專利名稱：一種二極管清洗設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及二極管領(lǐng)域，特別的是涉及一種二極管清洗設(shè)備。
背景技術(shù)：
清洗是二極管酸洗工序比較重要的部分之一，其中清洗有三道，第一道為水超聲振蕩、第二、三道為IPA超聲振蕩，在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上，將三道清洗改成HF-5100A五槽超聲波清洗機，它是針對二極管行業(yè)設(shè)計、制作的專用清洗設(shè)備，是以純水和溶劑(如異丙醇)作為清洗脫水介質(zhì)，其工作原理是工件進入清洗槽內(nèi)，待清洗液浸沒工件后，超聲波和清洗介質(zhì)共同作用清洗劑溶解或浸潤附在工件表面的臟物，超聲波轟擊附在工件表面、縫隙、溝槽的臟物，加速臟物的溶解或浸潤，使臟物剝離粘附在工件表面，達到既潔凈和脫水之目的。本機特點采用當今國際清洗行業(yè)內(nèi)最先進的超聲清洗技術(shù)一超聲功率、頻率連續(xù)可調(diào)，頻率自動跟蹤及掃頻技術(shù)，使超聲波均勻并強勁有力。使用此設(shè)備更好的對材料進行清洗，達到清洗徹底的效果，從而提高質(zhì)量及減少勞動力
實用新型內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型的目的之一是提供一種二極管清洗設(shè)備。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案實現(xiàn)一種二極管清洗設(shè)備，包括操作臺，所述的操作臺上依次設(shè)置有，超聲波清洗槽、超聲波精洗槽、超聲波漂洗槽、IPA超聲波一次脫洗槽和IPA超聲波二次脫洗槽，所述的超聲波清洗槽、超聲波精洗槽、超聲波漂洗槽、IPA超聲波一次脫洗槽和IPA超聲波二次脫洗槽順序連接；所述的設(shè)備還包括用于啟動操作臺平移的平移氣缸以及用于啟動操作臺升降的升降氣缸； 所述的超聲波清洗槽、超聲波精洗槽、超聲波漂洗槽、IPA超聲波一次脫洗槽和IPA超聲波二次脫洗槽，其清洗槽內(nèi)尺寸為LXWXH=600mmX330mmX250mm，其外形尺寸為LXWXH=720mmX430mmX900mm ;所述的超聲波清洗槽、超聲波精洗槽、超聲波漂洗槽、IPA超聲波一次脫洗槽和IPA超聲波二次脫洗槽均采用不銹鋼材質(zhì)；所述的平移氣缸，其直徑選用08Onim的平移氣缸；所述的升降氣缸，其直徑選用0120的升降氣缸；所述的設(shè)備通過PLC控制。本實用新型的工藝技術(shù)方案中，該設(shè)備是以純水和異丙醇作為清洗脫水介質(zhì)，當待清洗的二極管工件進入清洗槽內(nèi)，待清洗液浸沒工件后，超聲波和清洗介質(zhì)共同作用，清洗劑溶解或浸潤附在工件表面的臟物，超聲波轟擊附在工件表面、縫隙、溝槽的臟物，加速臟物的溶解或浸潤，使臟物剝離粘附在工件表面，達到既潔凈和脫水之目的。本實用新型的有益效果在于1、原有設(shè)備人工操勞度強，需用4人操作，使用現(xiàn)在設(shè)備后，只需2人操作。[0014]2、原有設(shè)備對產(chǎn)品品質(zhì)上得不到保障，在二極管深度清洗過程，與異丙醇清洗脫水超聲效果無法控制，在二極管特性、IR漏電、VR電壓擊穿得不到有效控制。3、由于原有設(shè)備完全是人工單獨更換操作，隨機性非常大，無法做到一致性，流水作業(yè)，在使用現(xiàn)在設(shè)備后，在清洗超聲脫水時間是由PLC程序控制。4、很大程度減少了二極管PN結(jié)暴露在空氣環(huán)境中的污染，現(xiàn)實證明明顯提升了廣品品質(zhì)。

圖1為本實用新型清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖具體實施方式
下面通過具體實施例，對本實用新型做詳細的描述實施例1參考圖1，一種二極管清洗設(shè)備，包括操作臺1，所述的操作臺I上依次設(shè)置有，超聲波清洗槽21、超聲波精洗槽22、超聲波漂洗槽23、IPA超聲波一次脫洗槽24和IPA超聲波二次脫洗槽25，所述的超聲波清洗槽21、超聲波精洗槽22、超聲波漂洗槽23、IPA超聲波一次脫洗槽24和IPA超聲波二次脫洗槽25順序連接；所述的設(shè)備還包括用于啟動操作臺I平移的平移氣缸31以及用于啟動操作臺升降的升降氣缸32，所述的超聲波清洗槽21、超聲波精洗槽22超聲波漂洗槽23、IPA超聲波一次脫洗槽24和IPA超聲波二次脫洗槽25，其槽內(nèi)尺寸為 LXWXH=600mmX330mmX250mm，其外形尺寸為LXWXH=720mmX430mmX900mm，所述的超聲波清洗槽21、超聲波精洗槽22超聲波漂洗槽23、IPA超聲波一次脫洗槽24和IPA超聲波二次脫洗槽25均采用不銹鋼材質(zhì)，所述的平移氣缸31，其直徑選用080mm的平移氣缸，所述的升降氣缸32，其直徑選用0120的升降氣缸，二極管清洗工藝所需的工藝設(shè)備通過PLC控 制。
權(quán)利要求1.一種二極管清洗設(shè)備，其特征在于包括操作臺，所述的操作臺上依次設(shè)置有，超聲波清洗槽、超聲波精洗槽、超聲波漂洗槽、IPA超聲波一次脫洗槽和IPA超聲波二次脫洗槽，所述的超聲波清洗槽、超聲波精洗槽、超聲波漂洗槽、IPA超聲波一次脫洗槽和IPA超聲波二次脫洗槽順序連接；所述的設(shè)備還包括用于啟動操作臺平移的平移氣缸以及用于啟動操作臺升降的升降氣缸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二極管清洗設(shè)備，其特征在于所述的超聲波清洗槽、超聲波精洗槽、超聲波漂洗槽、IPA超聲波一次脫洗槽和IPA超聲波二次脫洗槽，其清洗槽內(nèi)尺寸為 LXWXH=600mmX330mmX250mm，其外形尺寸為LXWXH=720mmX430mmX900mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二極管清洗設(shè)備，其特征在于所述的超聲波清洗槽、超聲波精洗槽、超聲波漂洗槽、IPA超聲波一次脫洗槽和IPA超聲波二次脫洗槽均采用不銹鋼材質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二極管清洗設(shè)備，其特征在于所述的平移氣缸，其直徑選用080mm的平移氣缸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二極管清洗設(shè)備，其特征在于所述的升降氣缸，其直徑選用0120的升降氣缸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二極管清洗設(shè)備，其特征在于所述的設(shè)備通過PLC控制。
專利摘要本實用新型公開了一種二極管清洗設(shè)備，包括操作臺，所述的操作臺上依次設(shè)置有，超聲波清洗槽、超聲波精洗槽、超聲波漂洗槽、IPA超聲波一次脫洗槽和IPA超聲波二次脫洗槽，所述的超聲波清洗槽、超聲波精洗槽、超聲波漂洗槽、IPA超聲波一次脫洗槽和IPA超聲波二次脫洗槽順序連接；所述的設(shè)備還包括用于啟動操作臺平移的平移氣缸以及用于啟動操作臺升降的升降氣缸。
文檔編號H01L21/67GK202871756SQ20122025147
公開日2013年4月10日 申請日期2012年5月30日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月30日
發(fā)明者黃惠平, 王秋霜, 劉秀琴, 潘建強 申請人:常州佳訊光電產(chǎn)業(yè)發(fā)展有限公司