guān)聯(lián)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述加熱機(jī)構(gòu)(12)設(shè)置在所述金屬板(10)的中央部?jī)?nèi)。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述金屬板(10)包括腔(11 )，所述腔(11)的尺寸被確定成收納定量的液體。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述加熱機(jī)構(gòu)(12)由鎧裝加熱元件形成，所述鎧裝加熱元件在所述腔(11)處固定在所述金屬板(10)之下。
14.根據(jù)權(quán)利要求10至13中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述金屬板(10)由鋁制成。
15.根據(jù)權(quán)利要求10至14中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括控制機(jī)構(gòu)，所述控制機(jī)構(gòu)保證所述加熱機(jī)構(gòu)(12)在第一模式和在第二模式中工作，所述第一模式將所述金屬板(10)的溫度限制到100°C以下，所述第二模式允許所述金屬板(10)的溫度大于100°C。
16.根據(jù)權(quán)利要求10至15中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述金屬板(10)被收納在所述加熱基部(I)的基座(16)內(nèi)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，墊圈(13)安裝在所述金屬板(10)的周邊，以使所述金屬板(10)與所述基座(16)熱絕緣。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述支架(2)放置在所述加熱基部(I)上、在所述墊圈(13)的周邊。
19.根據(jù)權(quán)利要求10至18中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其特征在于，所述金屬板(10)在所述容器(4)的底部(41)之下延伸。
20.根據(jù)權(quán)利要求I至19中任一項(xiàng)所述的用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，其 特征在于，所述加熱基部(I)包括表面加熱機(jī)構(gòu)，所述表面加熱機(jī)構(gòu)安置在所述容器(4)之下。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于實(shí)現(xiàn)分份烹飪制備物的電氣設(shè)備，該設(shè)備包括加熱基部(1)、主蓋(3)以及用于容納食物制備物的至少一個(gè)容器(4)。根據(jù)本發(fā)明，該設(shè)備還包括支架(2)，支架(2)被插入在加熱基部(1)和主蓋(3)之間，支架(2)包括開口(22)，開口(22)用于懸掛每個(gè)容器(4)，使得每個(gè)容器(4)的底部(41)遠(yuǎn)離加熱基部(1)，支架(2)在一個(gè)或多個(gè)容器(4)的大部分高度上圍繞一個(gè)或多個(gè)容器(4)。
文檔編號(hào)A23C9/12GK102970874SQ201180023756
公開日2013年3月13日 申請(qǐng)日期2011年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月18日
發(fā)明者帕特里克·夏爾, 熱拉爾·拉古巴耶, 讓-保羅·埃斯泰格諾 申請(qǐng)人:Seb公司