專利名稱：光盤及成形用模具裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光盤以及用于制造所述光盤的成形用模具裝置。
背景技術(shù)：
預(yù)先記錄著信息的ROM(Read Only Memory,只讀存儲(chǔ)器)型光盤(所謂的CD-ROM (Compact Disk-Read Only Memory,光盤只讀存儲(chǔ)器))、或可記錄型CD (Compact Disk, 光盤)(所謂的CD-R (Compact Disk-Recordable,可記錄光盤))等盤狀光信息記錄媒體 (光盤)，例如具有以下構(gòu)造在設(shè)置了預(yù)刻槽等的透光性基板的其中一面上形成著記
錄層及反射層。而且，所述光盤還具有以下構(gòu)成從所述基板的另一面?zhèn)?，向所述光盤
照射波長(zhǎng)通常為780 nm左右的激光光束，從而向所述記錄層中記錄數(shù)據(jù)，或者從所述 記錄層中再生數(shù)據(jù)。
此外，還提出了被稱為ROM型數(shù)字通用光盤(所謂的DVD(Digital Versatile Disc))、 及可記錄型數(shù)字通用光盤(所謂的DVD-R (Digital Versatile Disc-Recordable))的光盤， 這些光盤中預(yù)先記錄著信息。所述多個(gè)光盤具有如下構(gòu)造例如在以所述CD-R的一半 以下的間距設(shè)置著預(yù)刻槽的透光性基板的其中一面上，以與所述相同的方式形成記錄層
及反射層。而且，所述光盤還具有如下構(gòu)成從所述基板的另一面?zhèn)龋蛩龉獗P照射
波長(zhǎng)通常為630 nm 680 nm左右的激光光束，從而向所述記錄層中記錄數(shù)據(jù)，或者從 所述記錄層中再生數(shù)據(jù)。
相對(duì)于此，最近，地波數(shù)字高清TV快速普及，盤狀光信息記錄媒體的開(kāi)發(fā)不斷推 進(jìn)，所述盤狀光信息記錄媒體可使用波長(zhǎng)約為400 nm的藍(lán)紫色激光光束進(jìn)行高密度的 記錄，所述波長(zhǎng)比所述DVD-R的波長(zhǎng)更短。
例如，探討了使用增大物鏡的數(shù)值孔徑(NA， numerical aperture)的方法、或縮短 所使用的激光光束波長(zhǎng)的方法等，來(lái)減小光點(diǎn)直徑，從而提高光盤的記錄密度的方法。 此外，還提出了一種與所述多個(gè)方法對(duì)應(yīng)的光信息記錄媒體(光盤)，將透光性信息記 錄區(qū)域的厚度設(shè)為距離光信息記錄媒體的其中一個(gè)主表面0.1 mm左右，而且將NA設(shè) 為0.85左右，激光波長(zhǎng)約為400nm左右，從而進(jìn)行記錄或再生。
具體來(lái)說(shuō)，提出了一種預(yù)先記錄著信息且被稱為ROM型藍(lán)光光盤(所謂的BD (Blue-ray Disc))、或可記錄型藍(lán)光光盤(所謂的BD-R (BJue-ray Disc-Recordable))等
的光盤，所述光盤具有如下構(gòu)造在形成著螺旋狀槽的基板上，依次形成光反射層、光 記錄層以及透光層。而且，所述光盤還具有如下構(gòu)成從具有所述透光層的一面?zhèn)?，?br>
所述光盤照射波長(zhǎng)通常為400 nm 500 nm左右的藍(lán)紫色激光光束，從而將數(shù)據(jù)記錄在 所述記錄層中，或者從所述記錄層中再生數(shù)據(jù)。
這樣的光盤是在盤狀基板的其中一主表面上，視需要依次形成例如由Al合金或Ag 合金等金屬形成的反射層、記錄層、以及保護(hù)層，所述盤狀基板是使ffl聚碳酸酯等成形 性良好的樹(shù)脂，通過(guò)壓射成形而形成，且所述盤狀基板具有中心孔。并且，在所述盤狀 基板上還形成厚度為0.1 mm的由透明樹(shù)脂等形成的覆蓋層。
下述專利文獻(xiàn)1 3中，記載了像所述那樣的光盤用基板在成形時(shí)使用的成形用模 具裝置。
使用圖14 圖16，對(duì)習(xí)知成形用模具裝置的一個(gè)示例進(jìn)行說(shuō)明。圖14是表示所述 習(xí)知成形用模具裝置110的截面圖。此外，圖15是所述圖14中以D表示的虛線所包圍 的區(qū)域的放大圖。圖16是使用所述成形用模具裝置而成形的基板在厚度方向上的截面 的示意圖。成形用模具裝置110中，在固定側(cè)模具A與可動(dòng)側(cè)模具B相向面一側(cè)形成著 用以使基板成形的模腔115C。
固定側(cè)模具A具有固定側(cè)口模板111A。此外，利用省略圖示的螺栓等，將固定側(cè) 芯H2A固定在所述固定側(cè)口模板111A上。為了使模具溫度保持固定，使基板冷卻固化， 而在固定側(cè)芯U2A上設(shè)置著多個(gè)冷卻通道112C。在所述固定側(cè)芯112A的與所述模腔 U5C相向的面上，利用內(nèi)周按壓構(gòu)件114A以及外周按壓構(gòu)件U4B而安裝著壓模113。 在壓模113的構(gòu)成所述模腔115C—部分面的轉(zhuǎn)印面113F上，形成著與光盤用基板的引 導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格式信號(hào)的凹坑相對(duì)應(yīng)的凹凸。
在內(nèi)周按壓構(gòu)件114A的內(nèi)周側(cè)，鄰接設(shè)置著澆道套117。所述澆道套U7相對(duì)于所 述內(nèi)周按壓構(gòu)件114A的與所述可動(dòng)側(cè)模具B相向的表面，在垂直方向上滑動(dòng)。
熔融樹(shù)脂的流路115是由澆口部115A、流道部115B、以及用以使基板成形的模腔 115C而構(gòu)成。
可動(dòng)側(cè)模具B具有可動(dòng)側(cè)口模板111B。利用省略圖示的螺栓等，將可動(dòng)側(cè)芯U2B 固定在所述可動(dòng)側(cè)口模板111B上，所述可動(dòng)側(cè)芯112B的內(nèi)周側(cè)與內(nèi)周護(hù)圈116A嵌合， 而且所述可動(dòng)側(cè)芯112B的外周側(cè)與外周護(hù)圈116B嵌合。
在內(nèi)周護(hù)圈116A的內(nèi)周側(cè)配設(shè)著中心孔沖裁凸模(blanking punch) 118,所述中心
孔沖裁凸模118用以在基板上形成中心孔CH。此外，在中心孔沖裁凸模118的中心設(shè) 置著鑄型鎖栓(Sprue Lock Pin) 119，在取出基板時(shí)，所述鑄型鎖栓119用以推出經(jīng)澆 口部115A及流道部115B而冷卻固化的樹(shù)脂。
接著，對(duì)所述成形用模具裝置110的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。首先，利用省略圖示的鎖模機(jī) 構(gòu)，以于固定側(cè)模具A與可動(dòng)側(cè)模具B相向的面?zhèn)刃纬赡Ｇ?15C的方式以接合，并利 用高壓進(jìn)行鎖模。然后，從省略圖示的壓射缸(Injection Cylinder)壓射出對(duì)丙烯酸系樹(shù) 脂或聚碳酸酯樹(shù)脂等實(shí)行高溫加熱而熔融后的樹(shù)脂。
之后，壓射出的熔融樹(shù)脂從澆口部115A通過(guò)流道部115B，填充到用以使基板成形 的模腔115C中。
因澆口部115A、流道部115B形成在固定側(cè)芯112A的中心處，所以熔融樹(shù)脂呈放 射狀均勻地填充在流路的模腔U5C內(nèi)。
已填充到模腔115C內(nèi)的熔融樹(shù)脂，通過(guò)冷卻通道U2C中流動(dòng)的冷卻水進(jìn)行熱交換， 從而實(shí)現(xiàn)冷卻固化。由此，可在模腔115C內(nèi)形成基板121。
在上述動(dòng)作期間，利用中心孔沖裁凸模118而形成基板121的中心孔121CH。
之后，通過(guò)固定側(cè)模具A與可動(dòng)側(cè)模具B打開(kāi)所述成形用模具裝置10,如圖16所 示，取出具有中心孔121CH的盤狀基板121。
此外，經(jīng)熔融樹(shù)脂的流路115的澆口部115A及流道部115B而冷卻固化后的樹(shù)脂， 會(huì)附在可動(dòng)側(cè)模具B上，因此通過(guò)推出鑄型鎖栓119，可從成形用模具裝置110中取出 所述樹(shù)脂。
此外，在所述成形用模具裝置110中，所述壓模113的轉(zhuǎn)印面113F與內(nèi)周按壓構(gòu) 件114A的與所述模腔115C相向的前端114AF大致處于同一面，而且基板的轉(zhuǎn)印部 121TP大致形成為平坦面，所述基板的轉(zhuǎn)印部121TP轉(zhuǎn)印有所述壓模113的轉(zhuǎn)印面113F。
在所成形的基板121的轉(zhuǎn)印有所述壓模113的轉(zhuǎn)印面U3F的其中一主表面上，具 有轉(zhuǎn)印部121TP，所述轉(zhuǎn)印部121TP具備引導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格式信號(hào)的凹坑等。
視需要，在所述基板121的轉(zhuǎn)印部121TP上，依次形成省略圖示的由金屬或合金而 形成的反射層122、包含色素等的記錄層123、以及保護(hù)層124。
并且，如圖17所示，在使用中心頂蓋(center cap)126覆蓋所述基板121的中心孔 121CH的狀態(tài)下，利用旋涂法涂布透明樹(shù)脂材料128的涂布液，而形成著覆蓋所述保護(hù) 層124且厚度約為0.1 mm的由透明樹(shù)脂膜構(gòu)成的覆蓋層125，從而獲得光盤120。
從所述覆蓋層125 —側(cè)，向所述光盤120照射例如波長(zhǎng)為405 nm的激光光束，從 而進(jìn)行用戶信息等數(shù)據(jù)的記錄或再生。日本專利特開(kāi)平1-248340號(hào)公報(bào) [專利文獻(xiàn)2]日本專利特開(kāi)平2-134217號(hào)公報(bào) [專利文獻(xiàn)3]日本專利特開(kāi)平9-174618號(hào)公報(bào)
然而，像所述那樣構(gòu)成的成形用模具裝置110中存在如下問(wèn)題由于對(duì)壓模113內(nèi) 周側(cè)進(jìn)行固定的內(nèi)周按壓構(gòu)件U4A、與所述內(nèi)周側(cè)鄰接的模具構(gòu)件(例如澆道套117) 的滑動(dòng)面CS存在縫隙，而如圖16所示，容易在所成形的基板121的所述轉(zhuǎn)印部121TP 的內(nèi)周側(cè)，形成從所述平坦面突出的成形毛邊121EX。
如上所述，當(dāng)基板121的轉(zhuǎn)印部121TP的內(nèi)周側(cè)，以從具有所述轉(zhuǎn)印部121TP的平 坦面突出的方式而產(chǎn)生成形毛邊121EX時(shí)，視需要例如依次形成反射層122、記錄層123、 以及保護(hù)層124后，如圖17所示，使用中心頂蓋126并通過(guò)旋涂法形成覆蓋層125時(shí)， 無(wú)法使中心頂蓋126與所述基板121的所述平坦面貼緊。在這樣的狀態(tài)下涂布樹(shù)脂材料 時(shí)，會(huì)存在如下問(wèn)題如圖18所示，在覆蓋層125的涂膜中進(jìn)入氣泡或者在所述涂膜 上產(chǎn)生條紋狀涂布斑紋，從而容易產(chǎn)生外觀不良。
此外，還存在如下問(wèn)題從所述覆蓋層125側(cè)，向如上所述在覆蓋層125的涂膜中 進(jìn)入氣泡或者在所述涂膜上產(chǎn)生了條紋狀涂布斑紋的光盤120照射激光光束時(shí)，因?yàn)樗?述氣泡等導(dǎo)致光折射率產(chǎn)生局部變化，從而容易產(chǎn)生不良的記錄或再生。
發(fā)明內(nèi)容
如上所述，本發(fā)明的目的在于提供一種成形用模具裝置，在與轉(zhuǎn)印著壓模轉(zhuǎn)印面的 基板的轉(zhuǎn)印部大致處于同一面的內(nèi)周緣附近，不易產(chǎn)生從與所述轉(zhuǎn)印部大致同一面突出 的成形毛邊。
根據(jù)本發(fā)明，所述目的可通過(guò)以下而實(shí)現(xiàn)使所述壓模轉(zhuǎn)印面、與所述轉(zhuǎn)印面鄰接 的內(nèi)周按壓構(gòu)件的一部分表面大致處于同一面，并且使所述內(nèi)周按壓構(gòu)件的前端、及與 所述內(nèi)周按壓構(gòu)件的前端鄰接的模具構(gòu)件的前端，均從所述內(nèi)周按壓構(gòu)件的所述一部分 表面突出。
本發(fā)明的成形用模具裝置，在固定側(cè)模具與可動(dòng)側(cè)模具相向的面?zhèn)刃纬赡Ｇ?，并?所述任一模具的所述對(duì)向面?zhèn)鹊谋砻嫔希惭b其中一主表面上形成著轉(zhuǎn)印面的壓模，構(gòu) 成所述模腔的一部分面，且向所述模腔內(nèi)壓射熔融樹(shù)脂，以成形出具備中心孔的盤狀基 板。而且，所述成形用模具裝置中，所述壓模的轉(zhuǎn)印面、以及筒狀內(nèi)周按壓構(gòu)件的與所 述壓模的轉(zhuǎn)印面鄰接的一部分表面大致處于同一面，所述筒狀內(nèi)周按壓構(gòu)件保持所述壓 模的內(nèi)徑部附近。而且，所述內(nèi)周按壓構(gòu)件的與所述模腔相向的前端、以及模具構(gòu)件的
與所述模腔相向的前端，均比所述內(nèi)周按壓構(gòu)件的與所述壓模的轉(zhuǎn)印面鄰接的一部分表 面更向所述模腔內(nèi)側(cè)突出，所述模具構(gòu)件與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件鄰接并且設(shè)置在所述內(nèi)周 按壓構(gòu)件的內(nèi)周側(cè)。
因此，即便沿著內(nèi)周按壓構(gòu)件與模具構(gòu)件之間的滑動(dòng)面，在基板上產(chǎn)生了成形毛邊 的情況下，也可抑制所述成形毛邊從所述基板的其中一主表面的與所述轉(zhuǎn)印部大致處于 同一面的內(nèi)周緣附近，向上方突出，其中所述模具構(gòu)件與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件鄰接且設(shè)置 在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件的內(nèi)周側(cè)。
由此，可穩(wěn)定地生產(chǎn)如下光盤用基板可抑制沿著內(nèi)周按壓構(gòu)件與模具構(gòu)件之間的
滑動(dòng)面而在基板上產(chǎn)生的成形毛邊，從所述基板的其中一主表面的與所述轉(zhuǎn)印部大致處 于同一面的內(nèi)周緣附近，向上方突出，其中所述模具構(gòu)件與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件鄰接且設(shè) 置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件的內(nèi)周側(cè)。
此外，本發(fā)明的目的在于提供一種高品質(zhì)光盤，其并無(wú)因構(gòu)成所述覆蓋層的涂膜中 進(jìn)入氣泡或產(chǎn)生條紋狀涂布斑紋而引起的外觀不良。
此外，本發(fā)明的目的在于提供一種高品質(zhì)光盤，其不易產(chǎn)生因構(gòu)成所述覆蓋層的涂 膜中進(jìn)入氣泡或產(chǎn)生條紋狀涂布斑紋而引起的不良的記錄或再生。
根據(jù)本發(fā)明，所述目的可通過(guò)如下而實(shí)現(xiàn)具有由透明樹(shù)脂膜形成的覆蓋層，此覆 蓋層是在利用所述成形用模具裝置而成形的基板的轉(zhuǎn)印著所述壓模轉(zhuǎn)印面的轉(zhuǎn)印部上， 直接或者隔著其他層并通過(guò)旋涂法而涂布。
本發(fā)明的光盤具有由透明樹(shù)脂膜形成的覆蓋層，所述覆蓋層是從基板的與轉(zhuǎn)印著所 述壓模轉(zhuǎn)印面的轉(zhuǎn)印部大致處于同一面的內(nèi)周緣附近上，遍及所述轉(zhuǎn)印部上，直接或者 隔著其他層，使用覆蓋所述基板中心孔的中心頂蓋并通過(guò)旋涂法而涂布，所述基板是利 用所述成形用模具裝置而成形。
因此，在基板上使用中心頂蓋并利用旋涂法而涂布形成覆蓋層時(shí)，即便產(chǎn)生成形毛 邊，也可使覆蓋基板中心孔的中心頂蓋、以及所述基板的與所述轉(zhuǎn)印部大致處于同一面 的內(nèi)周緣附近貼緊，可具有能夠抑制氣泡進(jìn)入及條紋狀涂布斑紋產(chǎn)生的覆蓋層，所述覆 蓋層是由透明樹(shù)脂膜而形成。
由此，可提供一種高品質(zhì)光盤，因具備可抑制氣泡進(jìn)入及條紋狀涂布斑紋等產(chǎn)生的 覆蓋層，所以不會(huì)產(chǎn)生外觀不良，而所述覆蓋層是由透明樹(shù)脂膜形成。
此外，由此，可提供一種高品質(zhì)光盤，因具備可抑制氣泡進(jìn)入及條紋狀涂布斑紋等 產(chǎn)生的覆蓋層，所以不易產(chǎn)生不良的記錄或再生，所述覆蓋層是由透明樹(shù)脂膜形成。
本發(fā)明的所述目的及其他目的、構(gòu)成特征、以及作用效果根據(jù)以下說(shuō)明及附圖而明
7確。
圖1是表示本發(fā)明的成形用模具裝置第1實(shí)施形態(tài)的內(nèi)部構(gòu)造的截面圖。
圖2是表示第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置的所述圖1中利用C表示的虛線所包圍
的區(qū)域的部分放大截面圖。
圖3是表示使用所述第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置而成形的光盤用基板的截面示意圖。
圖4是表示在第1實(shí)施形態(tài)的光盤用基板上涂布應(yīng)作為覆蓋層的樹(shù)脂材料的狀態(tài)的 截面示意圖。
圖5是表示本發(fā)明的光盤的第1實(shí)施形態(tài)的內(nèi)部構(gòu)造的截面示意圖。 圖6是表示所述第1實(shí)施形態(tài)的變形例的成形用模具裝置的部分放大截面圖。 圖7是表示使用所述第1實(shí)施形態(tài)的變形例的成形用模具裝置而成形的光盤用基板 的截面示意圖。
圖8是表示本發(fā)明成形用模具裝置的第2實(shí)施形態(tài)的內(nèi)部構(gòu)造的部分放大截面圖。 圖9是表示使用所述第2實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置而成形的光盤用基板的截面示 意圖。
圖IO是表示本發(fā)明的光盤的第2實(shí)施形態(tài)的內(nèi)部構(gòu)造的截面示意圖。 圖11是表示本發(fā)明成形用模具裝置的第3實(shí)施形態(tài)的內(nèi)部構(gòu)造的部分放大截面圖。 圖12是表示使用所述第3實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置而成形的光盤用基板的截面 示意圖。
圖13是表示本發(fā)明的光盤的第3實(shí)施形態(tài)的內(nèi)部構(gòu)造的截面示意圖。 圖14是表示背景技術(shù)的成形用模具裝置的圖。 圖15是表示所述背景技術(shù)的成形用模具裝置的放大圖。 圖16是表示使用所述背景技術(shù)的成形用模具裝置而成形的基板的圖。 圖17是表示在使用所述背景技術(shù)的成形用模具裝置而成形的基板上涂布應(yīng)作為覆 蓋層的樹(shù)脂材料的狀態(tài)的圖。
圖18是表示背景技術(shù)的光盤的圖。 [符號(hào)的說(shuō)明〗
10、 10'、 30、 50 成形用模具裝置 11A 固定側(cè)口模板 11B
12A、 12A'、 32A、 52A 12B、 12B'、 32B、 52B 12C
13、 13'、 33、 53 13F、 13'F、 33F、 53F 14A、 14A'、 34A、 54A 14AF、 14A'F、 34AF、 54AF 14AS、 14A'S、 34AS、 54AS 14B
15、 15'、 35、 55 15A、 15A'、 35A、 55A 15B、 15B'、 35B、 55B 15C、 15C'、 35C、 55C 16A、 16A'、 36A、 56A 16A'F
16B、 16B'、 36B、 56B
17、 17'、 37、 57 17F、 37F、 57F
18、 18'、 38、 58
19、 19'、 39、 59
20、 20'、 40、 60
21、 21'、 41、 61、 121 21TP、 21TP'、 41TP、 61TP 21EX、 21EX'、 41EX、 61EX
22、 42、 62、 122
23、 43、 63、 123
24、 44、 64、 124
25、 45、 65、 125
26
27
可動(dòng)側(cè)口模板
固定側(cè)芯
可動(dòng)側(cè)芯
冷卻通道
壓模
轉(zhuǎn)印面
內(nèi)周按壓構(gòu)件 前端
一部分表面
外周按壓構(gòu)件
熔融樹(shù)脂的流路
澆口部
流道部
模腔
內(nèi)周護(hù)圈
前端
外周護(hù)圈
澆道套
前端
中心孔沖裁凸模
鑄型鎖栓
光盤
基板
轉(zhuǎn)印部
成形毛邊
反射層
記錄層
保護(hù)層
覆蓋層
中心頂蓋
轉(zhuǎn)臺(tái)
28 樹(shù)脂材料
A 固定側(cè)模具
B 可動(dòng)側(cè)模具
CH 中心孔
CS 滑動(dòng)面
具體實(shí)施例方式
以下，參照?qǐng)D1 圖3對(duì)本發(fā)明成形用模具裝置的第1實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說(shuō)明。圖l是 表示第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置10的一例的內(nèi)部構(gòu)造的截面圖。此外，圖2是所 述第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置的所述圖1中、用C表示的虛線所包圍的區(qū)域的部分 放大截面圖。圖3是表示使用所述第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置而成形的光盤用基板 21的截面示意圖。
如圖及圖2所示，第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置IO中，在固定側(cè)模具A與可 動(dòng)側(cè)模具B相向的面?zhèn)刃纬赡Ｇ?5C,所述模腔15C用以使基板成形。
所述模腔15C的上表面?zhèn)鹊南拗?，主要是通過(guò)下述壓模13的轉(zhuǎn)印面而進(jìn)行。此外， 所述模腔15C的外周的限制，主要是通過(guò)下述外周按壓構(gòu)件的圓形外周面而進(jìn)行。此外， 底面?zhèn)鹊南拗浦饕峭ㄟ^(guò)下述可動(dòng)側(cè)芯12B的上表面部分而進(jìn)行。
固定側(cè)模具A具有固定側(cè)口模板IIA。此外，利用省略圖示的螺栓等，將固定側(cè)芯 12A固定在所述固定側(cè)口模板IIA上。為了使模具溫度保持固定，使基板冷卻固化，在 所述固定側(cè)芯12A上設(shè)置著多個(gè)冷卻通道12C。在所述固定側(cè)芯12A的與所述模腔15C 相向的面?zhèn)龋ㄟ^(guò)內(nèi)周按壓構(gòu)件14A、以及環(huán)狀外周按壓構(gòu)件14B，而安裝著中央具有 開(kāi)口的大致圓板狀壓模13，所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A為中空?qǐng)A筒狀且在頂部外周側(cè)形成 著凸緣部。在壓模13中構(gòu)成所述模腔15C—部分面的轉(zhuǎn)印面13F上，形成著與省略圖 示的光盤用基板的引導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格式信號(hào)的凹坑相對(duì)應(yīng)的凹凸。此外，在所 述壓模13的內(nèi)周側(cè)設(shè)置截面曲柄狀凸緣部，以便與設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A頂部 的凸緣部嵌合。
在內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的內(nèi)周側(cè)設(shè)置澆道套17,所述澆道套17與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件 14A鄰接，且用作模具構(gòu)件。所述澆道套17相對(duì)于所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的與所述可 動(dòng)側(cè)模具B相向的表面，而在垂直方向上滑動(dòng)。
熔融樹(shù)脂的流路15是由澆口部15A、流道部15B、以及模腔15C而構(gòu)成，所述模 腔15C用以使基板成形。
可動(dòng)側(cè)模具B具有可動(dòng)側(cè)口模板IIB。利用省略圖示的螺栓等，將可動(dòng)側(cè)芯12B固 定在所述可動(dòng)側(cè)口模板11B上，所述可動(dòng)側(cè)芯12B的內(nèi)周側(cè)與內(nèi)周護(hù)圈16A嵌合，而 且所述可動(dòng)側(cè)芯12B的外周側(cè)與外周護(hù)圈16B嵌合。
在所述內(nèi)周護(hù)圈16A的內(nèi)周側(cè)配設(shè)著中心孔沖裁凸模18，所述中心孔沖裁凸模18 用以在所成形的基板上形成中心孔CH，使所述基板成為盤狀。此外，在中心孔沖裁凸 模18的中心處設(shè)置著鑄型鎖栓19,在取出基板時(shí)，所述鑄型鎖栓19用以推出經(jīng)所述熔 融樹(shù)脂的流路15內(nèi)的澆口部15A及流道部15B而冷卻固化后的樹(shù)脂。
接著，對(duì)所述成形用模具裝置10的形成光盤用基板的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。首先，利用 省略圖示的鎖模機(jī)構(gòu)，以形成模腔15C的方式接合固定側(cè)口模板11A與可動(dòng)側(cè)口模板 IIB，并利用高壓進(jìn)行鎖模。然后，從省略圖示的壓射缸中壓射出對(duì)丙烯酸系樹(shù)脂或聚 碳酸酯樹(shù)脂等進(jìn)行高溫加熱而熔融后的樹(shù)脂。
之后，壓射出的熔融樹(shù)脂從澆口部15A通過(guò)流道部15B,而填充到用以使基板成形 的模腔15C中。
澆口部15A、流道部15B形成在固定側(cè)芯12A的中心處，因此熔融樹(shù)脂呈放射狀均 勻地填充在模腔15C內(nèi)。
模腔15C中所填充的熔融樹(shù)脂，通過(guò)在冷卻通道12C中流動(dòng)的冷卻水進(jìn)行熱交換， 從而實(shí)現(xiàn)冷卻固化。由此，可在模腔15C內(nèi)形成基板21。
在所述動(dòng)作期間，利用中心孔沖裁凸模18而形成基板21的中心孔21CH。
之后，通過(guò)固定側(cè)模具A與可動(dòng)側(cè)模具B打開(kāi)所述成形用模具裝置10，如圖3所 示，取出具有中心孔21CH的盤狀基板21。
此外，經(jīng)澆口部15A及流道部15B而冷卻固化后的樹(shù)脂，附在可動(dòng)側(cè)模具B上， 因此通過(guò)推出鑄型鎖栓19，而從成形用模具裝置10中取出所述樹(shù)脂。
此外，所述成形用模具裝置10中，所述壓模13的轉(zhuǎn)印面13F、以及內(nèi)周按壓構(gòu)件 14A的與所述壓模的轉(zhuǎn)印面13F鄰接的一部分表面14AS大致處于同一面，所述內(nèi)周按 壓構(gòu)件14A保持所述壓模13的內(nèi)徑部附近。
此外，所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的與所述模腔15C相向的前端14AF、以及澆道套17 的與所述模腔15C相向的前端17F，均比所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的與所述壓模13的轉(zhuǎn) 印面13F鄰接的…部分表面14AS，更向所述模腔15C的內(nèi)側(cè)突出，所述澆道套17與所 述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A鄰接且作為模具構(gòu)件而設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的內(nèi)周側(cè)。
因此，如圖3所示，與轉(zhuǎn)印所述壓模13的轉(zhuǎn)印面13F的基板21的轉(zhuǎn)印部21TP相 比，基板21的表面形成為具有凹陷部分的形狀，所述基板21的表面轉(zhuǎn)印所述內(nèi)周按壓 構(gòu)件14A的與所述模腔15C相向的前端14AF、以及澆道套17的與所述模腔15C相向 的前端17F,所述澆道套17與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件4A鄰接且作為模具構(gòu)件而設(shè)置在所 述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的內(nèi)周側(cè)。而且，沿著所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A以及澆道套17之間 的滑動(dòng)面而在基板21上產(chǎn)生的成形毛邊21EX，設(shè)置在所述凹陷部分中，所述澆道套17 與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A鄰接且作為模具構(gòu)件而設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的內(nèi)周 側(cè)。因此，可抑制所述成形毛邊21EX從基板21的其中一主表面的與所述轉(zhuǎn)卬部21TP 大致處于同一面的內(nèi)周緣附近，向上方突出。
此外，在所成形的基板21的轉(zhuǎn)印著所述壓模13的轉(zhuǎn)印面13F的其中一主表面上， 具有轉(zhuǎn)印部21TP,所述轉(zhuǎn)印部21TP具備省略圖示的引導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格式信號(hào) 的凹坑等。
此外，本實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置10中，與澆道套17的與所述模腔15C相向的 前端17F相比，所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的與所述模腔15C相向的前端14AF更向所述模 腔15C的內(nèi)側(cè)突出，所述澆道套17與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A鄰接且作為模具構(gòu)件而設(shè) 置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的內(nèi)周側(cè)。因此，具有熔融樹(shù)脂在模腔15C內(nèi)的阻力比較小 的優(yōu)點(diǎn)。
接著，進(jìn)而參照?qǐng)D4及圖5，對(duì)本發(fā)明的光盤的第實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說(shuō)明。圖4是表 示本發(fā)明第1實(shí)施形態(tài)的光盤20中形成覆蓋層過(guò)程的一例的部分放大截面圖。此外， 圖5是表示所述第1實(shí)施形態(tài)的光盤20內(nèi)部構(gòu)造的截面示意圖。
如圖5所示，本發(fā)明第1實(shí)施形態(tài)的光盤20是以如下方式形成在利用所述成形 用模具裝置10而成形的所述基板21的轉(zhuǎn)印部21TP上，依次形成省略圖示的由金屬或 合金形成的反射層22、包含色素等的記錄層23、以及由透明無(wú)機(jī)材料等形成的保護(hù)層 24。并且，形成著覆蓋所述保護(hù)層24且厚度約為0.1mm的由透明樹(shù)脂膜形成的覆蓋層 25，從而構(gòu)成光盤20。
如圖4所示，形成所述覆蓋層25過(guò)程的一例為，以所述基板21的中心孔21CH嵌 合在轉(zhuǎn)臺(tái)27的中心突部的方式，在所述轉(zhuǎn)臺(tái)27上載置所述基板21。接著，在利用中心 頂蓋26覆蓋所述基板21的中心孔21CH的狀態(tài)下，通過(guò)旋涂法來(lái)涂布透明樹(shù)脂材料28 的涂布液。此時(shí)，雖然所述基板21的凹陷部分存在成形毛邊21EX，但是可抑制所述成 形毛邊21EX從基板21的與轉(zhuǎn)印部21TP大致處于同一面的內(nèi)周緣附近向上方突出，所 述基板21上事先依次形成著反射層22、記錄層23、以及所述保護(hù)層24。因此，可使所 述基板21的所述凹陷部分的邊緣部上的與所述轉(zhuǎn)印部21TP大致處于同一面的內(nèi)周緣附 近、與覆蓋所述基板21中心的中心頂蓋26貼緊。因此，利用旋涂法來(lái)形成覆蓋層25
時(shí)，可抑制構(gòu)成所述覆蓋層25的透明樹(shù)脂膜中進(jìn)入氣泡或產(chǎn)生條紋狀涂布斑紋。 接著，對(duì)所述光盤20各部分的優(yōu)選實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說(shuō)明。
所述基板21的優(yōu)選實(shí)施形態(tài)為如下所示。g卩，對(duì)于所述基板21而言，可任意選擇 用作習(xí)知光信息記錄媒體的基板材料的各種材料。具體來(lái)說(shuō)，可舉出聚碳酸酯、聚甲基 丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹(shù)脂等，視需要也可積層所述多個(gè)樹(shù)脂而加以并用。從成形性、 耐濕性、尺寸穩(wěn)定性及低價(jià)等方面而言，所述材料中優(yōu)選熱塑性樹(shù)脂，特別優(yōu)選聚碳酸 酯。
在使用所述多個(gè)樹(shù)脂的情況下，優(yōu)選通過(guò)壓射成形等方法將基板21制作成特定形 狀(若是光盤則形成為圓環(huán)狀)。此外，所述基板21的厚度優(yōu)選處于0.9 1.6mm的范圍。
優(yōu)選，在所述基板21中設(shè)置著光反射層22的其中一主表面上，形成省略圖示的凹 凸，所述凹凸與用以通過(guò)照射激光光束而進(jìn)行記錄或再生的引導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格 式信號(hào)的凹坑對(duì)應(yīng)。所述引導(dǎo)槽例如優(yōu)選深度為20nm 300 nm，間距通常為500 nm以 下。
接著，所述基板21的其中一主表面?zhèn)壬鲜占{著成形毛邊21EX的凹陷部分的優(yōu)選實(shí) 施形態(tài)為如下所示。即，優(yōu)選所述凹陷部分以如下方式形成所述基板21的設(shè)置著所 述轉(zhuǎn)印部21TP —側(cè)的面上，在比形成所述引導(dǎo)槽等凹凸的區(qū)域更靠近內(nèi)周，與所述基 板21的成形同時(shí)形成。所述凹陷部分的深度例如優(yōu)選0.02mm 1.0mm。此外，所述凹 陷部分的寬度例如優(yōu)選0.02mm 1.0mm。此外，優(yōu)選所述凹陷部分以所述基板21的中 心線為中心而形成為環(huán)狀。
所述凹陷部分的深度大于所述引導(dǎo)槽的深度，難以利用所述壓模來(lái)形成。因此，優(yōu) 選在用以固定所述壓模13內(nèi)周側(cè)的內(nèi)周按壓構(gòu)件14A、以及與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A 鄰接的模具構(gòu)件上設(shè)置同心圓狀凸條，所述同心圓狀凸條比起所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的 與所述壓模13的轉(zhuǎn)印面13F鄰接的一部分表面更向所述模腔15C側(cè)突出，由此與所述 基板21的成形同時(shí)形成。
接著，所述反射層22的優(yōu)選實(shí)施形態(tài)為如下所示。所述反射層22是用來(lái)反射記錄 數(shù)據(jù)用或再生數(shù)據(jù)用激光光束，在本發(fā)明中，為了提高所述反射層22對(duì)激光光束的反 射率或者為了對(duì)反射層22賦予改善記錄再生特性的功能，而視需要，優(yōu)選將所述反射 層22設(shè)置在基板21與記錄層23之間。所述反射層22優(yōu)選以如下方式形成優(yōu)選使用 Au、 Al、 Ag、 Cu或Pd等的金屬膜、所述多個(gè)金屬的合金膜或者在所述多個(gè)金屬中添加 了微量成分的合金膜等，例如通過(guò)真空蒸發(fā)法(vacuum evaporation)、離子電鍍法(ion
plating)、濺射法等，在所述基板21的形成著轉(zhuǎn)印部21TP的面上形成所述反射層22。 其中，從量產(chǎn)性、成本方面而言，特別優(yōu)選濺射法。此外，所述反射層可視需要來(lái)設(shè)置， 例如在使用由無(wú)機(jī)材料形成的所謂的相變形記錄層的可擦重寫型光盤的情況下，可省略 所述反射層。
然后，所述記錄層23的優(yōu)選實(shí)施形態(tài)為如下所示。即，作為所述記錄層23，優(yōu)選 含有機(jī)色素作為記錄物質(zhì)的色素型記錄層、或者含無(wú)機(jī)材料作為記錄物質(zhì)的層變型記錄 層。其中，優(yōu)選色素型記錄層，所述色素型記錄層是通過(guò)照射激光光束而形成凹坑，從 而記錄數(shù)據(jù)。作為所述有機(jī)色素，優(yōu)選酞菁色素、花青色素、偶氮系色素等。通過(guò)照射 所述激光光束，可在所述記錄層23上記錄或再生音樂(lè)或圖像、電腦程序等數(shù)據(jù)信息。 此外，所述記錄層23是以如下方式形成將所述色素與黏合劑等一起溶解在適當(dāng)?shù)娜?劑中，調(diào)整涂布液，接著，隔著所述反射層22并通過(guò)旋涂法或絲網(wǎng)印刷法等方法，將 所述涂布液涂布在基板21的所述轉(zhuǎn)印部21TP上以形成涂膜，之后進(jìn)行干燥而形成。此 外，所述記錄層23可視需要而設(shè)置，例如，在預(yù)先記錄有信息的所謂ROM類型的光盤 中，可省略所述記錄層23。
接著，所述保護(hù)層24的優(yōu)選實(shí)施形態(tài)為如下所示。即，所述保護(hù)層24優(yōu)選以如下 方法形成使用ZnS、 Si02、 SiN、 A1N、 ZnS-Si02、及SiC等透明無(wú)機(jī)材料，通過(guò)真空 蒸發(fā)、濺射等方法來(lái)形成。
優(yōu)選所述保護(hù)層24形成在所述色素型記錄層23與所述覆蓋層25之間，所述保護(hù) 層24的目的在于調(diào)整記錄特性等或提高黏附性或者保護(hù)記錄層23等。
此外，所述保護(hù)層24可視需要而設(shè)置，例如，在使用了由所述無(wú)機(jī)材料而形成的 所謂相變型記錄層的可擦重寫型光盤、或所述ROM類型的光盤中，可省略所述保護(hù)層 24。
然后，所述順序的覆蓋層25的優(yōu)選實(shí)施形態(tài)為如下所示。即，所述覆蓋層25優(yōu)選 以如下方式形成將透明的紫外線硬化性樹(shù)脂材料28溶解在適當(dāng)?shù)娜軇┲?，調(diào)整涂布 液，接著使用覆蓋所述基板21的中心孔21CH的中心頂蓋26，從所述基板21的與轉(zhuǎn)印 著所述壓模13的轉(zhuǎn)印面13F的轉(zhuǎn)印部21TP大致處于同一面的內(nèi)周緣附近上，遍及所述 轉(zhuǎn)印部21TP上，直接或隔著其他層(例如反射層22、記錄層23以及保護(hù)層24),通過(guò) 旋涂法來(lái)涂布所述涂布液而形成涂膜，之后進(jìn)行干燥并照射紫外線而形成。
此外，所述覆蓋層25并不限定為單層的透明樹(shù)脂膜，例如也可具有由透明樹(shù)脂膜 形成的多層構(gòu)造，即，包括由透明樹(shù)脂膜形成的第1覆蓋層、以及以與所述相同的方式 形成在所述第l覆蓋層上的第2、第3…覆蓋層。
通常是照射波長(zhǎng)為400 nm 500 nm左右的激光光束，例如向所述記錄層23中記錄 數(shù)據(jù)或者從所述記錄層23等中再生數(shù)據(jù)，因以如上所述的方式而構(gòu)成，所以所述保護(hù) 層24及所述覆蓋層25的總厚度通常優(yōu)選為0.1 mm。
接著，參照?qǐng)D6及圖7對(duì)所述第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置的變形例進(jìn)行說(shuō)明。 圖6是表示第1實(shí)施形態(tài)的變形例的成形用模具裝置10'的內(nèi)部構(gòu)造的部分放大截面圖， 圖7是表示將使用所述第1實(shí)施形態(tài)的變形例的成形用模具裝置10'而成形的光盤用基 板21'垂直翻轉(zhuǎn)(flip vertical)而表示的截面示意圖。
如圖6所示，第1實(shí)施形態(tài)的變形例的成形用模具裝置0'中，在固定側(cè)模具A'與 可動(dòng)側(cè)模具B'相向的面?zhèn)刃纬赡Ｇ?5C'。
本變形例的成形用模具裝置10'與之前的第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置10的第1 不同點(diǎn)在于通過(guò)筒狀的內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'以及省略圖示的外周按壓構(gòu)件，而將壓模 13'固定在可動(dòng)側(cè)模具B'的所述相向面?zhèn)取?br>
此外，本變形例的成形用模具裝置10'與之前的第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置10 的第2不同點(diǎn)在于在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'的內(nèi)周側(cè)設(shè)置內(nèi)周護(hù)圈16A',所述內(nèi)周護(hù) 圈16A'與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'的內(nèi)周側(cè)鄰接，而且作為模具構(gòu)件。
具體來(lái)說(shuō)，固定側(cè)模具A具有省略圖示的固定側(cè)口模板，并且固定側(cè)芯12A'的外周 側(cè)與省略圖示的外周護(hù)圈嵌合，利用省略圖示的螺栓等將所述固定側(cè)芯12A'固定在所述 固定側(cè)口模板上。與之前的第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置IO相同，為了使模具溫度 保持固定、使基板冷卻固化，而在所述固定側(cè)芯12A'上設(shè)置著省略圖示的多個(gè)冷卻通道。 在所述固定側(cè)芯12A'的內(nèi)周側(cè)，與所述固定側(cè)芯12A'鄰接而設(shè)置著澆道套17'。
熔融樹(shù)脂的流路15'是由澆口部15A'、流道部15B'、以及模腔15C'而構(gòu)成。
可動(dòng)側(cè)模具B'具有可動(dòng)側(cè)口模板IIB'。利用省略圖示的螺栓等，將內(nèi)周側(cè)與內(nèi)周護(hù) 圈16A'嵌合的可動(dòng)側(cè)芯12B'，固定在所述可動(dòng)側(cè)口模板IIB'上。在可動(dòng)側(cè)芯12B'的與 所述模腔15C'相向的面上，通過(guò)內(nèi)周按壓構(gòu)件"A'以及省略圖示的外周按壓構(gòu)件而安裝 著壓模13'。在壓模13'的構(gòu)成所述模腔15C'—部分面的轉(zhuǎn)印面13'F上，形成著與省略圖 示的光盤用基板的引導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格式信號(hào)的凹坑相對(duì)應(yīng)的凹凸。在內(nèi)周按壓 構(gòu)件14A'的內(nèi)周側(cè)設(shè)置著內(nèi)周護(hù)圈16A'，所述內(nèi)周護(hù)圈16A'與內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'鄰接， 且作為模具構(gòu)件。所述內(nèi)周護(hù)圈16A'相對(duì)于所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'的與所述固定側(cè)模具 A'相向的表面，在垂直方向上滑動(dòng)。
在所述內(nèi)周護(hù)圈16A'的內(nèi)周側(cè)配設(shè)著中心孔沖裁凸模18',所述中心孔沖裁凸模18' 用以在所成形的基板上形成中心孔CH，使得所述基板成為盤狀。此外，在中心孔沖裁
凸模18'的中心處設(shè)置著鑄型鎖栓19'，在取出基板時(shí)，所述鑄型鎖栓19'用來(lái)推出經(jīng)所述 熔融樹(shù)脂的流路15'內(nèi)的澆口部15A'及流道部15B'而冷卻固化的樹(shù)脂。
接著，對(duì)使用所述成形用模具裝置10'來(lái)形成光盤用基板的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。首先， 利用省略圖示的鎖模機(jī)構(gòu)，以形成模腔15C'的方式接合固定側(cè)口模板UA'與可動(dòng)側(cè)口模 板11B'，并利用高壓進(jìn)行鎖模。然后，從省略圖示的壓射缸中壓射出對(duì)丙烯酸系樹(shù)脂外 裝或聚碳酸酯樹(shù)脂等進(jìn)行高溫加熱而熔融后的樹(shù)脂。
之后，壓射出的熔融樹(shù)脂從澆口部15A'通過(guò)流道部15B',而填充到用以使基板成形 的模腔15C'中。
澆口部15A'、流道部15B'形成在固定側(cè)芯12A'的中心處，因此熔融樹(shù)脂呈放射狀 均勻地填充在流路的模腔15C'內(nèi)。
模腔15C'中所填充的熔融樹(shù)脂，通過(guò)在省略圖示的冷卻通道中流動(dòng)的冷卻水而進(jìn)行 熱交換，從而實(shí)現(xiàn)冷卻固化。由此，可在模腔15C'內(nèi)形成基板21'。
在所述動(dòng)作期間，利用中心孔沖裁凸模18'而形成基板21'的中心孔21CH'。
之后，通過(guò)固定側(cè)模具A'與可動(dòng)側(cè)模具B'而打開(kāi)所述成形用模具裝置10'，如圖7 所示，取出具有中心孔21CH'的盤狀基板21'。
此外，經(jīng)澆口部15A'及流道部15B'而冷卻固化后的樹(shù)脂，附在可動(dòng)側(cè)模具B'上，因 此通過(guò)推出鑄型鎖栓19'，而從成形用模具裝置10'中取出所述樹(shù)脂。
此外，所述成形用模具裝置10'中，所述壓模13'的轉(zhuǎn)印面13'F、以及內(nèi)周按壓構(gòu)件 14A'的與所述壓模13'的轉(zhuǎn)印面13'F鄰接的一部分表面14A'S大致處于同一面，所述內(nèi) 周按壓構(gòu)件14A'保持所述壓模13'的內(nèi)徑部附近。
此外，所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'的與所述模腔15C'相向的前端14A'F、以及內(nèi)周護(hù)圈 16A'的與所述模腔15C'相向的前端16A'F，均比所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'的與所述壓模13' 的轉(zhuǎn)印面13'F鄰接的一部分表面14A'S，更向所述模腔15C'的內(nèi)側(cè)突出，所述內(nèi)周護(hù)圈 16A'與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'鄰接，且作為模具構(gòu)件而設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A' 的內(nèi)周側(cè)。
因此，如圖7所示，與轉(zhuǎn)印所述壓模13'的轉(zhuǎn)印面13'F的基板21'的轉(zhuǎn)印部21TP'相 比，基板21'的表面形成為具有凹陷部分的形狀，所述基板21'的表面轉(zhuǎn)印所述內(nèi)周按壓 構(gòu)件14A'的與所述模腔15C'相向的前端14A'F、以及內(nèi)周護(hù)圈16A'的與所述模腔15C' 相向的前端16A'F，所述內(nèi)周護(hù)圈16A'與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'鄰接且作為模具構(gòu)件而 設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'的內(nèi)周側(cè)。而且，沿著所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'與內(nèi)周護(hù)圈 16A'之間的滑動(dòng)面而在基板21'上產(chǎn)生的成形毛邊21EX'，設(shè)置在所述凹陷部分中，所述
內(nèi)周護(hù)圈16A'與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'鄰接且作為模具構(gòu)件而設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu) 件14A'的內(nèi)周側(cè)。因此，可抑制所述成形毛邊21EX'從基板21'的其中一主表面的與所述 轉(zhuǎn)印部21TP'大致處于同一面的內(nèi)周緣附近，向上方突出。
此外，在所成形的基板21'上轉(zhuǎn)印著所述壓模13'的轉(zhuǎn)印面13'F的其中一主表面上， 形成轉(zhuǎn)印部21TP'，所述轉(zhuǎn)印部21TP具備省略圖示的引導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格式信號(hào) 的凹坑等。
此外，與之前的第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置IO相同，本變形例的成形用模具 裝置10'中，與內(nèi)周護(hù)圈16A'的與所述模腔15C'相向的前端16A'F相比，所述內(nèi)周按壓 構(gòu)件14A'的與所述模腔15C'相向的前端14A'F，更向所述模腔15C'的內(nèi)側(cè)突出，所述內(nèi) 周護(hù)圈16A'與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A'鄰接且作為模具構(gòu)件而設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件 14A'的內(nèi)周側(cè)。因此，具有熔融樹(shù)脂在模腔15C'內(nèi)的阻力比較小的優(yōu)點(diǎn)。
使用了利用本變形例的成形用模具裝置10'而成形的基板21'來(lái)形成的光盤，與之前 的第1實(shí)施形態(tài)的光盤相同，所以省略說(shuō)明。
接著，參照?qǐng)D8及圖9，對(duì)本發(fā)明成形用模具裝置的第2實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說(shuō)明。圖8 是表示第2實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置30內(nèi)部構(gòu)造的部分放大截面圖，圖9是表示使 用所述第2實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置30而成形的光盤用基板41的部分放大截面圖。
如圖8所示，第2實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置30中，在固定側(cè)模具A與可動(dòng)側(cè)模 具B相向的面?zhèn)刃纬赡Ｇ?5C。
固定側(cè)模具A具有省略圖示的固定側(cè)口模板。此外，利用省略圖示的螺栓等，將固 定側(cè)芯32A固定在所述固定側(cè)口模板上。為了使模具溫度保持固定、使基板冷卻固化， 在所述固定側(cè)芯32A上設(shè)置著省略圖示的多個(gè)冷卻通道。在所述固定側(cè)芯32A的與所 述模腔35C相向的面?zhèn)?，通過(guò)內(nèi)周按壓構(gòu)件34A以及省略圖示的外周按壓構(gòu)件而安裝著 壓模33，所述內(nèi)周按壓構(gòu)件34A為巾空?qǐng)A筒狀且在頂部的外周側(cè)形成著凸緣部。在壓 模33的構(gòu)成所述模腔35C的一部分面的轉(zhuǎn)印面33F上，形成著與省略圖示的光盤用基 板的引導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格式信號(hào)的凹坑對(duì)應(yīng)的凹凸。此外，在所述壓模33的內(nèi)周 側(cè)設(shè)置薄壁部，以便與設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件34A的頂部的凸緣部嵌合。
在內(nèi)周按壓構(gòu)件34A的內(nèi)周側(cè)設(shè)置澆道套37，所述澆道套37與內(nèi)周按壓構(gòu)件34A 鄰接，且用作模具構(gòu)件。所述澆道套37相對(duì)于所述內(nèi)周按壓構(gòu)件34A的與所述可動(dòng)側(cè) 模具B相向的表面，而在垂直方向上滑動(dòng)。
熔融樹(shù)脂的流路35是由澆口部35A、流道部35B、以及用以使基板成形的模腔35C
而構(gòu)成。
17
可動(dòng)側(cè)模具B具有可動(dòng)側(cè)口模板31B。利用省略圖示的螺栓等，將可動(dòng)側(cè)芯32B固 定在所述可動(dòng)側(cè)口模板31B上，所述可動(dòng)側(cè)芯32B的內(nèi)周側(cè)與內(nèi)周護(hù)圈36A嵌合，而 且所述可動(dòng)側(cè)芯32B的外周側(cè)與省略圖示的外周護(hù)圈嵌合。
在所述內(nèi)周護(hù)圈36A的內(nèi)周側(cè)配設(shè)著中心孔沖裁凸模38，所述中心孔沖裁凸模38 用以在所成形的基板上形成中心孔41CH，使得所述基板成為盤狀。此外，在中心孔沖 裁凸模38的中心處設(shè)置鑄型鎖栓39，在取出基板時(shí)，所述鑄型鎖栓39用以推出經(jīng)所述 熔融樹(shù)脂的流路35內(nèi)的澆口部35A及流道部35B而冷卻固化后的樹(shù)脂。
本實(shí)施形態(tài)的成形模具裝置30的形成光盤用基板的動(dòng)作與之前的第1實(shí)施形態(tài)相 同，所以省略說(shuō)明。
本實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置30與之前的第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置10的不 同點(diǎn)在于本實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置30中，所述內(nèi)周按壓構(gòu)件34A的與所述模腔 35C相向的前端34AF、以及澆道套37的與所述模腔35C相向的前端37F，向所述模腔 35C的內(nèi)側(cè)突出的尺寸均相等，所述澆道套37與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件34A鄰接且作為模 具構(gòu)件而設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件34A的內(nèi)周側(cè)。因此，具有以下優(yōu)點(diǎn)可將所述凹陷 部分中所形成的成形毛邊的前端的突出位置抑制在最低。
其他構(gòu)成以及作用效果與之前的第1實(shí)施形態(tài)相同，所以省略說(shuō)明。 此外，在所成形的基板41的轉(zhuǎn)印著所述壓模33的轉(zhuǎn)印面33F的其中一主表面上， 形成轉(zhuǎn)印部41TP，所述轉(zhuǎn)印部41TP具備省略圖示的引導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格式信號(hào) 的凹坑等。
接著，參照?qǐng)D10，對(duì)本發(fā)明光盤的第2實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說(shuō)明。圖10是表示本發(fā)明第 2實(shí)施形態(tài)的光盤40內(nèi)部構(gòu)造的部分放大截面圖。
如圖10所示，本實(shí)施形態(tài)的光盤40是以如下方式形成在使用所述成形用模具裝 置30而成形的所述基板41的轉(zhuǎn)印部41TP上，依次形成省略圖示的由金屬或合金形成 的反射層42、包含色素等的記錄層43、以及由透明無(wú)機(jī)材料等形成的保護(hù)層44。進(jìn)而， 形成著覆蓋所述保護(hù)層44且厚度約為0.1 mm的由透明樹(shù)脂膜而形成的覆蓋層45,從而 構(gòu)成光盤40。
其他構(gòu)成及作用效果與之前的第1實(shí)施形態(tài)相同，所以省略說(shuō)明。 接著，參照?qǐng)D11及圖12對(duì)本發(fā)明第3實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖11 是表示第3實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置50內(nèi)部構(gòu)造的部分放大截面圖，圖12是表示使 用所述第3實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置50而成形的光盤用基板61的部分放大截面圖。 如圖11所示，第3實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置50中，在固定側(cè)模具A與可動(dòng)側(cè)模
具B相向的面?zhèn)刃纬赡Ｇ?5C。
固定側(cè)模具A具有省略圖示的固定側(cè)口模板，且利用省略圖示的螺栓等，將固定側(cè) 芯52A固定在所述固定側(cè)口模板上。為了使模具溫度保持固定、使基板冷卻固化，在所 述固定側(cè)芯52A上設(shè)置著省略圖示的多個(gè)冷卻通道。在所述固定側(cè)芯52A的與所述模 腔55C相向的面?zhèn)?，通過(guò)內(nèi)周按壓構(gòu)件54A以及省略圖示的外周按壓構(gòu)件而安裝著壓模 53，所述內(nèi)周按壓構(gòu)件54A為中空?qǐng)A筒狀且在頂部的外周側(cè)形成著錐狀突出部。在壓模 53的構(gòu)成所述模腔55C的一部分面的轉(zhuǎn)印面53F上，形成與省略圖示的光盤用基板的 引導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格式信號(hào)的凹坑對(duì)應(yīng)的凹凸。此外，所述壓模53的內(nèi)周面形成 為截面錐狀，以便與設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件54A的頂部的錐狀突出部嵌合。
在內(nèi)周按壓構(gòu)件54A的內(nèi)周側(cè)設(shè)置著澆道套57,所述澆道套57與內(nèi)周按壓構(gòu)件54A 鄰接，且用作模具構(gòu)件。所述澆道套57相對(duì)于所述內(nèi)周按壓構(gòu)件54A的與所述可動(dòng)側(cè) 模具B相向的表面，而在垂直方向上滑動(dòng)。
熔融樹(shù)脂的流路55是由澆口部55A、流道部55B、以及用以使基板成形的模腔55C 而構(gòu)成。
可動(dòng)側(cè)模具B具有可動(dòng)側(cè)口模板51B。利用省略圖示的螺栓等，將可動(dòng)側(cè)芯52B固 定在所述可動(dòng)側(cè)口模板51B上，所述可動(dòng)側(cè)芯52B的內(nèi)周側(cè)與內(nèi)周護(hù)圈56A嵌合，而 且所述可動(dòng)側(cè)芯52B的外周側(cè)與省略圖示的外周護(hù)圈嵌合。
在所述內(nèi)周護(hù)圈56A的內(nèi)周側(cè)配設(shè)著中心孔沖裁凸模58，所述中心孔沖裁凸模58 用以在所成形的基板上形成中心孔61CH，以便使所述基板成為盤狀。此外，在中心孔 沖裁凸模58的中心處設(shè)置著鑄型鎖栓59，在取出基板時(shí)，所述鑄型鎖栓59用以推出經(jīng) 所述熔融樹(shù)脂的流路55內(nèi)的澆口部55A及流道部55B而冷卻固化后的樹(shù)脂。
本實(shí)施形態(tài)的成形模具裝置50的形成光盤用基板的動(dòng)作與之前的第1實(shí)施形態(tài)相 同，所以省略說(shuō)明。
本實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置50與之前的第1實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置10的不 同點(diǎn)在于本實(shí)施形態(tài)的成形用模具裝置50中，相比于所述內(nèi)周按壓構(gòu)件54A的與所 述模腔55C相向的前端54AF，澆道套57的與所述模腔55C相向的前端57F更向所述模 腔55C的內(nèi)側(cè)突出，所述澆道套57與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件54A鄰接且作為模具構(gòu)件而設(shè) 置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件54A的內(nèi)周側(cè)。
其他構(gòu)成以及作用效果與之前的第1實(shí)施形態(tài)相同，所以省略說(shuō)明。 此外，在所成形的基板61的轉(zhuǎn)印著所述壓模53的轉(zhuǎn)印面53F的其中一主表面上具 有轉(zhuǎn)印部61TP，所述轉(zhuǎn)印部61TP具備省略圖示的引導(dǎo)槽(groove)或者預(yù)格式信號(hào)的 凹坑等。
接著，參照?qǐng)D13對(duì)本發(fā)明第3實(shí)施形態(tài)的光盤進(jìn)行說(shuō)明。圖13是表示本發(fā)明第3 實(shí)施形態(tài)的光盤60內(nèi)部構(gòu)造的部分放大截面圖。
如圖13所示，本實(shí)施形態(tài)的光盤60是以如下方式形成在使用所述成形用模具裝 置50而成形的所述基板61的轉(zhuǎn)印部61TP上，依次形成省略圖示的由金屬或合金形成 的反射層62、包含色素等的記錄層63、以及由透明無(wú)機(jī)材料等構(gòu)成的保護(hù)層64。進(jìn)而， 形成著覆蓋所述保護(hù)層64且厚度約為0.1 mm的由透明樹(shù)脂膜而形成的覆蓋層65,從而 構(gòu)成光盤60。
其他構(gòu)成及作用效果與之前的第1實(shí)施形態(tài)相同，所以省略說(shuō)明。
權(quán)利要求
1.一種成形用模具裝置，在固定側(cè)模具與可動(dòng)側(cè)模具的相向的面?zhèn)刃纬赡Ｇ?，并在所述任一模具的所述?duì)向面?zhèn)鹊谋砻嫔?，安裝其中一主表面上形成著轉(zhuǎn)印面的壓模，構(gòu)成所述模腔的一部分面，且向所述模腔內(nèi)射出熔融樹(shù)脂，以成形出具備中心孔的盤狀基板，所述成形用模具裝置的特征在于所述壓模的轉(zhuǎn)印面、以及筒狀內(nèi)周按壓構(gòu)件的與所述壓模的轉(zhuǎn)印面鄰接的一部分表面大致處于同一面，所述筒狀內(nèi)周按壓構(gòu)件保持所述壓模的內(nèi)徑部附近，所述內(nèi)周按壓構(gòu)件的與所述模腔相向的前端以及模具構(gòu)件的與所述模腔相向的前端，均比所述內(nèi)周按壓構(gòu)件的與所述壓模的轉(zhuǎn)印面鄰接的一部分表面，更向所述模腔內(nèi)側(cè)突出，所述模具構(gòu)件與所述內(nèi)周按壓構(gòu)件鄰接且設(shè)置在所述內(nèi)周按壓構(gòu)件的內(nèi)周側(cè)。
2. —種光盤，其特征在于具有由透明樹(shù)脂膜形成的覆蓋層，所述覆蓋層是從利用權(quán) 利要求1所述的成形用模具裝置而成形的基板的與轉(zhuǎn)印著所述壓模的轉(zhuǎn)印面的轉(zhuǎn)印 部大致處于同一面的內(nèi)周緣附近上，遍及所述轉(zhuǎn)印部上，直接或者隔著其他層，使 用覆蓋所述基板的中心孔的中心頂蓋并通過(guò)旋涂法而涂布。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光盤及成形用模具裝置。在固定側(cè)模具A與可動(dòng)側(cè)模具B中任一模具的表面上安裝壓模13，壓模的轉(zhuǎn)印面13F、以及內(nèi)周按壓構(gòu)件14A的與壓模的轉(zhuǎn)印面鄰接的一部分表面大致處于同一面，所述內(nèi)周按壓構(gòu)件14A與所述壓模的轉(zhuǎn)印面13F鄰接且保持壓模的內(nèi)徑部附近，且內(nèi)周按壓構(gòu)件的與模腔15C相向的前端14AF、以及與內(nèi)周按壓構(gòu)件鄰接設(shè)置的模具構(gòu)件17的與模腔相向的前端17F，均比壓模的轉(zhuǎn)印面更向模腔內(nèi)側(cè)突出。因此，可抑制成形毛邊21EX從與轉(zhuǎn)印部21TP大致處于同一面的內(nèi)周緣附近向上方突出。因此，可提供一種高質(zhì)量光盤，因具備可抑制氣泡進(jìn)入及條紋狀涂布斑紋等產(chǎn)生的覆蓋層，所以不會(huì)產(chǎn)生外觀不良，而所述覆蓋層是由透明樹(shù)脂膜形成。
文檔編號(hào)B29L11/00GK101348008SQ20081011144
公開(kāi)日2009年1月21日 申請(qǐng)日期2008年6月12日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月28日
發(fā)明者大津毅, 宮田章正, 相原邦行, 萩原基光 申請(qǐng)人:太陽(yáng)誘電株式會(huì)社