技術(shù)總結(jié)
離合器裝置包括第一子離合器、第二子離合器和第三子離合器，第一子離合器借助第一外摩擦片支架或第一內(nèi)摩擦片支架與第一輸出軸連接，第二子離合器借助第二外摩擦片支架或第二內(nèi)摩擦片支架與第二輸出軸連接，第三子離合器構(gòu)造成將輸入軸與第一內(nèi)摩擦片支架或第一外摩擦片支架以及與第二內(nèi)摩擦片支架或第二外摩擦片支架可松開連接，第三子離合器的第三外摩擦片支架或第三內(nèi)摩擦片支架和第一內(nèi)摩擦片支架或第一外摩擦片支架和第二內(nèi)摩擦片支架或第二外摩擦片支架與共同的徑向環(huán)繞的環(huán)連接，環(huán)分界第一區(qū)域和第二區(qū)域，第三子離合器布置在第一區(qū)域中，第一子離合器和第二子離合器布置在第二區(qū)域中，第一區(qū)域和第二區(qū)域軸向相鄰。

技術(shù)研發(fā)人員：E·洛倫茨
受保護(hù)的技術(shù)使用者：舍弗勒技術(shù)股份兩合公司
文檔號碼：201611158257
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.15
技術(shù)公布日：2017.06.30