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用于2,3-二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜的制作方法

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用于2,3-二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及藥物中間體生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域,具體的說(shuō)是一種用于2,3- 二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜。
【背景技術(shù)】
[0002]2,3- 二氰基丙酸乙酯是一種無(wú)色透明的液體,在反應(yīng)過(guò)程中要防止副反應(yīng)發(fā)生,在化學(xué)領(lǐng)域中副反應(yīng)發(fā)生主要是由于生產(chǎn)工藝的控制不當(dāng)如溫度壓力等,或者外界環(huán)境的影響,如具有催化功能或者引發(fā)功能的金屬離子或其他物質(zhì)的引入,因此開(kāi)發(fā)出一種適用于2,3- 二氰基丙酸乙酯生產(chǎn)的反應(yīng)釜是必須的。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種可以有效防止副反應(yīng)發(fā)生并且提高反應(yīng)釜使用壽命的用于2,3- 二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜。
[0004]本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案為:一種用于2,3- 二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜,包括釜體,所述的釜體內(nèi)連接有攪拌裝置,所述的攪拌裝置包括設(shè)置在釜體頂部的攪拌電機(jī)、與攪拌電機(jī)相連的攪拌軸,所述的攪拌軸上設(shè)有攪拌槳,所述的釜體內(nèi)壁設(shè)有搪瓷層,所述的攪拌電機(jī)包括電機(jī)本體和用于連接電機(jī)和釜體的支撐架,所述的釜體上設(shè)有與支撐架連接的基座,所述的基座包括基座平臺(tái)、設(shè)置在基座平臺(tái)下方并且與釜體相連的撐腳,所述的撐腳為中空的環(huán)狀撐腳,所述的環(huán)狀撐腳的下端直徑大于上端直徑,所述的基座平臺(tái)中央設(shè)有凹槽,所述的凹槽內(nèi)填充有減震橡膠,所述的基座平臺(tái)上設(shè)有螺栓孔,所述的支撐架上對(duì)應(yīng)位置設(shè)有與螺栓孔配合的通孔。
[0005]在上述的用于2,3- 二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜中,所述的釜體上設(shè)有進(jìn)料口,所述的釜體的外側(cè)設(shè)有加熱套,所述的加熱套設(shè)有蒸汽入口和冷凝水出口。
[0006]在上述的用于2,3-二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜中,所述的釜體底部設(shè)有出料
□ O
[0007]本實(shí)用新型的方案的主要目的在于提供一種可以有效防止副反應(yīng)發(fā)生并且提高反應(yīng)釜使用壽命的用于2,3- 二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜,具體來(lái)說(shuō):
[0008]為了降低副反應(yīng)的發(fā)生,本反應(yīng)釜采用了內(nèi)鍍搪瓷層來(lái)解決傳統(tǒng)的反應(yīng)釜生銹產(chǎn)生的亞鐵離子對(duì)反應(yīng)的影響,在生產(chǎn)過(guò)程中發(fā)現(xiàn),當(dāng)鍍搪瓷層后可以有效的避免副反應(yīng)的發(fā)生,但是鍍搪瓷層的反應(yīng)釜的使用壽命只有1.5-2年,只要安裝、運(yùn)輸、生產(chǎn)過(guò)程中出現(xiàn)較大的震動(dòng)或者持續(xù)的震動(dòng)容易引起搪瓷層的剝離,在長(zhǎng)期的生產(chǎn)過(guò)程中發(fā)現(xiàn)如果將電機(jī)和釜體接觸的部位改為具有減震功能的構(gòu)件可以避免生產(chǎn)過(guò)程中持續(xù)震動(dòng)對(duì)釜體壽命的影響,雖然一般情況下如果采用傳統(tǒng)的連接構(gòu)件,該震動(dòng)是輕微的,但是在搪瓷層出現(xiàn)微小裂痕時(shí),該影響就會(huì)變得非常顯著。當(dāng)采用上小下大的環(huán)狀撐腳和設(shè)在基座平臺(tái)中央的減震橡膠配合可以有效的提高減震效果,通過(guò)改造,本反應(yīng)釜的使用壽命可以達(dá)到3-4年甚至更長(zhǎng)。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1是本實(shí)用新型的實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0010]圖2是本實(shí)用新型的實(shí)施例1的基座與支撐架配合時(shí)的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】,對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明,但不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的任何限制。
[0012]實(shí)施例1
[0013]如圖1和圖2所示,一種用于2,3- 二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜,包括釜體1,所述的釜體I內(nèi)連接有攪拌裝置2,所述的攪拌裝置2包括設(shè)置在釜體I頂部的攪拌電機(jī)3、與攪拌電機(jī)3相連的攪拌軸4,所述的攪拌軸4上設(shè)有攪拌槳5,所述的釜體I內(nèi)壁設(shè)有搪瓷層,所述的攪拌電機(jī)3包括電機(jī)本體31和用于連接電機(jī)和釜體I的支撐架32,所述的釜體I上設(shè)有與支撐架32連接的基座33,基座33為4個(gè)或8個(gè),均勻地以環(huán)形分布在釜體頂端,所述的基座33包括基座平臺(tái)34、設(shè)置在基座平臺(tái)34下方并且與釜體I相連的撐腳35,所述的撐腳35為中空的環(huán)狀撐腳,所述的環(huán)狀撐腳的下端直徑大于上端直徑,所述的基座平臺(tái)34中央設(shè)有凹槽36,所述的凹槽36內(nèi)填充有減震橡膠37,所述的基座平臺(tái)34上設(shè)有螺栓孔38,所述的支撐架32上對(duì)應(yīng)位置設(shè)有與螺栓孔38配合的通孔,所述的釜體I上設(shè)有進(jìn)料口,所述的釜體I的外側(cè)設(shè)有加熱套11,所述的加熱套11設(shè)有蒸汽入口 12和冷凝水出口 13,所述的釜體I底部設(shè)有出料口 14。
[0014]在實(shí)際應(yīng)用中,與常規(guī)的反應(yīng)釜一樣進(jìn)行操作,啟動(dòng)電機(jī)后,電機(jī)的震動(dòng)傳遞到支撐架32上,通過(guò)減震橡膠37和環(huán)狀撐腳35吸收震動(dòng)后,震動(dòng)對(duì)釜體I內(nèi)側(cè)的搪瓷層影響甚微。
[0015]以上所述的僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例,凡在本實(shí)用新型的精神和原則范圍內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于2,3- 二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜,包括釜體,所述的釜體內(nèi)連接有攪拌裝置,所述的攪拌裝置包括設(shè)置在釜體頂部的攪拌電機(jī)、與攪拌電機(jī)相連的攪拌軸,所述的攪拌軸上設(shè)有攪拌槳,其特征在于,所述的釜體內(nèi)壁設(shè)有搪瓷層,所述的攪拌電機(jī)包括電機(jī)本體和用于連接電機(jī)和釜體的支撐架,所述的釜體上設(shè)有與支撐架連接的基座,所述的基座包括基座平臺(tái)、設(shè)置在基座平臺(tái)下方并且與釜體相連的撐腳,所述的撐腳為中空的環(huán)狀撐腳,所述的環(huán)狀撐腳的下端直徑大于上端直徑,所述的基座平臺(tái)中央設(shè)有凹槽,所述的凹槽內(nèi)填充有減震橡膠,所述的基座平臺(tái)上設(shè)有螺栓孔,所述的支撐架上對(duì)應(yīng)位置設(shè)有與螺栓孔配合的通孔。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于2,3-二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜,其特征在于,所述的釜體上設(shè)有進(jìn)料口,所述的釜體的外側(cè)設(shè)有加熱套,所述的加熱套設(shè)有蒸汽入口和冷凝水出口。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于2,3-二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜,其特征在于,所述的釜體底部設(shè)有出料口。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于2,3-二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜,包括釜體,所述的釜體內(nèi)連接有攪拌裝置,所述的攪拌裝置包括設(shè)置在釜體頂部的攪拌電機(jī)、與攪拌電機(jī)相連的攪拌軸,所述的攪拌軸上設(shè)有攪拌槳,所述的釜體內(nèi)壁設(shè)有搪瓷層,所述的攪拌電機(jī)包括電機(jī)本體和用于連接電機(jī)和釜體的支撐架。本實(shí)用新型旨在提供一種可以有效防止副反應(yīng)發(fā)生并且提高反應(yīng)釜使用壽命的用于2,3-二氰基丙酸乙酯合成的反應(yīng)釜。
【IPC分類(lèi)】C07C253/00, B01J19/02, C07C255/23, B01J19/18
【公開(kāi)號(hào)】CN204619974
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520181782
【發(fā)明人】孫光強(qiáng)
【申請(qǐng)人】武穴市旭日化工有限責(zé)任公司
【公開(kāi)日】2015年9月9日
【申請(qǐng)日】2015年3月30日
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