專利名稱：鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜裝置，尤其涉及一種對具有不同弧面曲率的工件進行鍍膜的鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
在物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)的過程中，祀材原子或離子沉積在基材上成膜，但是因為具有不同弧面曲率的工件特殊的結(jié)構(gòu)和形狀，如常規(guī)鍍膜方式難以實現(xiàn)的具有弧面結(jié)構(gòu)的小尺寸工件，在進行離子鍍膜時，由于上述具有不同弧面曲率的工件具有弧面和曲部位，導(dǎo)致該類工件表面通常曲率較大，因此，電荷極易在尖端和端面位置聚集，產(chǎn)生尖端放電，改變了該類工件表面的磁場強度分布，使得對該類工件進行離子鍍膜的困難較大，直接影響了產(chǎn)品的鍍膜品質(zhì)和良率。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能對具有不同弧面曲率的工件進行鍍膜的鍍膜裝置。
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一種鍍膜裝置，該鍍膜裝置包括磁性部件、固定部及一離子源，該離子源可濺射出用于鍍膜的離子，該工件固定于該固定部上，該磁性部件與該離子源以待鍍膜的工件為中心相對設(shè)置，與待鍍膜工件之間形成一指向待鍍膜工件的旋轉(zhuǎn)聚焦加速磁場，用于引導(dǎo)離子向工件方向飛濺。本發(fā)明利用安裝在該鍍膜裝置中承載臺上的磁性部件產(chǎn)生一均勻有規(guī)律的旋轉(zhuǎn)聚焦磁場，鍍膜的飛濺離子在磁場作用下加速向工件聚焦并沉積在工件上，從而克服了因具有不同弧面曲率結(jié)構(gòu)的工件存在的端面和弧面曲面部位所形成尖端放電，導(dǎo)致離子鍍膜困難的問題。


圖1是本發(fā)明一較佳實施例鍍膜裝置示意圖。圖2是本發(fā)明另一較佳實施例鍍膜裝置示意圖。圖3是對圖1、2較佳實施例鍍膜裝置的俯視圖。主要元件符號說明
權(quán)利要求
1.一種鍍膜裝置，其特征在于:該鍍膜裝置包括磁性部件、固定部及一離子源，該離子源可濺射出用于鍍膜的離子，該固定部用以固定一待鍍膜工件，該磁性部件與該離子源以待鍍膜的工件為中心相對設(shè)置，與待鍍膜工件之間形成一指向待鍍膜工件的旋轉(zhuǎn)聚焦加速磁場，用于引導(dǎo)離子向工件方向飛濺。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于:所述磁性部件為一圓盤形，其上設(shè)有一磁體，分別為N級和S級，該圓盤為中心旋轉(zhuǎn)，在旋轉(zhuǎn)的過程中，該磁性部件可從N極到S極產(chǎn)生磁場。
3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于:所述磁性部件為一產(chǎn)生磁場的線圈，該磁力線圈固定在一個旋轉(zhuǎn)的圓盤上，通過該磁力線圈通電，產(chǎn)生一個磁場。
4.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于:所述固定部包括一固定桿，并通過該固定桿將工件固定于該固定部上。
5.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于:待鍍膜的工件具有弧面曲面的長條形。
6.如權(quán)利要求1所述的 鍍膜裝置，其特征在于:該離子源與工件之間設(shè)有偏壓電源。
全文摘要
一種鍍膜裝置，該鍍膜裝置包括磁性部件、固定部及一離子源，該離子源可濺射出用于鍍膜的離子，該工件固定于該固定部上，該磁性部件與該離子源以待鍍膜的工件為中心相對設(shè)置，與待鍍膜工件之間形成一指向待鍍膜工件的旋轉(zhuǎn)聚焦加速磁場，用于引導(dǎo)離子向工件方向飛濺。從而克服了因具有弧面曲率不同結(jié)構(gòu)的工件，其存在的端面和弧面曲面部位所形成尖端放電，導(dǎo)致離子鍍膜困難的問題。
文檔編號C23C14/35GK103160792SQ20111041157
公開日2013年6月19日 申請日期2011年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月12日
發(fā)明者黃登聰, 彭立全 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司