本發(fā)明涉及一種制備離子印跡復(fù)合膜的方法，更具體地涉及一種表面熱聚合制備重金屬離子選擇性分離復(fù)合膜的方法，本發(fā)明屬于膜分離技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

水中重金屬的存在有可能對人們的健康造成嚴(yán)重傷害，水中重金屬主要是指生物毒性顯著的鉛、汞、鎘、鉻、砷等，還包括具有毒性的重金屬鋅、銅、鈷、鎳、錫、釩等污染物。

鉛是一種對人體有嚴(yán)重危害的重金屬，對神經(jīng)系統(tǒng)、腎臟、造血系統(tǒng)等會產(chǎn)生明顯的損害。鉛離子不可生物降解，容易在環(huán)境或生物鏈中富集和擴大，長期飲用含鉛超標(biāo)的水，會導(dǎo)致孕婦流產(chǎn)、胎兒畸型，縮短人的壽命。

汞及其化合物對溫血動物毒性很大，由消化道進(jìn)入人體的汞將迅速地被吸收并隨血液轉(zhuǎn)移到全身各器官和組織，進(jìn)而引起全身性的中毒，嚴(yán)重危害人體健康。

鎘是劇毒元素，如果較長時間食用含鎘離子嚴(yán)重超標(biāo)的食物、水等，就會引發(fā)消化道癌、食道癌、肝腎癌等，甚至?xí)鹚劳觥?/p>

鉻化合物對人畜機體有全身致毒作用，還具有致癌和致突變作用，是重點控制的水污染物。

食用含砷離子的水或食物可以誘發(fā)多種癌癥，砷離子可通過消化道進(jìn)入血液遍布全身，通過改變細(xì)胞的滲透壓進(jìn)入細(xì)胞內(nèi)，促使蛋白質(zhì)凝固而引起死亡。

水中的重金屬離子用氯消毒的方法是不可能去除的，因為氯對于水中重金屬離子的氧化、分解作用很弱，甚至根本不起作用。目前對 于水中重金屬的處理方法主要有吸附法、絮凝沉淀法、生物法、有機材料法和膜分離技術(shù)等。吸附、絮凝沉淀等傳統(tǒng)的化學(xué)、物理和生物分離法由于存在反應(yīng)條件苛刻、運行費用高或易產(chǎn)生二次污染等缺點，使其應(yīng)用價值大大受到限制。采用膜分離法進(jìn)行重金屬離子的分離，具有效率高、無相變、節(jié)能環(huán)保、設(shè)備簡單、操作簡便等優(yōu)點，使其在水處理領(lǐng)域具有相當(dāng)?shù)募夹g(shù)優(yōu)勢，已成為工業(yè)廢水處理不可缺少的技術(shù)之一。該技術(shù)采取的主要方式有電滲析法、液膜法、納濾法、超低壓反滲透膜、膠束增強超濾法和水溶性聚合物絡(luò)合超濾法等，但這些傳統(tǒng)高分子膜對結(jié)構(gòu)相似、體積相近的重金屬離子的分離缺乏選擇性，雖然在高分子膜表面負(fù)載液膜或鍵接能與重金屬離子產(chǎn)生絡(luò)合作用的功能基團(tuán)，均可賦予膜對特定金屬離子的選擇性，但支撐液膜穩(wěn)定性差，而表面功能化修飾膜的選擇性效果不太理想。

在分子印跡技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來的離子印跡技術(shù)，將特定的離子印跡在高分子聚合物中，洗脫后形成特定的印跡孔穴。通過離子印跡技術(shù)制得的離子印跡聚合物內(nèi)部分布有大量模板離子的印跡孔穴，這些孔穴與模板離子在尺寸大小、空間結(jié)構(gòu)、結(jié)合位點分布等方面高度匹配，因而對模板離子具有特異的識別能力。以金屬離子為模板離子的離子印跡聚合物其印跡孔穴能高效識別金屬離子，因而利用離子印跡技術(shù)對高分子膜進(jìn)行修飾，可在膜的表面引入識別位點，在保留高分子膜分離優(yōu)點的基礎(chǔ)上，賦予其對目標(biāo)金屬離子選擇性分離的能力，所制備的離子印跡膜用于水中重金屬離子的去除，是前景廣闊的膜技術(shù)方法，而通過表面熱聚合制備去除重金屬的離子印跡復(fù)合膜在這以前鮮見報道。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本發(fā)明將離子印跡技術(shù)和膜技術(shù)相結(jié)合，以市售的商品平板或中空纖維聚合物微孔濾膜為基膜，采用表面熱聚合方法對微孔濾膜表面進(jìn)行離子印跡，提供了一種工藝簡單、性能穩(wěn)定的金屬離子印跡復(fù)合膜的制備方法。

本發(fā)明的技術(shù)是以市售的商品平板或中空纖維聚合物微孔濾膜為基膜，重金屬離子為模板離子，通過加熱引發(fā)功能單體和交聯(lián)劑在基膜表面聚合進(jìn)行離子印跡修飾，制備得到離子印跡復(fù)合膜，包括基膜表面涂覆引發(fā)劑、金屬離子印跡復(fù)合膜的制備、模板離子的洗脫、復(fù)合膜的性能考察等工序。

本發(fā)明的技術(shù)方案具體包括以下步驟：

1、基膜表面涂覆引發(fā)劑：以市售的商品平板或中空纖維聚合物微孔濾膜為基膜，將聚合物微孔濾膜浸入含有引發(fā)劑的乙醇、甲醇、乙腈、N,N-二甲基甲酰胺或二甲基亞砜溶液中，一段時間后取出自然晾干，晾干后的膜表面就涂覆上了一薄層引發(fā)劑，即得到表面固定有引發(fā)劑的聚合物微孔濾膜。

2、金屬離子印跡復(fù)合膜的制備：以重金屬離子為模板離子，先與一定量的功能單體混合，再加入交聯(lián)劑、溶劑以及引發(fā)劑混合均勻，得到反應(yīng)溶液，其中模板離子以其金屬鹽的形式被加入上述溶液，模板離子金屬鹽、功能單體以及交聯(lián)劑按摩爾比為1:(2～8)：(2～50)的比例分別稱取，然后超聲脫氣，再將表面固定有引發(fā)劑的聚合物微孔濾膜浸入上述反應(yīng)溶液中，通入氮氣5～10min，在氮氣保護(hù)下于45～65℃保溫反應(yīng)10～50小時，得到未脫除模板離子的金屬離子印跡復(fù)合膜。

3、模板離子的洗脫：將上述制得的金屬離子印跡復(fù)合膜浸在體積濃度為5～20％的醋酸、鹽酸、硫酸或EDTA溶液中，室溫下振蕩處理4～12小時，洗脫模板離子，然后用去離子水洗至中性，真空干燥至恒重即得金屬離子印跡復(fù)合膜。

在上述方案的基礎(chǔ)上，所述市售的商品平板或中空纖維聚合物微孔濾膜為聚砜微孔濾膜、聚醚砜微孔濾膜、聚偏氟乙烯微孔濾膜、聚丙烯微孔濾膜或聚丙烯腈微孔濾膜。

在上述方案的基礎(chǔ)上，所述引發(fā)劑為偶氮二異丁腈、偶氮二異庚腈、偶氮二異丁酸二甲酯中的任意一種，步驟1中所選用的引發(fā)劑與步驟2中所選用的引發(fā)劑相同為宜。

在上述方案的基礎(chǔ)上，所述含有引發(fā)劑的溶液濃度為0.005～0.1g/ml。

在上述方案的基礎(chǔ)上，步驟1中所述聚合物微孔濾膜在引發(fā)劑的乙醇、甲醇、乙腈、N,N-二甲基甲酰胺或二甲基亞砜溶液中浸泡的時間為1～4小時。

在上述方案的基礎(chǔ)上，所述模板離子為Pb(Ⅱ)、Cd(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)、Hg(Ⅱ)、Cu(Ⅱ)、Zn(Ⅱ)中的任意一種，所述模板離子金屬鹽為氯化物、硫酸鹽、醋酸鹽、硝酸鹽中的任意一種。

在上述方案的基礎(chǔ)上，所述功能單體為下列之一或任意兩者的混合物：丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酰胺、1-乙烯基咪唑、2-乙烯基吡啶、4-乙烯基吡啶。

在上述方案的基礎(chǔ)上，所述交聯(lián)劑為下列之一或任意兩者的混合物：乙二醇二甲基丙烯酸酯、三甲氧基丙烷三甲基丙烯酸酯、N,N'-亞甲基二丙烯酰胺、二乙烯基苯。

在上述方案的基礎(chǔ)上，步驟2中所述引發(fā)劑的用量為功能單體量的0.1％～5％(摩爾百分比)。

在上述方案的基礎(chǔ)上，步驟2中所述溶劑為乙醇、甲醇、乙腈、N,N-二甲基甲酰胺或二甲基亞砜中的任意一種，所述溶劑用量為：1mmol模板離子金屬鹽加入15～20ml溶劑。

本發(fā)明所述的金屬離子印跡膜為功能單體與模板離子通過聚合方式形成離子印跡高分子聚合物，依據(jù)聚合過程中金屬離子和其它化合物的配位作用，洗脫后聚合物內(nèi)部會留下與模板離子空間結(jié)構(gòu)互補的孔穴結(jié)構(gòu)和化學(xué)鍵合作用，從而實現(xiàn)對目標(biāo)重金屬的專一性識別。本發(fā)明制備工藝簡便，容易操作，重復(fù)性好，所制備的膜穩(wěn)定性強，使用壽命長。

本發(fā)明的有益效果主要體現(xiàn)在：本發(fā)明提供了一種用于去除污水中重金屬離子的膜的制備方法，在反應(yīng)體系中加入引發(fā)劑后，通過加熱就可實現(xiàn)基膜表面的離子印跡修飾，該膜制備過程相對簡單，所制得的金屬離子印跡膜具有專一識別性，對重金屬離子的選擇性好，再 生后可重復(fù)使用，膜處理過程簡便，制備過程無需特殊及復(fù)雜設(shè)備，生產(chǎn)成本低，易操作，處理效率高。

具體實施方式

以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍，該領(lǐng)域的技術(shù)熟練人員可以根據(jù)上述本發(fā)明的內(nèi)容做出一些非本質(zhì)的改進(jìn)和調(diào)整。如無特別指明，實施例中采用的原料均為市售。

下面為具體的實施例。按本發(fā)明所述方法制備的金屬離子印跡膜，其滲透性能測試通過以下步驟進(jìn)行：

(1)自制兩個完全相同的連通的玻璃池即供給池和接受池，將制備的膜固定于兩個玻璃池中間，組成底部連通的H型密封滲透性裝置，保證兩池沒有滲漏；

(2)供給池中加入金屬離子溶液(模板離子a和非模板離子b)，接受池中加入去離子水，將兩池密封，在電磁攪拌下定時取樣，用原子吸收分光光度計測定接受池中的離子濃度。其中，供給池中所述金屬離子溶液中兩種金屬離子的初始摩爾濃度均為50.0mmol/L。在相同時間內(nèi)，若本發(fā)明所制備的離子印跡復(fù)合膜對模板離子的滲透性能高于其它非模板離子，說明本發(fā)明所制備的離子印跡復(fù)合膜對模板離子具有良好的離子選擇性。

離子印跡復(fù)合膜對模板離子的滲透性能以滲透選擇因子α來考察，滲透選擇因子α的計算公式為：

$\mathrm{\α}=\frac{Q_a}{Q_b}$

其中Q_a、Q_b分別為離子印跡復(fù)合膜對模板離子a和非模板離子b的滲透量(μmol/cm²)。

實施例1

(1)以聚偏氟乙烯微孔平板濾膜為基膜，將聚偏氟乙烯微孔平 板濾膜浸入濃度為0.03g/ml的引發(fā)劑偶氮二異丁腈的乙腈溶液中，1小時后取出自然晾干，獲得膜表面覆蓋有引發(fā)劑的聚合物微孔濾膜。

(2)以重金屬離子Pb(Ⅱ)為模板離子，取1.0mmol的硝酸鉛、2.0mmol丙烯酸充分混合，再加入50.0mmol乙二醇二甲基丙烯酸酯和0.06mmol偶氮二異丁腈，與20ml乙腈混合均勻，制成均相溶液體系，超聲脫氣，再將表面覆蓋有引發(fā)劑的聚偏氟乙烯微孔平板濾膜浸入該溶液體系中，通入氮氣8min，在氮氣保護(hù)下加熱至55℃保溫反應(yīng)24小時，得到未脫除模板離子的金屬離子印跡復(fù)合膜。

(3)將上述步驟制得的金屬離子印跡復(fù)合膜浸在10％(v/v)體積濃度的醋酸溶液中，室溫下振蕩處理10小時，然后用去離子水洗至中性，洗脫模板Pb(Ⅱ)，真空干燥至恒重即得Pb(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜。

(4)自制兩個完全相同的連通的玻璃池即供給池和接受池，將制備的Pb(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜固定于兩個玻璃池中間，組成底部連通的H型密封滲透性裝置，保證兩池沒有滲漏。供給池中加入Pb(Ⅱ)和Zn(Ⅱ)離子濃度均為50.0mmol/L的混合離子溶液，接受池中加入去離子水，將兩池密封，在電磁攪拌下定時取樣，平衡時用原子吸收分光光度計測定接受池中的Pb(Ⅱ)和Zn(Ⅱ)離子濃度，計算滲透選擇因子α_(Pb/Zn)＝3.39。

實施例2

(1)以聚丙烯微孔中空纖維濾膜為基膜，將聚丙烯微孔中空纖維濾膜浸入濃度為0.01g/ml的引發(fā)劑偶氮二異丁酸二甲酯的乙醇溶液中，4小時后取出自然晾干，獲得膜表面覆蓋有引發(fā)劑的聚合物微孔濾膜。

(2)以重金屬離子Cd(Ⅱ)為模板離子，取1.0mmol的氯化鎘、4.0mmol甲基丙烯酸充分混合，再加入20.0mmol三甲氧基丙烷三甲基丙烯酸酯和0.04mmol偶氮二異丁酸二甲酯，與18ml乙醇混合均勻，制成均相溶液體系，超聲脫氣，再將表面覆蓋有引發(fā)劑的聚丙烯 微孔中空纖維濾膜浸入該溶液體系中，通入氮氣10min,在氮氣保護(hù)下加熱至50℃保溫反應(yīng)36小時，得到未脫除模板離子的金屬離子印跡復(fù)合膜。

(3)將上述步驟制得的金屬離子印跡復(fù)合膜浸在濃度為10％(v/v)體積濃度的鹽酸溶液中，室溫下振蕩處理12小時，然后用去離子水洗至中性，洗脫模板Cd(Ⅱ)，真空干燥至恒重即得Cd(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜。

(4)自制兩個完全相同的連通的玻璃池即供給池和接受池，將制備的Cd(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜固定于兩個玻璃池中間，組成底部連通的H型密封滲透性裝置，保證兩池沒有滲漏。供給池中加入Cd(Ⅱ)和Cu(Ⅱ)離子濃度均為50.0mmol/L的混合離子溶液，接受池中加入去離子水，將兩池密封，在電磁攪拌下定時取樣，平衡時用原子吸收分光光度計測定接受池中的Cd(Ⅱ)和Cu(Ⅱ)離子濃度，計算滲透選擇因子α_(Cd/Cu)＝10.39。

實施例3

(1)以聚丙烯腈微孔中空纖維濾膜為基膜，將聚丙烯腈微孔中空纖維濾膜浸入濃度為0.005g/ml的引發(fā)劑偶氮二異庚腈的甲醇溶液中，2小時后取出自然晾干，獲得膜表面覆蓋有引發(fā)劑的聚合物微孔濾膜。

(2)以重金屬離子Ni(Ⅱ)為模板離子，取1.0mmol的硫酸鎳、8.0mmol甲基丙烯酸甲酯、20.0mmol三甲氧基丙烷三甲基丙烯酸酯和10mmol的乙二醇二甲基丙烯酸酯充分混合，再加入0.008mmol偶氮二異庚腈，與16ml甲醇混合均勻，制成均相溶液體系，超聲脫氣，再將表面覆蓋有引發(fā)劑的聚丙烯腈微孔中空纖維濾膜浸入該溶液體系中，通入氮氣5min,在氮氣保護(hù)下加熱至45℃保溫反應(yīng)50小時，得到未脫除模板離子的金屬離子印跡復(fù)合膜。

(3)將上述步驟制得的金屬離子印跡復(fù)合膜浸在濃度為5％(v/v)體積濃度的硫酸溶液中，室溫下振蕩處理8小時，然后用去 離子水洗至中性，洗脫模板Ni(Ⅱ)，真空干燥至恒重即得Ni(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜。

(4)自制兩個完全相同的連通的玻璃池即供給池和接受池，將制備的Ni(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜固定于兩個玻璃池中間，組成底部連通的H型密封滲透性裝置，保證兩池沒有滲漏。供給池中加入離子濃度為50mmol/L的Ni(Ⅱ)、Cu(Ⅱ)和Zn(Ⅱ)三元混合離子溶液中，接受池中加入去離子水，將兩池密封，在電磁攪拌下定時取樣，平衡時用原子吸收分光光度計測定接受池中的Ni(Ⅱ)、Cu(Ⅱ)和Zn(Ⅱ)的離子濃度，計算滲透選擇因子分別為：α_(Ni/Cu)＝7.56，α_(Ni/Zn)＝5.82。

實施例4

(1)以聚砜微孔平板濾膜為基膜，將聚砜微孔平板濾膜浸入濃度為0.1g/ml的引發(fā)劑偶氮二異丁酸二甲酯的二甲基亞砜溶液中，4小時后取出自然晾干，獲得膜表面覆蓋有引發(fā)劑的聚合物微孔濾膜。

(2)以重金屬離子Hg(Ⅱ)為模板離子，取1.0mmol的醋酸汞、3.0mmol丙烯酰胺、10.0mmol三甲氧基丙烷三甲基丙烯酸酯充分混合，再加入0.15mmol偶氮二異丁酸二甲酯，與18ml二甲基亞砜混合均勻，制成均相溶液體系，超聲脫氣，再將表面覆蓋有引發(fā)劑的聚砜微孔平板濾膜浸入該溶液體系中，通入氮氣10min,在氮氣保護(hù)下加熱至65℃保溫反應(yīng)10小時，得到未脫除模板離子的金屬離子印跡復(fù)合膜。

(3)將上述步驟制得的金屬離子印跡復(fù)合膜浸在濃度為10％(v/v)體積濃度的醋酸溶液中，室溫下振蕩處理10小時，然后用去離子水洗至中性，洗脫模板Hg(Ⅱ)，真空干燥至恒重即得Hg(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜。

(4)自制兩個完全相同的連通的玻璃池即供給池和接受池，將制備的Hg(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜固定于兩個玻璃池中間，組成底部連通的H型密封滲透性裝置，保證兩池沒有滲漏。供給池中加入離子濃度為50mmol/L的Hg(Ⅱ)和Cu(Ⅱ)混合離子溶液，接受池中加入去離 子水，將兩池密封，在電磁攪拌下定時取樣，平衡時用原子吸收分光光度計測定接受池中的Hg(Ⅱ)和Cu(Ⅱ)離子濃度，計算滲透選擇因子α_(Hg/Cu)＝8.71。

實施例5

(1)以聚砜微孔中空纖維濾膜為基膜，將聚砜微孔中空纖維濾膜浸入濃度為0.01g/ml的引發(fā)劑偶氮二異丁腈的N,N-二甲基甲酰胺溶液中，2小時后取出自然晾干，獲得膜表面覆蓋有引發(fā)劑的聚合物微孔濾膜。

(2)以金屬離子Cu(Ⅱ)為模板離子，取1.0mmol的氯化銅、2.0mmol 1-乙烯基咪唑、2.0mmol二乙烯基苯充分混合，再加入0.04mmol偶氮二異丁腈，與15mlN,N-二甲基甲酰胺混合均勻，制成均相溶液體系，超聲脫氣，再將表面覆蓋有引發(fā)劑的聚砜微孔中空纖維濾膜浸入該溶液體系中，通入氮氣5min,在氮氣保護(hù)下加熱至60℃保溫反應(yīng)20小時，得到未脫除模板離子的金屬離子印跡復(fù)合膜。

(3)將上述步驟制得的金屬離子印跡復(fù)合膜浸入濃度為20％的EDTA溶液中溶液中，室溫下振蕩處理12小時，然后用去離子水洗至中性，洗脫模板Cu(Ⅱ)，真空干燥至恒重即得Cu(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜。

(4)自制兩個完全相同的連通的玻璃池即供給池和接受池，將制備的Cu(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜固定于兩個玻璃池中間，組成底部連通的H型密封滲透性裝置，保證兩池沒有滲漏。供給池中加入Cu(Ⅱ)與Pd(Ⅱ)離子濃度均為50.0mmol/L的混合離子溶液，接受池中加入去離子水，將兩池密封，在電磁攪拌下定時取樣，平衡時用原子吸收分光光度計測定接受池中的Cu(Ⅱ)和Pb(Ⅱ)離子濃度，計算滲透選擇因子α_(Cd/Cu)＝6.93。

實施例6

(1)以聚醚砜微孔平板濾膜為基膜，將聚醚砜微孔平板濾膜浸 入濃度為0.05g/ml的引發(fā)劑偶氮二異丁酸二甲酯的乙醇溶液中，1小時后取出自然晾干，獲得膜表面覆蓋有引發(fā)劑的聚合物微孔濾膜。

(2)以Zn(Ⅱ)為模板離子，取1.0mmol的氯化鋅、2.0mmol 2-乙烯基吡啶、3.0mmol 4-乙烯基吡啶、30mmol三甲氧基丙烷三甲基丙烯酸酯充分混合，再加入0.1mmol偶氮二異丁腈，與20ml乙醇混合均勻，制成均相溶液體系，超聲脫氣，再將表面覆蓋有引發(fā)劑的聚醚砜微孔平板濾膜浸入該溶液體系中，通入氮氣6min,在氮氣保護(hù)下加熱至55℃保溫反應(yīng)24小時，得到未脫除模板離子的金屬離子印跡復(fù)合膜。

(3)將上述步驟制得的金屬離子印跡復(fù)合膜浸在濃度為10％(v/v)體積濃度的鹽酸溶液中，室溫下振蕩處理4小時，然后用去離子水洗至中性，洗脫模板Zn(Ⅱ)，真空干燥至恒重即得Zn(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜。

(4)自制兩個完全相同的連通的玻璃池即供給池和接受池，將制備的Cd(Ⅱ)離子印跡復(fù)合膜固定于兩個玻璃池中間，組成底部連通的H型密封滲透性裝置，保證兩池沒有滲漏。供給池中加入Zn(Ⅱ)和Ni(Ⅱ)離子濃度均為50.0mmol/L的混合離子溶液，接受池中加入去離子水，將兩池密封，在電磁攪拌下定時取樣，平衡時用原子吸收分光光度計測定接受池中的Cd(Ⅱ)和Cu(Ⅱ)離子濃度，計算滲透選擇因子α_(Zn/Ni)＝4.39。

對比例1

(1)非離子印跡膜的制備

方法與實施例2相同，只是在制備過程中不加入Cd(Ⅱ)離子。

(2)膜性能測試

方法與上述實施例2相同。平衡時用原子吸收分光光度計測定并計算滲透選擇因子α_(Cd/Cu)＝1.25。

對比例2

(1)非離子印跡膜的制備

方法與實施例6相同，只是在制備過程中不加入Zn(Ⅱ)離子。

(2)膜性能測試

方法與實施例6相同。平衡時用原子吸收分光光度計測定并計算滲透選擇因子α_(Zn/Ni)＝0.86。

從以上實施例可以看出本發(fā)明所制備的離子印跡復(fù)合膜在相同時間內(nèi)對模板離子的滲透量高于其它非模板離子，說明離子印跡復(fù)合膜具有良好的離子選擇性，這是由于離子印跡復(fù)合膜表面的聚合物層中擁有大量與模板離子在尺寸大小、空間結(jié)構(gòu)、結(jié)合位點分布相互匹配的印跡孔穴，大大提高了復(fù)合膜對該模板離子的親和性，該孔穴能夠優(yōu)先吸附模板離子，然后通過離解、擴散、再結(jié)合、再離解、再擴散的循環(huán)過程進(jìn)行滲透，使得模板離子能以較快的速度通過離子印跡復(fù)合膜。

本說明書中未作詳細(xì)描述的內(nèi)容屬于本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員公知的現(xiàn)有技術(shù)。