本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種監(jiān)控襯底涂布位置的方法。

背景技術(shù)：

平面顯示器件具有機身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點，得到了廣泛的應(yīng)用?，F(xiàn)有的平面顯示器件主要包括液晶顯示器件(liquidcrystaldisplay，lcd)及有機發(fā)光二極管顯示器件(organiclightemittingdisplay，oled)。

有機發(fā)光二極管顯示器件由于同時具備自發(fā)光，不需背光源、對比度高、厚度薄、視角廣、反應(yīng)速度快、可用于撓曲性面板、使用溫度范圍廣、構(gòu)造及制程較簡單等優(yōu)異特性，被認為是下一代平面顯示器的新興應(yīng)用技術(shù)。oled顯示裝置按照驅(qū)動方式可以分為無源矩陣型oled(passivematrixoled，pmoled)和有源矩陣型oled(activematrixoled，amoled)兩大類，即直接尋址和薄膜晶體管(thinfilmtransistor，tft)矩陣尋址兩類。其中，amoled具有呈陣列式排布的像素，屬于主動顯示類型，發(fā)光效能高，性能優(yōu)異。

oled顯示裝置通常包括：基板、設(shè)于基板上的陽極、設(shè)于陽極上的有機發(fā)光層、以及設(shè)于有機發(fā)光層上的陰極。工作時向有機發(fā)光層發(fā)射來自陽極的空穴和來自陰極的電子，將這些電子和空穴組合產(chǎn)生激發(fā)性電子-空穴對，并將激發(fā)性電子-空穴對從受激態(tài)轉(zhuǎn)換為基態(tài)實現(xiàn)發(fā)光。

柔性顯示是oled顯示裝置的一大特色，可變型可彎曲的柔性顯示裝置能夠給用戶帶來顛覆性的使用體驗。現(xiàn)有的柔性oled顯示面板的制作過程為：首先在玻璃基板上涂布柔性襯底材料，形成柔性襯底，隨后在所述柔性襯底上覆蓋無機薄膜，然后在所述無機薄膜上制作oled顯示結(jié)構(gòu)，得到柔性oled顯示面板；其中所述柔性襯底材料通常為聚酰亞胺(polyimide，pi)，為防止柔性襯底材料對后續(xù)工藝造成污染，無機薄膜必須完全覆蓋柔性襯底，因此，制程過程中需要對柔性襯底材料的涂布位置進行監(jiān)控，現(xiàn)有技術(shù)采用的監(jiān)控方法通常為利用人工手動測量涂布后的柔性襯底的四邊距離玻璃基板的四邊的距離，再將測量值與設(shè)計值進行比較，以判斷柔性襯底的位置是否偏離設(shè)計值，這種方法操作繁瑣，精度差，且容易因為人員過分靠近基板，給基板上增加雜質(zhì)。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種監(jiān)控襯底涂布位置的方法，能夠自動監(jiān)控襯底涂布位置，提升襯底涂布位置的監(jiān)控效率，減少因襯底涂布位置不佳帶來的工藝問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種監(jiān)控襯底涂布位置的方法，包括如下步驟：

步驟s1、提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上涂布柔性襯底材料，形成柔性襯底；

步驟s2、在所述柔性襯底和玻璃基板上沉積無機薄膜材料，得到一透明的無機層；

步驟s3、在所述無機層上沉積光阻層，對所述光阻層進行圖案化，得到數(shù)個與所述玻璃基板的邊緣垂直的條狀的位置監(jiān)控標(biāo)記；

所述數(shù)個位置監(jiān)控標(biāo)記圍繞所述玻璃基板的四邊間隔排列，所述玻璃基板的每一條邊對應(yīng)至少一個位置監(jiān)控標(biāo)記，每一個位置監(jiān)控標(biāo)記的中點到所述玻璃基板的邊緣的距離小于柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的設(shè)計值，每一個位置監(jiān)控標(biāo)記遠離所述玻璃基板的邊緣的一端到所述玻璃基板的邊緣的距離大于柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的設(shè)計值；

每一個位置監(jiān)控標(biāo)記均包括：沿所述位置監(jiān)控標(biāo)記的延伸方向等距間隔排列的刻度線；

步驟s4、拍攝所述玻璃基板上柔性襯底及位置監(jiān)控標(biāo)記的畫面，并根據(jù)拍攝到的畫面和位置監(jiān)控標(biāo)記上的刻度線識別柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的實際值，比較所述柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的實際值和柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的設(shè)計值，以監(jiān)控所述襯底涂布精度。

所述無機層包括：無機絕緣層、以及位于所述無機絕緣層上的非晶硅層。

所述無機絕緣層的材料為氧化硅和氮化硅中的一種或多種的組合。

所述步驟3中對光阻層圖案化后還得到用于圖案化所述非晶硅層的光阻圖案。

所述柔性襯底材料為聚酰亞胺。

所述刻度線包括：交替排列的多個主刻度線和多個副刻度線，所述主刻度線的高度大于所述副刻度線的高度。

相鄰的兩個主刻度線之間的距離為1mm，相鄰的一個主刻度線和一個副刻度線之間的距離為0.5mm。

每一個位置監(jiān)控標(biāo)記還包括：對應(yīng)每一個主刻度線設(shè)置的刻度值，所述刻度值表示其所對應(yīng)的主刻度線到所述玻璃基板的邊緣的距離。

所述步驟s4中通過自動光學(xué)檢測機臺拍攝所述玻璃基板上柔性襯底及位置監(jiān)控標(biāo)記的畫面。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供一種監(jiān)控襯底涂布位置的方法，通過在柔性襯底上的無機層上形成光阻層，并圖案化所述光阻層得到數(shù)個帶刻度線的位置監(jiān)控標(biāo)記，之后拍攝所述位置監(jiān)控標(biāo)記以及柔性襯底的畫面，進而通過位置監(jiān)控標(biāo)記上的刻度線識別出柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的實際值，再將該柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的實際值與柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的設(shè)計值進行比較，即可得出柔性襯底的位置是否存在偏移，相比于現(xiàn)有的人工測量的方法，能夠自動監(jiān)控襯底涂布位置，提升襯底涂布位置的監(jiān)控效率，減少因襯底涂布位置不佳帶來的工藝問題。

附圖說明

為了能更進一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制。

附圖中，

圖1為本發(fā)明的監(jiān)控襯底涂布位置的方法的步驟s1和步驟s2的俯視圖；

圖2為本發(fā)明的監(jiān)控襯底涂布位置的方法的步驟s2的剖面圖；

圖3為本發(fā)明的監(jiān)控襯底涂布位置的方法的步驟s3的俯視圖；

圖4為本發(fā)明的監(jiān)控襯底涂布位置的方法中位置監(jiān)控標(biāo)記的示意圖；

圖5為本發(fā)明的監(jiān)控襯底涂布位置的方法的步驟s4的示意圖；

圖6為本發(fā)明的監(jiān)控襯底涂布位置的方法的流程圖。

具體實施方式

為更進一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進行詳細描述。

請參閱圖6，本發(fā)明提供一種監(jiān)控襯底涂布位置的方法，包括如下步驟：

步驟s1、如圖1所示，提供一玻璃基板1，在所述玻璃基板1上涂布柔性襯底材料，形成柔性襯底2。

具體地，所述柔性襯底材料為聚酰亞胺(polyimide，pi)，所述柔性襯底2形成于所述玻璃基板1的中央，其邊緣距離所述玻璃基板1的邊緣間隔一段距離。

步驟s2、如圖1和圖2所示，在所述柔性襯底2和玻璃基板1上沉積無機薄膜材料，得到一透明的無機層3。

具體地，所述無機層3包括：無機絕緣層31、以及位于所述無機絕緣層31上的非晶硅(a-si)層32。優(yōu)選地，所述無機絕緣層31的材料為氧化硅和氮化硅中的一種或多種的組合。

步驟s3、如圖3和圖4所示，在所述無機層3上沉積光阻層，對所述光阻層進行圖案化，得到數(shù)個與所述玻璃基板1的邊緣垂直的條狀的位置監(jiān)控標(biāo)記41。

所述數(shù)個位置監(jiān)控標(biāo)記41圍繞所述玻璃基板1的四邊間隔排列，所述玻璃基板1的每一條邊對應(yīng)至少一個位置監(jiān)控標(biāo)記41，每一個位置監(jiān)控標(biāo)記41的中點到所述玻璃基板1的邊緣的距離小于柔性襯底2的邊緣到玻璃基板1的邊緣的距離的設(shè)計值，每一個位置監(jiān)控標(biāo)記41遠離所述玻璃基板1的邊緣的一端到所述玻璃基板1的邊緣的距離大于柔性襯底2的邊緣到玻璃基板1的邊緣的距離的設(shè)計值；

每一個位置監(jiān)控標(biāo)記41均包括：沿所述位置監(jiān)控標(biāo)記41的延伸方向等距間隔排列的刻度線411。

具體地，所述步驟3中對光阻層圖案化后還得到用于圖案化所述非晶硅層32的光阻圖案，也即所述光阻層為現(xiàn)有技術(shù)中用于圖案化非晶硅層32的光阻層，通過在現(xiàn)有的光罩(mask)中增加位置監(jiān)控標(biāo)記41的圖案，使得位置監(jiān)控標(biāo)記41和用于圖案化所述非晶硅層32的光阻圖案同時形成，無需增加新的光罩制程，在完成現(xiàn)有制程的同時完成對襯底位置的監(jiān)控，提升襯底涂布位置的監(jiān)控效率，提升生產(chǎn)效率。

具體地，如圖4所示，所述刻度線411包括：交替排列的多個主刻度線4111和多個副刻度線4112，所述主刻度線4111的高度大于所述副刻度線4112的高度，進一步地，相鄰的兩個主刻度線4111之間的距離為1mm，相鄰的一個主刻度線4111和一個副刻度線4112之間的距離為0.5mm，同時，在每一個位置監(jiān)控標(biāo)記41中，對應(yīng)每一個主刻度線4111設(shè)置刻度值412，所述刻度值412表示其所對應(yīng)的主刻度線4111到所述玻璃基板1的邊緣的距離。

步驟s4、如圖5所示，拍攝所述玻璃基板1上柔性襯底2及位置監(jiān)控標(biāo)記41的畫面，并根據(jù)拍攝到的畫面和位置監(jiān)控標(biāo)記41上的刻度線411識別柔性襯底2的邊緣到玻璃基板1的邊緣的距離的實際值，比較所述柔性襯底2的邊緣到玻璃基板1的邊緣的距離的實際值和柔性襯底2的邊緣到玻璃基板1的邊緣的距離的設(shè)計值，以監(jiān)控所述襯底涂布精度。

舉例說明，如圖5所示，拍攝到的畫面中，所述柔性襯底2的邊緣位于所述刻度值7和8分別對應(yīng)的主刻度線4111之間，也即所述柔性襯底2的邊緣到所述玻璃基板1的邊緣的距離為7mm至8mm，進一步地，所述柔性襯底2的邊緣位于刻度值7和8分別對應(yīng)的主刻度線4111之間的副刻度線4112的右側(cè)，也即所述柔性襯底2的邊緣到所述玻璃基板1的邊緣的距離為7mm至7.5mm之間，若柔性襯底2的邊緣到玻璃基板1的邊緣的距離的設(shè)計值為8mm，則此時可判定所述柔性襯底2的邊緣位置發(fā)生偏移，偏移距離為0.5mm至1mm，據(jù)此工作人員可以相應(yīng)調(diào)整涂布柔性襯底機臺的精度進行補值。

具體地，所述步驟s4中通過自動光學(xué)檢測機臺(aoi)拍攝所述玻璃基板1上柔性襯底2及位置監(jiān)控標(biāo)記41的畫面，所述自動光學(xué)檢測機臺還會將拍攝得到的畫面上傳到對應(yīng)的監(jiān)控系統(tǒng)供工作人員查看。

綜上所述，本發(fā)明提供一種監(jiān)控襯底涂布位置的方法，通過在柔性襯底上的無機層上形成光阻層，并圖案化所述光阻層得到數(shù)個帶刻度線的位置監(jiān)控標(biāo)記，之后拍攝所述位置監(jiān)控標(biāo)記以及柔性襯底的畫面，進而通過位置監(jiān)控標(biāo)記上的刻度線識別出柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的實際值，再將該柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的實際值與柔性襯底的邊緣到玻璃基板的邊緣的距離的設(shè)計值進行比較，即可得出柔性襯底的位置是否存在偏移，相比于現(xiàn)有的人工測量的方法，能夠自動監(jiān)控襯底涂布位置，提升襯底涂布位置的監(jiān)控效率，減少因襯底涂布位置不佳帶來的工藝問題。

以上所述，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍。