利用β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液在微接觸印刷的應(yīng)用
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于現(xiàn)代電子技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種利用環(huán)糊精和稀土Tb配合物作為 復(fù)合綠色環(huán)保墨水在微接觸印刷中的應(yīng)用。
【背景技術(shù)】
[0002] 表面微構(gòu)建技術(shù)正逐漸體現(xiàn)出在重要應(yīng)用價(jià)值，特別是微接觸印刷技術(shù)，其能夠 在小尺寸上微圖案化，在多個(gè)領(lǐng)域特別是現(xiàn)代電子技術(shù)領(lǐng)域具有重要意義。目前可供選擇 的微接觸印刷墨水較少，也局限了表面可進(jìn)行微接觸印刷的材料，大量的材料無(wú)法用微接 觸印刷的方法制備表面圖案。因而開(kāi)發(fā)新的、穩(wěn)定的的墨水具有很大的意義。環(huán)糊精和稀 土Tb配合物復(fù)合溶液性能穩(wěn)定，成膜質(zhì)量高，可以作為一種穩(wěn)定的墨水應(yīng)用于多種材料表 面的微接觸印刷。鈰組稀土元素Tb配合物具有很強(qiáng)的磁性，可以賦予材料磁性，這種性質(zhì)可 用于換能器、寬帶機(jī)械共鳴管和高精度液態(tài)燃料噴射器等方面的應(yīng)用。目前環(huán)糊精和稀 土Tb配合物復(fù)合溶液作為微接觸印刷墨水的應(yīng)用未見(jiàn)報(bào)道。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明的目的是提供一種利用β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液在微接觸印刷 的應(yīng)用，將β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物溶液作為微接觸印刷的印刷劑，將PDMS印章的圖案轉(zhuǎn) 移至羧基化的聚乙烯基底，再通過(guò)化學(xué)鍍的方法在聚乙烯基底上得到精美的金屬圖案。
[0004] 為了實(shí)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點(diǎn)，提供了利用β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù) 合溶液在微接觸印刷的應(yīng)用，包括：
[0005] 步驟一，將β-環(huán)糊精用水溶解得到濃度為3_6g/L的β-環(huán)糊精水溶液，并在所得β-環(huán)糊精水溶液中加入稀土Tb配合物，20ΚΗζ超聲震蕩30-60min，得到β-環(huán)糊精和稀土Tb配合 物復(fù)合溶液；
[0006] 步驟二，將PDMS印章浸泡于β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液中30-40S，取出后 于^氣流中干燥30-60S，將涂有β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液的PDMS印章蓋于羧基化 的聚乙烯基底上，輕壓10-20s，將PDMS印章圖案轉(zhuǎn)移至聚乙烯基底表面，得到印有圖案的聚 乙烯基底；
[0007] 步驟三，將印有圖案的聚乙烯基底浸泡于0.1g/LPdCl2溶液中10-30S，取出后放 入用于化學(xué)鍍銅的溶液中進(jìn)行化學(xué)鍍，時(shí)間為l-l〇min，將聚乙烯基底取出之后，即可在聚 乙烯基底上得到金屬銅圖案。
[0008] 優(yōu)選的是，所述的利用β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液在微接觸印刷的應(yīng)用， 該稀土Tb配合物為1-(對(duì)乙炔基苯基)-1，3_ 丁二酮合Tb，結(jié)構(gòu)式如下：
[0010]優(yōu)選的是，所述的利用β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液在微接觸印刷的應(yīng)用， 步驟一中β-環(huán)糊精水溶液與稀土Tb配合物的用量比例為，每升β-環(huán)糊精水溶液中加入0.8g 稀土Tb配合物。
[0011]優(yōu)選的是，所述的利用β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液在微接觸印刷的應(yīng)用， 將聚乙烯基底進(jìn)行羧基化的方法為：將聚乙烯基底在45-55 %的異丙醇水溶液浸泡30-60min，再用2-3mol/L硫酸在55-65°C條件下浸泡15-20min，60-65°C真空干燥，得到羧基化 聚乙烯基底。
[0012] 優(yōu)選的是，所述的利用β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液在微接觸印刷的應(yīng)用， 步驟三中，用于化學(xué)鍍銅的溶液由4-6wt%硫酸銅、7wt%酒石酸鈉鉀、6wt%氫氧化鈉、 32wt%甲醛和余量的蒸餾水組成。
[0013] 本發(fā)明至少包括以下有益效果：
[0014] 1.通過(guò)將β_環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液作為微接觸印刷墨水在電子行業(yè)常 用的聚乙烯基底表面制備金屬圖案，為微接觸印刷行業(yè)提供了新思路。
[0015] 2.稀土Tb配合物分子中含有炔基苯環(huán)結(jié)構(gòu)，含有大共輒體系，結(jié)構(gòu)剛性，同時(shí)分子 結(jié)構(gòu)中含有二酮，與稀土Dy配位結(jié)合得到穩(wěn)定的Dy配合物，有利于得到穩(wěn)定的金屬圖案。
[0016] 3.稀土Tb配合物具有很強(qiáng)的磁性，可以賦予材料磁性，所得到的材料有望用于制 備新一代微型化的換能器、寬帶機(jī)械共鳴管和高精度液態(tài)燃料噴射器等。
[0017] 4、β-環(huán)糊精的內(nèi)部"V"字型的疏水性空穴適合容納1-(對(duì)乙炔基苯基)-1，3-丁二 酮合Tb分子進(jìn)入并固定于β-環(huán)糊精分子內(nèi)部。
[0018] 5.β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液原料易得、成本低、穩(wěn)定，綠色環(huán)保，在工業(yè) 應(yīng)用上具有很大的潛力。
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說(shuō)明書(shū)文字能夠據(jù) 以實(shí)施。
[0020] 利用β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液在微接觸印刷的應(yīng)用，包括：
[0021]步驟一，基底羧基化，將聚乙烯基底用45-55 %的異丙醇水溶液浸泡30-60min，再 用2-3mol/L硫酸在55-65°C條件下浸泡15-20min，隨后用水清洗，60-65°C真空干燥，得到羧 基化聚乙烯基底。
[0022]步驟二，制備β_環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液，將β-環(huán)糊精用水溶解得到濃度 為3_6g/L的β-環(huán)糊精水溶液，在每升β-環(huán)糊精水溶液中加入0.8g稀土Tb配合物，20kHz超聲 30-60min，得到均勻分散的β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液，其中，稀土Tb配合物為1-(對(duì)乙炔基苯基)-1，3_ 丁二酮合Tb，結(jié)構(gòu)式如下：
[0024] 步驟三，微接觸印刷，將PDMS印章浸泡于β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液中30-40s，取出后于犯氣流中干燥30-60s，將涂有β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液的PDMS印章 蓋于羧基化聚乙烯基底上，輕壓10-20s，將PDMS印章圖案轉(zhuǎn)移至聚乙烯基底表面，得到印有 圖案的聚乙烯基底。
[0025] 步驟四，化學(xué)鍍，將印有圖案的聚乙烯基底浸泡于0.1g/LPdCl2溶液中10-30s，取 出后放于由4-6wt%硫酸銅、7wt%酒石酸鈉鉀、6wt%氫氧化鈉、32wt%甲醛和余量的蒸餾 水組成的化學(xué)鍍銅液中進(jìn)行化學(xué)鍍，時(shí)間為l-l〇min。取出后即可在聚乙烯基底上得到精美 的金屬銅圖案。
[0026] 實(shí)施例1
[0027]利用β_環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液在微接觸印刷的應(yīng)用，包括：
[0028] 步驟一，基底羧基化，將聚乙烯基底用45%的異丙醇水溶液浸泡30min，再用2mol/L硫酸在55°C條件下浸泡15min，隨后用水清洗，60°C真空干燥，得到羧基化聚乙烯基底。 [0029]步驟二，制備β_環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液，將β-環(huán)糊精用水溶解得到濃度 為3g/L的β-環(huán)糊精水溶液，在每升β-環(huán)糊精水溶液中加入0.8g稀土Tb配合物，20kHz超聲 30min，得到均勻分散的β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液。
[0030] 步驟三，微接觸印刷，將PDMS印章浸泡于β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液中 30s，取出后于犯氣流中干燥30s，將涂有β-環(huán)糊精和稀土Tb配合物復(fù)合溶液的PDMS印章蓋 于羧基化聚乙烯基底上，輕壓l〇s，將PDMS印章圖案轉(zhuǎn)移至聚乙烯基底表面，得到印有圖案 的聚乙烯基底。
[0031] 步驟四，化學(xué)鍍，將印有圖案的聚乙烯基底浸泡于0.1g/LPdCl2溶液中10s，取出 后放于由4wt%硫酸銅、7wt%酒石酸鈉鉀、6wt%氫氧化鈉、32wt%甲醛和5lwt%蒸餾水組 成的化學(xué)鍍銅液中進(jìn)行化學(xué)鍍，時(shí)間為5min。取出后即可在聚乙烯基底上得到精美的金屬 銅圖