專利名稱：一種用于光刻機(jī)的柱面鏡的手動拋光工具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光刻機(jī)，特別是一種用于光刻機(jī)的柱面鏡手持拋光工具。
背景技術(shù)：
氟化鈣晶體由于其在深紫外波段具有高透過率，低雙折射等優(yōu)異性能使成為深紫外光刻機(jī)光刻物鏡系統(tǒng)所必需的光學(xué)材料之一。相比常規(guī)光學(xué)材料(K9，熔石英等)，氟化鈣晶體為典型的單晶軟脆材料，其質(zhì)地軟，溫度膨脹系數(shù)大，脆性高和各項異性材料等材料特性使氟化鈣在研磨加工過程當(dāng)中很難滿足光刻物鏡系統(tǒng)的極限衍射成像系統(tǒng)。當(dāng)加工如下圖3所示的柱面鏡時用金剛石車床車削凹面時(平面已經(jīng)加工好)會產(chǎn)生扇形的紋路且Ra=6到IOnm和均方根值(RMS)也遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足90nm光刻機(jī)的需要。同時，氟化鈣的加工有以下四個難點(diǎn):1，軟而脆；2，熱膨脹系數(shù)大；3，熱傳導(dǎo)能力差；4，斷裂強(qiáng)度低。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供`一種用于光刻機(jī)的柱面鏡的手動拋光工具，克服柱面鏡面型難以加工的困難，滿足國內(nèi)90nm光刻機(jī)的設(shè)計需要本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是:—種用于光刻機(jī)的柱面鏡的手動拋光工具，特征在于其構(gòu)成包括拋光頭、與該拋光頭固定連接的手柄、以及黏貼在該拋光頭外表面的絨布。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:I)在一般拋光過程當(dāng)中很難同時保證面型與粗糙度，本實(shí)用新型兩者兼顧，且在拋光過程當(dāng)中避免有雜物混入拋光區(qū)域。2)本實(shí)用新型解決了如下問題:★在保證粗糙度的同時兼顧面型；★在在保證面型與粗糙度的同時避免雜物混入拋光區(qū)域；★手工操作方便且符合人體工程力學(xué)。

圖1是本實(shí)用新型手持拋光工具的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為手持拋光工具和柱面鏡使用狀態(tài)圖。圖中:1 一手柄、2—拋光頭、3—續(xù)布、4一待拋光柱面鏡凹面。
具體實(shí)施方式
[0020]
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，但不應(yīng)以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。請參閱圖1，圖1是本實(shí)用新型手持拋光工具的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖所示，一種手持拋光工具，包括拋光頭2、與該拋光頭2固定連接的手柄1、以及黏貼在該拋光頭外表面的絨布3。所述絨布的面積大于待拋光柱面鏡的凹面。所述的手柄I由鋁制成，所述拋光頭2由尼龍該材料制成。拋光頭與手柄通過螺紋進(jìn)行配合固定。本實(shí)用新型手持拋光工具的操作方法如下:①建立超凈工作室和超凈工作臺，室內(nèi)溫度為20 26°C ±0.1°C，濕度為50 70%,標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下進(jìn)行手動拋光工作。②在超凈房間內(nèi)，工作人員帶上防靜電手套和口罩，對已經(jīng)用金剛石車床加工過的氟化鈣柱面鏡用Zygo VeriFire非球面干涉儀上進(jìn)行測量記下原始數(shù)據(jù)然后對需要拋光的面型進(jìn)行擦拭，在擦拭過程中把柱面鏡放在IOOw的燈光下仔細(xì)觀看表面灰塵，直到無人眼可見灰塵，擦拭完畢，把擦拭好的柱面鏡放在玻璃器皿中，防止再次污染。③準(zhǔn)備好拋光液以及固定好柱面鏡，然后用本實(shí)用新型手持拋光工具蘸上拋光液對柱面鏡進(jìn)行拋光。④拋光一段時間后擦拭干凈再利用Zygo VeriFire非球面干涉儀進(jìn)行面形測量，當(dāng)面形不符合設(shè)計要求時返回步驟③，如果符合要求進(jìn)入下一步。⑤擦拭干凈包裝好入庫。
權(quán)利要求1.一種用于光刻機(jī)的柱面鏡的手動拋光工具，特征在于其構(gòu)成包括拋光頭(2)、與該拋光頭(2 )固定連接的手柄(I)、以及黏貼在該拋光頭外表面的絨布(3 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的手持拋光工具，其特征在于，所述絨布的面積大于待拋光柱面鏡的凹面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的手持拋光工具，其特征在于，所述的手柄(I)由鋁制成，所述拋光頭(2)由尼龍該材料制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的手持拋光工具，其特征在于，所述的拋光頭與手柄通過螺紋固定連接。
專利摘要一種用于光刻機(jī)的柱面鏡的手動拋光工具，特征在于其構(gòu)成包括拋光頭、與該拋光頭固定連接的手柄、以及黏貼在該拋光頭外表面的絨布。本實(shí)用新型在保證粗糙度的同時兼顧面型，同時避免雜物混入拋光區(qū)域。
文檔編號B24B13/01GK202943509SQ20122067853
公開日2013年5月22日 申請日期2012年12月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月11日
發(fā)明者蔣泉權(quán), 魏向榮, 顧亞平 申請人:上海現(xiàn)代先進(jìn)超精密制造中心有限公司