專利名稱：一種多功能連續(xù)鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于電子機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種多功能連續(xù)鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的電子薄膜制備技術(shù)一般采用磁控濺射、電子束蒸發(fā)及熱蒸發(fā)鍍膜，在以往高真空鍍膜中，多采取單一鍍膜裝置或多室的多功能鍍膜裝置。由于在鍍膜過(guò)程中需要真空的工藝環(huán)境，故均配有泵抽系統(tǒng)及相關(guān)的氣路控制及檢測(cè)系統(tǒng)；對(duì)磁控濺射靶、電子槍及熱蒸發(fā)坩堝等配備相應(yīng)的電源及手動(dòng)控制開(kāi)關(guān)；對(duì)鍍膜產(chǎn)品配有加熱系統(tǒng)；亦有一些較先進(jìn)的設(shè)備實(shí)行對(duì)整臺(tái)設(shè)備的計(jì)算機(jī)控制。
對(duì)于一些需要多種方式鍍多層膜的產(chǎn)品現(xiàn)只能采用分別進(jìn)入單一鍍膜裝置或逐一進(jìn)入多室的多功能鍍膜裝置來(lái)完成，存有如下缺陷1、由于暴露在大氣中的次數(shù)相對(duì)較多，不易保持良好的真空工藝環(huán)境，不利于連續(xù)鍍膜的質(zhì)量。2、由于工藝不能連續(xù)實(shí)現(xiàn)，造成有效溫度上升慢，鍍膜的效率低，不利于多層膜的快速生長(zhǎng)。另對(duì)于現(xiàn)有的多室的多功能鍍膜裝置雖能實(shí)現(xiàn)多種方式的鍍膜，但相對(duì)占有空間較大。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種多功能連續(xù)鍍膜裝置，它可在不破壞真空的條件下，在一個(gè)腔體內(nèi)對(duì)同一個(gè)工件分別完成磁控濺射鍍膜、電子束蒸發(fā)鍍膜和熱蒸發(fā)鍍膜。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采取以下設(shè)計(jì)方案一種多功能連續(xù)鍍膜裝置，由真空鍍膜單元裝置、泵抽系統(tǒng)、各氣路接入真空鍍膜室的氣路控制系統(tǒng)和控制各單元裝置電源開(kāi)關(guān)的電控系統(tǒng)組成，所述的真空鍍膜單元裝置包括一真空鍍膜室，其下方布控有電子槍、熱蒸發(fā)電極，下側(cè)方設(shè)立一對(duì)磁控濺射靶；還配有一基帶卷繞系統(tǒng)，該基帶卷繞系統(tǒng)由分置在真空鍍膜室兩側(cè)的放帶室、收帶室構(gòu)成。
真空鍍膜單元裝置中安裝有加熱器。
它還配有機(jī)架，真空鍍膜單元裝置固定在其上，泵抽系統(tǒng)安置在其內(nèi)；機(jī)架的兩側(cè)有用于活性固定放帶室、收帶室的小支架臺(tái)。
所述的真空室內(nèi)裝有樣品擋板、電子槍擋板、熱蒸發(fā)電極擋板和靶擋板。在電子槍與熱蒸發(fā)電極之間、熱蒸發(fā)電極與熱蒸發(fā)電極之間均設(shè)有固定擋板。
在真空鍍膜室的旁側(cè)設(shè)一用于旁路抽氣的旁抽閥。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是1、與單一功能的真空鍍膜裝置相比增加了功能；2、與多腔體多功能裝置相比，減少了真空室個(gè)數(shù)，因此降低了成本；3、有利于連續(xù)鍍膜工藝，有助于多層膜的快速生長(zhǎng)；4、采用紅外加熱方式，升溫速率快，有效溫度高，加熱面積大，均勻性好。


圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型多功能連續(xù)鍍膜裝置，由真空鍍膜單元裝置、泵抽系統(tǒng)、氣路及控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)組成，并配有一基帶卷繞系統(tǒng)。
本實(shí)用新型的改進(jìn)點(diǎn)在于所述的真空鍍膜單元裝置包括一獨(dú)立真空鍍膜室1，其可為筒形臥式雙層水冷全不銹鋼結(jié)構(gòu)。真空鍍膜單元裝置下方布控有電子槍101、一組熱蒸發(fā)電極102，下側(cè)方設(shè)立一組(一對(duì)為佳)磁控濺射靶103。真空鍍膜室1的前面開(kāi)門(mén)上可放有二個(gè)封接觀察窗，真空鍍膜室側(cè)面有兩個(gè)引線法蘭及截止閥，一個(gè)旁抽閥104。還可留有易拆卸的接口并配以相應(yīng)的盲板，用于連接其它設(shè)施。
所述的電子槍或熱蒸發(fā)電極、磁控濺射靶均設(shè)有電源控制開(kāi)關(guān)，即可是手動(dòng)的，亦可利用計(jì)算機(jī)技術(shù)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制。要求磁控濺射直流電源具有穩(wěn)流、穩(wěn)壓及限流功能。
所述的基帶卷繞系統(tǒng)由分置在真空鍍膜室兩側(cè)的放帶室2、收帶室3構(gòu)成，放帶室里有一個(gè)卷帶盤(pán)201，基帶事先纏繞在卷帶盤(pán)上，卷帶盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)受控于外面的電機(jī)，采用計(jì)算機(jī)控制基帶的行走、張力，從而使得運(yùn)行速度和時(shí)間精確可控(計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)由現(xiàn)有技術(shù)可實(shí)現(xiàn))。供帶室通過(guò)泵抽系統(tǒng)及真空鍍膜室相連的管路進(jìn)行抽氣。在行進(jìn)的基帶上面有一套加熱器6，加熱器由鹵素?zé)艚M成，加熱器可以對(duì)基帶加熱到高達(dá)900℃。
本實(shí)用新型還配有機(jī)架4，真空鍍膜單元裝置固定在其上，泵抽系統(tǒng)(包括機(jī)械泵5、分子泵7)安置在其內(nèi)；機(jī)架的兩側(cè)有用于活性固定放帶室、收帶室的小支架臺(tái)401。
所述的真空鍍膜室內(nèi)裝有樣品擋板、電子槍擋板、熱蒸發(fā)電極擋板和靶擋板。在電子槍與熱蒸發(fā)電極之間、熱蒸發(fā)電極與熱蒸發(fā)電極之間均設(shè)有固定擋板。
所述的泵抽系統(tǒng)采用二臺(tái)分子泵、機(jī)械泵對(duì)真空鍍膜室實(shí)現(xiàn)主抽，通過(guò)真空鍍膜室旁側(cè)設(shè)的旁抽閥實(shí)現(xiàn)旁路抽氣。
本實(shí)用新型可用于在長(zhǎng)帶上鍍多層膜。其工作過(guò)程是將欲鍍膜的基帶纏放在放帶室的卷帶盤(pán)上，抽真空。啟動(dòng)電機(jī)開(kāi)始走帶，并打開(kāi)控制電子槍或熱蒸發(fā)電極或磁控濺射靶的電源控制開(kāi)關(guān)(按照預(yù)先設(shè)定的次序排定順序)，以便進(jìn)行相關(guān)的電子束蒸發(fā)或熱蒸發(fā)或磁控靶濺射鍍膜。
在不做熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)時(shí)，可以做磁控濺射鍍膜。在做電子束蒸發(fā)或熱蒸發(fā)時(shí)，磁控濺射靶要撤到真空鍍膜壁附近，以免影響鍍膜。磁控靶濺射、電子束蒸發(fā)或熱蒸發(fā)時(shí)在行走狀態(tài)，膜厚均勻性能夠達(dá)到5％。
權(quán)利要求1.一種多功能連續(xù)鍍膜裝置，由真空鍍膜單元裝置、泵抽系統(tǒng)、各氣路接入真空鍍膜室的氣路控制系統(tǒng)和控制各單元裝置電源開(kāi)關(guān)的電控系統(tǒng)組成，其特征在于所述的真空鍍膜單元裝置包括一真空鍍膜室，其下方布控有電子槍、熱蒸發(fā)電極，下側(cè)方設(shè)立一對(duì)磁控濺射靶；還配有一基帶卷繞系統(tǒng)，該基帶卷繞系統(tǒng)由分置在真空鍍膜室兩側(cè)的放帶室、收帶室構(gòu)成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能連續(xù)鍍膜裝置，其特征在于真空鍍膜單元裝置中安裝有加熱器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能連續(xù)鍍膜裝置，其特征在于還配有機(jī)架，真空鍍膜單元裝置固定在其上，泵抽系統(tǒng)安置在其內(nèi)；機(jī)架的兩側(cè)有用于活性固定放帶室、收帶室的小支架臺(tái)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能連續(xù)鍍膜裝置，其特征在于所述的真空鍍膜室內(nèi)還裝有樣品擋板、電子槍擋板、熱蒸發(fā)電極擋板和靶擋板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能連續(xù)鍍膜裝置，其特征在于所述的電子槍與熱蒸發(fā)電極之間、熱蒸發(fā)電極與熱蒸發(fā)電極之間均設(shè)有固定擋板。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能連續(xù)鍍膜裝置，其特征在于所述的真空鍍膜室的旁側(cè)設(shè)一用于旁路抽氣的旁抽閥。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能連續(xù)鍍膜裝置，其特征在于所述的真空鍍膜室為筒形臥式雙層水冷全不銹鋼結(jié)構(gòu)的獨(dú)立單室。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能連續(xù)鍍膜裝置，其特征在于在真空鍍膜單元裝置中還帶有用于與其它設(shè)備連接的接口。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種多功能連續(xù)鍍膜裝置，由真空鍍膜單元裝置、泵抽系統(tǒng)、氣路及控制系統(tǒng)組成，所述的真空鍍膜單元裝置包括一真空鍍膜室，其下方布控有電子槍、熱蒸發(fā)電極，下側(cè)方設(shè)立一對(duì)磁控濺射靶；還配有一基帶卷繞系統(tǒng)，該基帶卷繞系統(tǒng)由分置在真空鍍膜室兩側(cè)的放帶室、收帶室構(gòu)成。它還配有機(jī)架，真空鍍膜單元裝置固定在其上，泵抽系統(tǒng)安置在其內(nèi)；機(jī)架的兩側(cè)有用于活性固定放帶室、收帶室的小支架臺(tái)。所述的真空室內(nèi)裝有樣品擋板、電子槍擋板、熱蒸發(fā)舟擋板和靶擋板。在電子槍與熱蒸發(fā)舟之間、熱蒸發(fā)舟與熱蒸發(fā)舟之間均設(shè)有固定擋板。本裝置可用于在長(zhǎng)帶上開(kāi)發(fā)多種材料多層膜。
文檔編號(hào)C23C14/56GK2844137SQ200520106339
公開(kāi)日2006年12月6日 申請(qǐng)日期2005年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月25日
發(fā)明者楊堅(jiān), 古宏偉, 馮彬, 金振奎, 劉慧舟, 屈飛, 馬平 申請(qǐng)人:北京有色金屬研究總院