涂布機(jī)及涂布方法
【專(zhuān)利摘要】一種涂布機(jī)，包括第一前處理裝置、涂布輥、第一涂布模頭和后處理裝置，第一前處理裝置、涂布輥和后處理裝置沿基材的傳送方向依次設(shè)置；第一前處理裝置設(shè)于基材的一側(cè)，第一前處理裝置用于在基材表面粘貼膠紙或涂覆膠水，膠紙或涂覆的膠水部分覆蓋基材的表面；第一涂布模頭和涂布輥分別設(shè)于基材的兩側(cè)，第一涂布模頭和涂布輥相對(duì)設(shè)置；后處理裝置設(shè)于基材的一側(cè)，后處理裝置，用于處理基材表面的膠紙或膠水，使基材上的膠紙或膠水從基材上脫落。此外，還提供一種涂布方法。上述涂布機(jī)和涂布方法，膠紙的形狀以及膠水的涂覆形狀可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)置，在基材的表面粘貼膠紙或涂覆膠水的操作簡(jiǎn)單易行，可以滿足在基材表面進(jìn)行復(fù)雜異形圖案的涂層涂布。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
涂布機(jī)及涂布方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及一種涂布機(jī)器領(lǐng)域，尤其涉及一種涂布機(jī)及涂布方法。
【背景技術(shù)】
[0002]涂布機(jī)可以將成卷的基材，涂上一層特定功能的流體，例如膠類(lèi)、電池漿料等，并烘干后收卷。
[0003]傳統(tǒng)的涂布機(jī)，有的可以同時(shí)裝上兩個(gè)涂布模頭，分別進(jìn)行正面涂布及反面涂布。正面涂布時(shí)，可以進(jìn)行連續(xù)涂布、間歇涂布，或者簡(jiǎn)單的異形圖案涂布，如圖1中的異形圖案涂布，但是，復(fù)雜的異形圖案則無(wú)法實(shí)現(xiàn)，例如圖2和圖3中的異形涂布圖案。進(jìn)行反面涂布時(shí)，只能進(jìn)行連續(xù)涂布。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]鑒于此，有必要提供一種能夠涂布復(fù)雜異形圖案的涂布機(jī)及涂布方法。
[0005]—種涂布機(jī)，包括第一前處理裝置、涂布輥、第一涂布模頭和后處理裝置，所述第一前處理裝置、涂布輥和后處理裝置沿基材的傳送方向依次設(shè)置；
[0006]所述第一前處理裝置設(shè)于所述基材的一側(cè)，所述第一前處理裝置用于在所述基材表面粘貼膠紙或涂覆膠水，所述膠紙或涂覆的膠水部分覆蓋所述基材的表面；
[0007]所述第一涂布模頭和所述涂布輥分別設(shè)于所述基材的兩側(cè)，所述第一涂布模頭和所述涂布輥相對(duì)設(shè)置；
[0008]所述后處理裝置設(shè)于所述基材的一側(cè)，所述后處理裝置用于處理基材表面的膠紙或膠水，使所述基材上的膠紙或膠水從所述基材上脫落。
[0009]在其中一個(gè)實(shí)施例中，還包括第二涂布模頭，所述第二涂布模頭和所述第一涂布模頭分別設(shè)于所述基材的兩側(cè)。
[0010]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一前處理裝置和涂布輥位于所述基材的同一側(cè)。
[0011 ]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一前處理裝置和第一涂布模頭位于所述基材的同一側(cè)。
[0012]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述后處理裝置為光照射裝置或加熱裝置。
[0013]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述后處理裝置還包括收集裝置，所述收集裝置用于收集從所述基材表面脫落的膠紙或干固膠水。
[0014]在其中一個(gè)實(shí)施例中，還包括第二前處理裝置，所述第二前處理裝置和所述第一前處理裝置分別設(shè)于所述基材的兩側(cè)。
[0015]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一前處理裝置包括基材正面預(yù)涂單元和基材反面預(yù)涂單元，所述基材正面預(yù)涂單元用于給所述基材的正面粘貼膠紙或涂覆膠水，所述基材反面預(yù)涂單元用于給所述基材的反面粘貼膠紙或涂覆膠水。
[0016]一種涂布方法，包括以下步驟:
[0017]在基材的表面粘貼膠紙或涂覆膠水，粘貼的膠紙或涂覆的膠水部分覆蓋所述基材的表面；
[0018]在粘貼有膠紙或涂覆有膠水的所述基材表面涂布漿料；
[0019]將涂布有漿料的所述基材進(jìn)行處理，使所述膠紙或膠水從所述基材表面脫落。
[0020]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述基材包括正面和反面，在所述基材的至少一個(gè)表面粘貼膠紙或涂覆膠水。
[0021]上述涂布機(jī)和涂布方法，通過(guò)在基材的表面粘貼膠紙或涂覆膠水，粘貼的膠紙或涂覆的膠水部分覆蓋所述基材的表面，在基材表面涂布漿料后，通過(guò)將涂布有漿料的基材采用后處理裝置進(jìn)行處理，從而使膠紙或膠水失粘，從基材的表面脫落，露出未涂布漿料的區(qū)域，漿料只涂布到基材表面未粘貼膠紙或未涂覆膠水的區(qū)域，從而在基材的表面形成間歇涂布圖案或異形涂布圖案。膠紙的形狀以及膠水的涂覆形狀可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)置，在基材的表面粘貼膠紙或涂覆膠水的操作簡(jiǎn)單易行，可以滿足在基材表面進(jìn)行復(fù)雜異形圖案的涂層涂布。
【附圖說(shuō)明】
[0022]圖1為一實(shí)施例的異形圖案涂布的不意圖；
[0023]圖2為一實(shí)施例的異形圖案涂布的不意圖；
[0024]圖3為一實(shí)施例的異形圖案涂布的示意圖；
[0025]圖4為一實(shí)施方式的涂布機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清晰，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0027]請(qǐng)參閱圖4，一實(shí)施方式的涂布機(jī)100，包括第一前處理裝置10、涂布輥20、第一涂布模頭30和后處理裝置40。第一前處理裝置10、涂布輥20和后處理裝置40沿基材200的傳送方向依次設(shè)置。
[0028]第一前處理裝置10設(shè)于基材200的一側(cè)，第一前處理裝置10用于在基材200表面粘貼膠紙或涂覆膠水，膠紙或涂覆的膠水部分覆蓋基材200的表面。
[0029]第一涂布模頭30和涂布輥20分別設(shè)于基材200的兩側(cè)，第一涂布模頭30和涂布輥20相對(duì)設(shè)置。
[0030]后處理裝置40設(shè)于基材200的一側(cè)，后處理裝置40用于處理基材表面的膠紙或膠水，使基材200上的膠紙或膠水從基材上脫落。
[0031]在圖4所示的實(shí)施方式中，涂布機(jī)100還包括第二涂布模頭50，第二涂布模頭50和第一涂布模頭30分別設(shè)于基材200的兩側(cè)。此時(shí)，涂布機(jī)100包括兩個(gè)涂布模頭，能夠同時(shí)進(jìn)行雙面涂布。
[0032]進(jìn)一步的，第二涂布模頭50設(shè)于涂布輥20和后處理裝置40之間。
[0033]在圖4所示的實(shí)施方式中，涂布機(jī)100還包括支撐輥60，支撐輥60設(shè)于涂布輥20和第二涂布模頭50之間。支撐輥60和涂布輥20配合，將基材200張緊。
[0034]在一個(gè)實(shí)施方式中，第一前處理裝置10和涂布輥20位于基材200的同一側(cè)。此時(shí)，第一前處理裝置10用于給基材200背向第一涂布模頭30的表面粘貼膠紙或涂覆膠水。整個(gè)涂布流程完成后，可以在基材200背向第一涂布模頭30的表面形成間歇涂布圖形或異形涂布圖形。
[0035]在另一實(shí)施方式中，第一前處理裝置10和第一涂布模頭30位于基材200的同一側(cè)。此時(shí)，第一前處理裝置10用于給基材200面向第一涂布模頭30的表面粘貼膠紙或涂覆膠水。整個(gè)涂布流程完成后，可以在基材200面向第一涂布模頭30的表面形成間歇涂布圖形或異形涂布圖形。
[0036]可以理解，涂布機(jī)100還可以包括第二前處理裝置(圖未示)。第二前處理裝置和第一前處理裝置10分別設(shè)于基材200的兩側(cè)。此時(shí)，通過(guò)第一前處理裝置10和第二前處理裝置可以同時(shí)給基材200的兩個(gè)表面粘貼膠紙或涂覆膠水，從而在基材的兩個(gè)表面形成間歇涂布圖形或異形涂布圖形。
[0037]在另一實(shí)施方式中，第一前處理裝置10包括基材正面預(yù)涂單元(圖未示)和基材反面預(yù)涂單元(圖未示)。基材正面預(yù)涂單元用于給基材的正面粘貼膠紙或涂覆膠水，基材反面預(yù)涂單元用于給基材的反面粘貼膠紙或涂覆膠水。此時(shí)，采用第一前處理裝置10即可給基材200的兩個(gè)表面同時(shí)粘貼膠紙或涂覆膠水，從而在基材的兩個(gè)表面形成間歇涂布圖形或異形涂布圖形。
[0038]可以理解，在第一前處理裝置10和涂布輥20之間還可以設(shè)置支持輥70，用于將基材200張緊。根據(jù)實(shí)際需要，涂布機(jī)100的不同位置可以設(shè)置不同數(shù)量的支持輥。
[0039]后處理裝置40可以采用光照射基材200表面或?qū)?00進(jìn)行加熱，使基材200上的膠紙或膠水從基材上脫落?？梢岳斫?，當(dāng)基材200上粘貼的膠紙或涂覆的膠水可以采用加熱的方式去除時(shí)，后處理裝置40可以為烘箱。當(dāng)然，后處理裝置40也可以為單獨(dú)的加熱裝置。當(dāng)基材200上粘貼的膠紙或涂覆的膠水可以采用光照的方式去除時(shí)，后處理裝置40可以為光照射裝置42。例如，可以為紫外光照射裝置。
[0040]在如圖4所示的實(shí)施方式中，后處理裝置40還包括收集裝置44，收集裝置44用于收集從基材200表面脫落的膠紙或干固膠水。收集裝置44設(shè)于烘箱或加熱裝置或光照射裝置的后方。
[0041 ]上述涂布機(jī)100，通過(guò)第一前處理裝置10在基材200的表面粘貼膠紙或涂覆膠水，粘貼的膠紙或涂覆的膠水部分覆蓋所述基材200的表面，再通過(guò)第一涂布模頭30在基材200表面涂布漿料后，通過(guò)將涂布有漿料的基材采用后處理裝置40進(jìn)行處理，從而使膠紙或膠水失粘，從基材200的表面脫落，露出未涂布漿料的區(qū)域，漿料只涂布到基材200表面未粘貼膠紙或未涂覆膠水的區(qū)域，從而在基材200的表面形成間歇涂布圖案或異形涂布圖案。在實(shí)際操作中，可以根據(jù)需要對(duì)基材200的任一個(gè)表面進(jìn)行間歇或異形涂布?；蛘邔?duì)基材200的兩個(gè)表面進(jìn)行間歇或異形涂布。
[0042]相對(duì)于傳統(tǒng)的涂布機(jī)，上述涂布機(jī)100具有如下優(yōu)點(diǎn):
[0043]1、由于膠紙的形狀以及膠水的涂覆形狀可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)置，且在基材200的表面粘貼膠紙或涂覆膠水的操作簡(jiǎn)單易行，基材200的正面可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的異形圖案的涂布。
[0044]2、基材200的反面可以實(shí)現(xiàn)間歇或異形涂布，且可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的異形圖案的涂布。
[0045]3、采用上述涂布機(jī)100進(jìn)行間歇或異形涂布，操作簡(jiǎn)單，成本低。
[0046]此外，還提供一種涂布方法，包括以下步驟:
[0047]S10、在基材的表面粘貼膠紙或涂覆膠水，粘貼的膠紙或涂覆的膠水部分覆蓋基材的表面。
[0048]基材包括正面和反面，在基材的至少一個(gè)表面粘貼膠紙或涂覆膠水。也就是說(shuō)，根據(jù)實(shí)際需要，可以只對(duì)基材的正面或反面粘貼膠紙或涂覆膠水，從而在基材的正面或反面形成間歇涂布圖形或異形涂布圖形。也可以在基材的正面和反面同時(shí)粘貼膠紙或涂覆膠水，在基材的兩個(gè)表面均形成間歇涂布圖形或異形涂布圖形。
[0049]S20、在粘貼有膠紙或涂覆有膠水的基材表面涂布漿料。
[0050]S30、將涂布有漿料的基材進(jìn)行處理，使膠紙或膠水從基材表面脫落。
[0051]在實(shí)際操作中，可以對(duì)基材表面的膠紙或膠水進(jìn)行光照或加熱處理。在實(shí)際操作中，可以按照需要進(jìn)行光照或加熱處理。光照的光可以根據(jù)膠紙或膠水的性質(zhì)，以及涂層的性質(zhì)按照實(shí)際需要進(jìn)行選擇。
[0052]進(jìn)一步的，上述涂布方法還包括:
[0053]S40、收集從基材表面脫落的膠紙或膠水。
[0054]上述涂布方法，通過(guò)在基材200的表面粘貼膠紙或涂覆膠水，粘貼的膠紙或涂覆的膠水部分覆蓋所述基材200的表面，再在基材200表面涂布漿料后，通過(guò)將涂布有漿料的基材200進(jìn)行處理，從而使膠紙或膠水失粘，從基材200的表面脫落，露出未涂布漿料的區(qū)域，漿料只涂布到基材200表面未粘貼膠紙或未涂覆膠水的區(qū)域，從而在基材200的表面形成間歇涂布圖案或異形涂布圖案。膠紙的形狀以及膠水的涂覆形狀可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)置，在基材的表面粘貼膠紙或涂覆膠水的操作簡(jiǎn)單易行，可以滿足在基材表面進(jìn)行復(fù)雜異形圖案的涂層涂布?；?00的正面可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的異形圖案的涂布?；?00的反面可以實(shí)現(xiàn)間歇或異形涂布，且可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的異形圖案的涂布。上述涂布方法，操作簡(jiǎn)單，成本低。
[0055]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種涂布機(jī)，其特征在于，包括第一前處理裝置、涂布輥、第一涂布模頭和后處理裝置，所述第一前處理裝置、涂布輥和后處理裝置沿基材的傳送方向依次設(shè)置； 所述第一前處理裝置設(shè)于所述基材的一側(cè)，所述第一前處理裝置用于在所述基材表面粘貼膠紙或涂覆膠水，所述膠紙或涂覆的膠水部分覆蓋所述基材的表面； 所述第一涂布模頭和所述涂布輥分別設(shè)于所述基材的兩側(cè)，所述第一涂布模頭和所述涂布棍相對(duì)設(shè)置； 所述后處理裝置設(shè)于所述基材的一側(cè)，所述后處理裝置用于處理基材表面的膠紙或膠水，使所述基材上的膠紙或膠水從所述基材上脫落。2.如權(quán)利要求1中任一項(xiàng)所述的涂布機(jī)，其特征在于，還包括第二涂布模頭，所述第二涂布模頭和所述第一涂布模頭分別設(shè)于所述基材的兩側(cè)。3.如權(quán)利要求1或2所述的涂布機(jī)，其特征在于，所述第一前處理裝置和涂布輥位于所述基材的同一側(cè)。4.如權(quán)利要求1或2所述的涂布機(jī)，其特征在于，所述第一前處理裝置和第一涂布模頭位于所述基材的同一側(cè)。5.如權(quán)利要求2所述的涂布機(jī)，其特征在于，所述后處理裝置為光照射裝置或加熱裝置。6.如權(quán)利要求5所述的涂布機(jī)，其特征在于，所述后處理裝置還包括收集裝置，所述收集裝置用于收集從所述基材表面脫落的膠紙或干固膠水。7.如權(quán)利要求1或2所述的涂布機(jī)，其特征在于，還包括第二前處理裝置，所述第二前處理裝置和所述第一前處理裝置分別設(shè)于所述基材的兩側(cè)。8.如權(quán)利要求1所述的涂布機(jī)，其特征在于，所述第一前處理裝置包括基材正面預(yù)涂單元和基材反面預(yù)涂單元，所述基材正面預(yù)涂單元用于給所述基材的正面粘貼膠紙或涂覆膠水，所述基材反面預(yù)涂單元用于給所述基材的反面粘貼膠紙或涂覆膠水。9.一種涂布方法，其特征在于，包括以下步驟: 在基材的表面粘貼膠紙或涂覆膠水，粘貼的膠紙或涂覆的膠水部分覆蓋所述基材的表面； 在粘貼有膠紙或涂覆有膠水的所述基材表面涂布漿料； 將涂布有漿料的所述基材進(jìn)行處理，使所述膠紙或膠水從所述基材表面脫落。10.如權(quán)利要求1所述的涂布方法，其特征在于，所述基材包括正面和反面，在所述基材的至少一個(gè)表面粘貼膠紙或涂覆膠水。
【文檔編號(hào)】B05C9/10GK106076749SQ201610619906
【公開(kāi)日】2016年11月9日
【申請(qǐng)日】2016年8月1日 公開(kāi)號(hào)201610619906.0, CN 106076749 A, CN 106076749A, CN 201610619906, CN-A-106076749, CN106076749 A, CN106076749A, CN201610619906, CN201610619906.0
【發(fā)明人】關(guān)敬黨
【申請(qǐng)人】深圳市善營(yíng)自動(dòng)化股份有限公司