專利名稱：一種研磨液供應(yīng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及化學(xué)機(jī)械設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種研磨液供應(yīng)裝置。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，集成電路制造行業(yè)發(fā)展迅速。同樣，化學(xué)機(jī)械研磨作為芯片加工中必不可少的一道工藝也面臨著越來(lái)越高的挑戰(zhàn)。在化學(xué)機(jī)械研磨工藝中，將半導(dǎo)體晶片放置于研磨頭上，并使晶片表面朝下與研磨墊接觸，在研磨墊和半導(dǎo)體晶片之間通入研磨液，通過(guò)晶片表面和研磨墊之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)使得晶片表面平坦化。研磨液是化學(xué)機(jī)械研磨工藝中一項(xiàng)關(guān)鍵的消耗品，在芯片化學(xué)機(jī)械研磨過(guò)程中起著重要的作用。為了滿足化學(xué)機(jī)械研磨工藝中不同制程的需要，越來(lái)越多的研磨液被開(kāi)發(fā)并投入使用，因此出現(xiàn)了各式各樣的研磨液供應(yīng)裝置。研磨液供應(yīng)裝置一般都包括機(jī)架、以及安裝在該機(jī)架上的用于存儲(chǔ)研磨液的儲(chǔ)液桶。然而，傳統(tǒng)的研磨液供應(yīng)裝置存在以下問(wèn)題:儲(chǔ)液桶內(nèi)的研磨液在長(zhǎng)時(shí)間放置后，容易產(chǎn)生固態(tài)沉淀，當(dāng)其使用時(shí)，這些固態(tài)沉淀會(huì)連同液體一起被供應(yīng)到使用端，造成被研磨的晶片表面劃傷或者在其表面上附著顆粒物，導(dǎo)致產(chǎn)品的良率下降。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型目的是:針對(duì)上述問(wèn)題，提供一種不易產(chǎn)生沉淀的研磨液供應(yīng)裝置。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:所述的研磨液供應(yīng)裝置，包括機(jī)架，該機(jī)架上裝有用于儲(chǔ)存研磨液的儲(chǔ)液桶，該儲(chǔ)液桶上連有至少一根與儲(chǔ)液桶的內(nèi)腔相連通的供液管，所述供液管上設(shè)有沿淹磨液流向依次布置的泵和供液閥，還包括回液管，該回液管的一端與所述泵和所述供液閥之間的供液管管段相連通，另一端與所述儲(chǔ)液桶的內(nèi)腔相連通。作為優(yōu)選，所述機(jī)架上還裝有用于攪拌儲(chǔ)液桶內(nèi)的研磨液的攪拌器。作為優(yōu)選，所述攪拌器中設(shè)有提供動(dòng)力的馬達(dá)，該馬達(dá)為無(wú)刷馬達(dá)。作為優(yōu)選，所述儲(chǔ)液桶的底部裝有排液管，且排液管上設(shè)有排液閥。作為優(yōu)選，所述供液管連在所述儲(chǔ)液桶的底部。作為優(yōu)選，所述機(jī)架的底部裝有萬(wàn)向輪。作為優(yōu)選，所述機(jī)架上裝有推手。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:1、當(dāng)本研磨液供應(yīng)裝置不使用時(shí)，可以關(guān)閉供液閥，開(kāi)啟泵，儲(chǔ)液桶內(nèi)的研磨液經(jīng)供液管輸送至回液管，再由回液管回流至儲(chǔ)液桶內(nèi)。這樣就可以是儲(chǔ)液桶內(nèi)的研磨液始終處于運(yùn)動(dòng)狀態(tài)，從而有效地避免了儲(chǔ)液桶內(nèi)的研磨液引長(zhǎng)期放置后容易產(chǎn)生沉淀的現(xiàn)象。2、機(jī)架上裝有用于攪拌儲(chǔ)液桶內(nèi)的研磨液的攪拌器7，可加劇儲(chǔ)液桶內(nèi)研磨液的運(yùn)動(dòng)，同時(shí)保證了研磨液的均勻程度。3、攪拌器采用的馬達(dá)為無(wú)刷馬達(dá)，這種馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)不會(huì)產(chǎn)生粉塵污染桶內(nèi)的研磨液。[0017]4、供液管殼設(shè)置多根，可向多個(gè)使用端供應(yīng)研磨液。5、單一儲(chǔ)液桶設(shè)計(jì)，清洗方便，且可避免不同性質(zhì)研磨液或化學(xué)品混合之風(fēng)險(xiǎn)。6、機(jī)架上裝有萬(wàn)向輪和推手，便于設(shè)備的移動(dòng)。7、儲(chǔ)液桶采用封閉式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可保持水氣并避免空氣進(jìn)入桶身內(nèi)，降低研磨液產(chǎn)生結(jié)晶物。
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:


圖1為本實(shí)用新型研磨液供應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；其中:1-機(jī)架，2-儲(chǔ)液桶，3-供液管，4-泵，5-供液閥，6-回液管，7-攪拌器，8-排液管，9-排液閥，10-萬(wàn)向輪，11-推手。
具體實(shí)施方式
圖1出示了本實(shí)用新型研磨液供應(yīng)裝置的一個(gè)具體實(shí)施例，它包括機(jī)架1，該機(jī)架I上裝有用于儲(chǔ)存研磨液的儲(chǔ)液桶2。儲(chǔ)液桶2上連有至少一根(本例為一根)與儲(chǔ)液桶的內(nèi)腔相連通的供液管3。本例中，供液管3連在儲(chǔ)液桶2的底部。所述供液管3上設(shè)有沿淹磨液流向依次布置的泵4和供液閥5 (即泵4位于供液閥5的上游位置)。本研磨液供應(yīng)裝置還包括一根回液管6，該回液管6的一端與所述泵4和所述供液閥5之間的供液管管段相連通，另一端與所述儲(chǔ)液桶2的內(nèi)腔相連通。本研磨液供應(yīng)裝置在使用時(shí)，預(yù)先在儲(chǔ)液桶2內(nèi)裝入準(zhǔn)備好的研磨液，開(kāi)啟供液管3上的泵4和供液閥5，在泵4的動(dòng)力作用下，儲(chǔ)液桶2內(nèi)的研磨液沿著供液管3輸出至使用端。當(dāng)本研磨液供應(yīng)裝置不使用時(shí)，可以關(guān)閉供液閥5，開(kāi)啟泵4，儲(chǔ)液桶2內(nèi)的研磨液在泵4的作用下經(jīng)供液管3輸送至回液管4，再由回液管4回流至儲(chǔ)液桶2內(nèi)，研磨液流向參照?qǐng)D中箭頭所示。這樣就可以是儲(chǔ)液桶2內(nèi)的研磨液始終處于運(yùn)動(dòng)狀態(tài)，從而有效地避免了儲(chǔ)液桶內(nèi)的研磨液引長(zhǎng)期放置后容易產(chǎn)生沉淀的現(xiàn)象。為了使儲(chǔ)液桶2內(nèi)研磨液運(yùn)動(dòng)更加激烈，同時(shí)也為了保證研磨液的均勻程度，本例還在機(jī)架I上裝有用于攪拌儲(chǔ)液桶2內(nèi)的研磨液的攪拌器7。攪拌器7中設(shè)有提供動(dòng)力的馬達(dá)，為了防止馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生粉塵污染桶內(nèi)的研磨液，本例中攪拌器7采用的馬達(dá)為無(wú)刷馬達(dá)(高扭矩?cái)?shù)字無(wú)刷馬達(dá))。此外，為了便于將儲(chǔ)液桶2內(nèi)的不需要使用的研磨液排出，同時(shí)也為了方便儲(chǔ)液桶2的清洗，本例在儲(chǔ)液桶2的底部安裝了排液管8，且排液管8上設(shè)有排液閥9。另外，為了方便本研磨液供應(yīng)裝置的移動(dòng)，本例在機(jī)架I的底部安裝了多個(gè)萬(wàn)向輪10，在機(jī)架I側(cè)部安裝了便于推動(dòng)裝置移動(dòng)的推手11。當(dāng)然，上述實(shí)施例只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓人們能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型主要技術(shù)方案的精神實(shí)質(zhì)所做的等效變換或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種研磨液供應(yīng)裝置，包括機(jī)架(1)，該機(jī)架(I)上裝有用于儲(chǔ)存研磨液的儲(chǔ)液桶(2)，該儲(chǔ)液桶(2)上連有至少一根與儲(chǔ)液桶的內(nèi)腔相連通的供液管(3)，所述供液管(3)上設(shè)有沿淹磨液流向依次布置的泵(4)和供液閥(5)，其特征在于:還包括回液管(6)，該回液管(6)的一端與所述泵(4)和所述供液閥(5)之間的供液管管段相連通，另一端與所述儲(chǔ)液桶(2)的內(nèi)腔相連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨液供應(yīng)裝置，其特征在于:所述機(jī)架(I)上還裝有用于攪拌儲(chǔ)液桶(2)內(nèi)的研磨液的攪拌器(7)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨液供應(yīng)裝置，其特征在于:所述攪拌器(7)中設(shè)有提供動(dòng)力的馬達(dá)，該馬達(dá)為無(wú)刷馬達(dá)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的研磨液供應(yīng)裝置，其特征在于:所述儲(chǔ)液桶(2)的底部裝有排液管(8),且排液管(8)上設(shè)有排液閥(9)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的研磨液供應(yīng)裝置，其特征在于:所述供液管(3)連在所述儲(chǔ)液桶(2)的底部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的研磨液供應(yīng)裝置，其特征在于:所述機(jī)架(I)的底部裝有萬(wàn)向輪(10)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的研磨液供應(yīng)裝置，其特征在于:所述機(jī)架(I)上裝有推手(11)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的研磨液供應(yīng)裝置，其特征在于:所述儲(chǔ)液桶(2)為封閉式結(jié)構(gòu)。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種研磨液供應(yīng)裝置，它包括機(jī)架，該機(jī)架上裝有用于儲(chǔ)存研磨液的儲(chǔ)液桶，該儲(chǔ)液桶上連有至少一根與儲(chǔ)液桶的內(nèi)腔相連通的供液管，所述供液管上設(shè)有沿研磨液流向依次布置的泵和供液閥，還包括回液管，該回液管的一端與所述泵和所述供液閥之間的供液管管段相連通，另一端與所述儲(chǔ)液桶的內(nèi)腔相連通。本實(shí)用新型的研磨液供應(yīng)裝置不易在儲(chǔ)液桶內(nèi)產(chǎn)生沉淀。
文檔編號(hào)B24B57/02GK203045540SQ20122067890
公開(kāi)日2013年7月10日 申請(qǐng)日期2012年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月10日
發(fā)明者李宗龍, 謝明發(fā), 郭慶邦, 賴建宏, 高宏志 申請(qǐng)人:蘇州可米特機(jī)械科技有限公司