本實(shí)用新型涉及焊接設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種新型磁性升降裝置。

背景技術(shù)：

數(shù)控等離子切割機(jī)的割炬是執(zhí)行切割任務(wù)的關(guān)鍵部件，在復(fù)雜的切割工作環(huán)境里，存在由于操作工人觀(guān)察范圍受限，等離子割炬上的等離子槍經(jīng)常碰撞，容易損壞等離子槍?zhuān)黾邮褂贸杀?，且易?duì)工件造成損傷，目前等離子割距升降雖然安裝了護(hù)板，但防護(hù)效果差，在切割過(guò)程中鐵渣等飛濺物容易粘附在滑軌上，造成升降機(jī)構(gòu)損壞、卡死現(xiàn)象的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的是為克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種新型磁性升降裝置。本實(shí)用新型為了解決由于操作工人觀(guān)察范圍受限，等離子割炬上的等離子槍經(jīng)常碰撞，容易損壞等離子槍?zhuān)黾邮褂贸杀?，且易?duì)工件造成損傷，目前等離子割距升降雖然安裝了護(hù)板，但防護(hù)效果差，在切割過(guò)程中鐵渣等飛濺物容易粘附在滑軌上，造成升降機(jī)構(gòu)損壞、卡死現(xiàn)象的問(wèn)題。

本實(shí)用新型采用下述技術(shù)方案：一種新型磁性升降裝置，它包括升降部、檢測(cè)執(zhí)行部、防護(hù)部；

所述升降部包括框架體、電機(jī)，所述框架體上端通過(guò)上軸承座安裝有上軸承，框架體下端通過(guò)下軸承座安裝有下軸承，所述上軸承和下軸承之間裝配有絲桿，所述絲桿頂端通過(guò)安裝在框架體頂端的減速機(jī)與電機(jī)連接，上軸承與下軸承之間的絲桿上裝配有絲桿滑塊，所述絲桿滑塊左端通過(guò)左滑軌滑塊與豎直裝配在框架體上的左滑軌連接，絲桿滑塊右端通過(guò)右滑軌滑塊與豎直裝配在框架體上的右滑軌連接；

所述檢測(cè)執(zhí)行部包括第一割炬連接板、安裝在絲桿滑塊上的第二割炬連接板，所述第二割炬連接板內(nèi)鑲嵌有多個(gè)光電檢測(cè)塊，所述第一割炬連接板內(nèi)鑲嵌有與所述光電檢測(cè)塊位置一一對(duì)應(yīng)的多個(gè)光電接近開(kāi)關(guān)，多個(gè)所述光電接近開(kāi)關(guān)均通過(guò)控制器與電機(jī)電路連接，第一割炬連接板內(nèi)還鑲嵌有多個(gè)強(qiáng)磁鐵且第一割炬連接板通過(guò)多個(gè)所述強(qiáng)磁鐵吸附在第二割炬連接板上，第一割炬連接板上還裝配有等離子槍卡子，所述等離子槍卡子內(nèi)卡裝有等離子槍?zhuān)?/p>

所述防護(hù)部包括左防塵板、右防塵板、上防塵板，所述左防塵板安裝在左滑軌與等離子槍之間的框架體上，所述右防塵板安裝在右滑軌與等離子槍之間的框架體上，所述上防塵板安裝在上軸承與等離子槍之間的框架體上；

所述第二割炬連接板頂端通過(guò)防掉落鋼絲與第一割炬連接板的頂端連接；所述第二割炬連接板為鐵磁性連接板。

優(yōu)選的，所述上軸承為深溝球軸承與推力球軸承組合，且深溝球軸承位于推力球軸承上端。

優(yōu)選的，所述第二割炬連接板的材質(zhì)為鐵材質(zhì)。

優(yōu)選的，所述光電檢測(cè)塊和光電接近開(kāi)關(guān)均設(shè)置為三個(gè)。

本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置多個(gè)光電檢測(cè)塊及多個(gè)光電接近開(kāi)關(guān)，當(dāng)?shù)入x子槍發(fā)生碰撞時(shí)，光電接近開(kāi)關(guān)與光電檢測(cè)塊分離，光電接近開(kāi)關(guān)檢測(cè)到到異常信號(hào)并通過(guò)控制器控制電機(jī)急停，防止損壞等離子槍?zhuān)档途S修及更換成本，不易損傷工件，通過(guò)在左滑軌與等離子槍之間設(shè)置左防塵板，在右滑軌與等離子槍之間設(shè)置右防塵板，在上軸承與等離子槍之間設(shè)置上防塵板，防止鐵渣飛濺到左滑軌和右滑軌上，防護(hù)效果好。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1的左視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是圖1的俯視局部剖視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是圖1的局部剖視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是圖2的局部剖視結(jié)構(gòu)示意圖；

其中框架體1、上軸承2、下軸承3、絲桿4、減速機(jī)5、電機(jī)6、絲桿滑塊7、左滑軌8、右滑軌9、第一割炬連接板10、第二割炬連接板11、光電檢測(cè)塊12、光電接近開(kāi)關(guān)13、強(qiáng)磁鐵14、等離子槍卡子15、等離子槍16、左防塵板17、右防塵板18、上防塵板19、防掉落鋼絲20。

具體實(shí)施方式

這里需要說(shuō)明的是，所述方位詞左、右、上、下均是以圖1所示的視圖為基準(zhǔn)定義的，應(yīng)當(dāng)理解，所述方位詞的使用不應(yīng)限制本申請(qǐng)所請(qǐng)求的保護(hù)范圍。

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。

如圖1至圖5所示，一種新型磁性升降裝置，它包括升降部、檢測(cè)執(zhí)行部、防護(hù)部；

所述升降部包括框架體1、電機(jī)6，所述框架體1上端通過(guò)上軸承座安裝有上軸承2，框架體1下端通過(guò)下軸承座安裝有下軸承3，所述上軸承2和下軸承3之間裝配有絲桿4，所述絲桿4頂端通過(guò)安裝在框架體1頂端的減速機(jī)5與電機(jī)6連接，上軸承2與下軸承3之間的絲桿4上裝配有絲桿滑塊7，所述絲桿滑塊7左端通過(guò)左滑軌滑塊與豎直裝配在框架體1上的左滑軌8連接，絲桿滑塊7右端通過(guò)右滑軌滑塊與豎直裝配在框架體1上的右滑軌9連接；

所述檢測(cè)執(zhí)行部包括第一割炬連接板10、安裝在絲桿滑塊7上的第二割炬連接板11，所述第二割炬連接板11內(nèi)鑲嵌有多個(gè)光電檢測(cè)塊12，所述第一割炬連接板10內(nèi)鑲嵌有與所述光電檢測(cè)塊12位置一一對(duì)應(yīng)的多個(gè)光電接近開(kāi)關(guān)13，多個(gè)所述光電接近開(kāi)關(guān)13均通過(guò)控制器與電機(jī)6電路連接，第一割炬連接板10內(nèi)還鑲嵌有多個(gè)強(qiáng)磁鐵14且第一割炬連接板10通過(guò)多個(gè)所述強(qiáng)磁鐵14吸附在第二割炬連接板11上，第一割炬連接板10上還裝配有等離子槍卡子15，所述等離子槍卡子15內(nèi)卡裝有等離子槍16；

所述防護(hù)部包括左防塵板17、右防塵板18、上防塵板19，所述左防塵板17安裝在左滑軌8與等離子槍16之間的框架體1上，所述右防塵板18安裝在右滑軌8與等離子槍16之間的框架體1上，所述上防塵板19安裝在上軸承2與等離子槍16之間的框架體1上；

所述第二割炬連接板11頂端通過(guò)防掉落鋼絲20與第一割炬連接板10的頂端連接；所述第二割炬連接板11為鐵磁性連接板。

工作時(shí)，將電機(jī)6接通電源，電機(jī)6通過(guò)減速機(jī)5帶動(dòng)絲桿4旋轉(zhuǎn)，絲桿4帶動(dòng)絲桿滑塊7、左滑軌滑塊、右滑軌滑塊同時(shí)在左滑軌8及右滑軌9上沿豎直方向移動(dòng)，同時(shí)絲桿滑塊7通過(guò)第二割炬連接板11、第一割炬連接板10以及等離子槍卡子15帶動(dòng)等離子槍16完成升降運(yùn)動(dòng)；當(dāng)?shù)入x子槍16與工件發(fā)生碰撞時(shí)，在撞擊力作用下吸附在第二割炬連接板11上的多個(gè)強(qiáng)磁鐵14與第二割炬連接板11分離，致使第一割炬連接板10與第二割炬連接板11脫離，與此同時(shí)，第一割炬連接板10上的一個(gè)或多個(gè)光電接近開(kāi)關(guān)13與第二割炬連接板11上的光電檢測(cè)塊12分離，光電接近開(kāi)關(guān)13感應(yīng)到光電檢測(cè)塊12反射光線(xiàn)信號(hào)異常并將異常信號(hào)傳輸給控制器，控制器控制電機(jī)6急停，進(jìn)而防止等離子槍16與工件的進(jìn)一步碰撞，避免損壞；切割過(guò)程中的飛濺物會(huì)被左防塵板17、右防塵板18、以及上防塵板19遮擋，防止飛濺物對(duì)左滑軌8、右滑軌9造成損傷。當(dāng)需要再次進(jìn)行切割作業(yè)時(shí)，將第一割炬連接板10上的強(qiáng)磁鐵14重新吸附在第二割炬連接板11上，并使得光電接近開(kāi)關(guān)13與光電檢測(cè)塊12復(fù)位，方可進(jìn)行作業(yè)。

在上述技術(shù)方案基礎(chǔ)上，所述上軸承2為深溝球軸承與推力球軸承組合，且深溝球軸承位于推力球軸承上端。如此設(shè)置，上軸承2既可以承受來(lái)自于絲桿4的軸向力，也可以承受來(lái)自于絲桿4的徑向力，等離子槍切割定位準(zhǔn)確。

在上述技術(shù)方案基礎(chǔ)上，所述第二割炬連接板的材質(zhì)為鐵材質(zhì)。如此設(shè)置，強(qiáng)磁鐵14吸附效果好，成本低。

在上述技術(shù)方案基礎(chǔ)上，所述光電檢測(cè)塊12和光電接近開(kāi)關(guān)13均設(shè)置為三個(gè)。如此設(shè)置，滿(mǎn)足不同位置的光電檢測(cè)要求，檢測(cè)效果好。

對(duì)本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制，所屬領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白，在本實(shí)用新型的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性勞動(dòng)即可做出的各種修改或變形仍在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍以?xún)?nèi)。