專(zhuān)利名稱(chēng)：搬運(yùn)機(jī)械手以及搬運(yùn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在真空氣氛中對(duì)搬運(yùn)對(duì)象物進(jìn)行搬運(yùn)的搬運(yùn)機(jī)械手。
背景技術(shù)：
以往，在成膜裝置等真空裝置中，采用了維持真空槽內(nèi)的真空氣氛且能夠搬運(yùn)基板的真空機(jī)械手(搬運(yùn)機(jī)械手)。
真空機(jī)械手在真空槽內(nèi)搬運(yùn)處理前的基板或處理后的基板，但是，例如成膜處理后的基板變成高溫，若搬運(yùn)這樣的高溫基板，則將導(dǎo)致真空機(jī)械手被加熱。
當(dāng)真空機(jī)械手在真空中被加熱時(shí)，基板的熱會(huì)傳遞到真空機(jī)械手的臂部，最終，熱從真空機(jī)械手的固定于真空槽上的基座凸緣(baseflange)逃逸至真空槽。
但是，使真空機(jī)械手的臂部伸縮的旋轉(zhuǎn)軸(例如心軸或內(nèi)筒)由軸承支承，大多情況下，軸承是球體，接觸面積小，熱傳導(dǎo)率非常低，所以，從基板受到的熱不會(huì)逃逸至真空槽而是蓄積在真空機(jī)械手的臂部。
而且，為了抑制真空槽的內(nèi)壁放出氣體，通過(guò)電解研磨法或化學(xué)研磨法對(duì)其內(nèi)壁進(jìn)行了研磨處理。因此，由于真空槽的內(nèi)壁表面的平坦度高、且輻射比非常小，所以，真空槽內(nèi)壁表面的熱能反射率非常高，真空機(jī)械手也會(huì)受到由真空槽內(nèi)壁表面反射的熱能。
這樣，由于真空機(jī)械手所受到的熱能量多，且從真空機(jī)械手逃逸的熱能量少，所以，真空機(jī)械手的溫度會(huì)緩慢上升，導(dǎo)致傳遞到真空機(jī)械手的熱能量和從真空機(jī)械手逃逸的熱能量對(duì)抗而形成非常高的溫度。
以往的真空機(jī)械手無(wú)法耐高溫，另外，為了耐高溫，必須使用高價(jià)的固體潤(rùn)滑軸承作為對(duì)支承軸進(jìn)行支承的軸承。
在不使用固體潤(rùn)滑軸承的情況下，若真空機(jī)械手在真空中升至高溫，則由于軸承的潤(rùn)滑油發(fā)生蒸發(fā)，所以，必須在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行維護(hù)，而且存在著因潤(rùn)滑不良而引起動(dòng)作不良的問(wèn)題。
另外，作為減少向真空機(jī)械手入射的熱能量的方法，有一種將基板和熱遮蔽板以重疊的狀態(tài)下載置于臂部的方法，但是，若向真空環(huán)境之外(通常是大氣環(huán)境)運(yùn)出的熱能較少，則結(jié)果將導(dǎo)致真空機(jī)械手升至高溫。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1特開(kāi)平5-74699號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2特開(kāi)平6-204316號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種即使在真空氣氛中搬運(yùn)高溫基板的情況下，也不會(huì)升至高溫、不會(huì)引起動(dòng)作不良的搬運(yùn)機(jī)械手。
為了解決上述課題，本發(fā)明提供一種搬運(yùn)機(jī)械手，具有底座部和由支承軸支承于前述底座部的臂部，使前述臂部移動(dòng)來(lái)搬運(yùn)基板，其中，前述底座部具有能夠與前述基板對(duì)置的第一面、和與前述第一面相反側(cè)的第二面，在前述第二面配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的散熱側(cè)高輻射比部，具有表面與前述散熱側(cè)高輻射比部對(duì)置配置，并接收從前述散熱側(cè)高輻射比部放射的熱的受熱板。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)機(jī)械手，在前述受熱板的與前述散熱側(cè)高輻射比部對(duì)置的面，配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的受熱側(cè)高輻射比部。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)機(jī)械手，在前述底座部的前述第一面上，配置有反射熱的反射鏡。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)機(jī)械手，在對(duì)前述底座部實(shí)施前述表面處理之前，鋁板的平坦表面和不銹鋼的平坦表面的某一方露出。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)機(jī)械手，前述臂部呈板狀，前述臂部具有能夠與前述基板對(duì)置的第一面和與前述第一面相反側(cè)的第二面，在前述臂部的前述第二面配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的臂部側(cè)高輻射比部。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)機(jī)械手，在前述臂部的前述第一面上，配置有反射熱的反射鏡。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)機(jī)械手，前述臂部可伸縮和旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)機(jī)械手，前述底座部以相對(duì)于前述底座部的前述第二面和前述受熱板的與該第二面對(duì)置的表面垂直、且通過(guò)該第二面和前述受熱板的該表面的中心的中心軸線為中心可旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成，在前述底座部旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第二面和該受熱板的該表面維持相互平行的狀態(tài)。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)機(jī)械手，前述表面處理向平坦的表面噴出粒子，增大表面粗糙度。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)機(jī)械手，前述表面處理形成氟樹(shù)脂層。
本發(fā)明提供一種搬運(yùn)裝置，具有真空槽、和搬運(yùn)機(jī)械手，前述搬運(yùn)機(jī)械手具有安裝于前述真空槽的一個(gè)壁面的受熱板、與前述受熱板分離對(duì)置配置的底座部、和由支承軸支承于前述底座部的臂部，通過(guò)使前述臂部移動(dòng)來(lái)搬運(yùn)基板，其中前述底座部具有能夠與前述基板對(duì)置的第一面、和在與前述第一面相反側(cè)與前述受熱板對(duì)置的第二面，在前述底座部的前述第二面配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的散熱側(cè)高輻射比部，具有表面與前述散熱側(cè)高輻射比部對(duì)置配置，并接收從前述散熱側(cè)高輻射比部放射的熱的受熱板。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)裝置，前述臂部呈板狀，前述臂部具有能夠與前述基板對(duì)置的第一面和與前述第一面相反側(cè)的第二面，在前述臂部的前述第二面配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的臂部側(cè)高輻射比部。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)裝置，在前述真空槽的一面，在至少與前述臂部移動(dòng)時(shí)的前述臂部的第二面對(duì)置的區(qū)域，設(shè)置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的真空槽側(cè)高輻射比部。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)裝置，在前述受熱板的與前述散熱側(cè)高輻射比部對(duì)置的面，配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的受熱側(cè)高輻射比部。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)裝置，在前述底座部的前述第一面上，配置有反射熱的反射鏡。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)裝置，在對(duì)前述底座部實(shí)施前述表面處理之前，鋁板的平坦表面和不銹鋼的平坦表面的某一方露出。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)裝置，前述臂部可伸縮和旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)裝置，前述底座部以相對(duì)于前述底座部的前述第二面和前述受熱板的與該第二面對(duì)置的表面垂直、且通過(guò)該第二面和前述受熱板的該表面的中心的中心軸線為中心可旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成，在前述底座部旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第二面和該受熱板的該表面維持相互平行的狀態(tài)。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)裝置，前述表面處理向平坦的表面噴出粒子，增大表面粗糙度。
本發(fā)明是一種搬運(yùn)裝置，前述表面處理形成氟樹(shù)脂層。
另外，輻射比(放射率)是物體熱放射的亮度與同溫度的黑體熱放射的亮度之比。放射率根據(jù)波長(zhǎng)、放射的方向、偏向分量等，考慮各種放射率。在具有足夠厚度和平坦表面的純物質(zhì)的情況下，放射率由物質(zhì)的種類(lèi)、溫度、波長(zhǎng)決定，與光學(xué)常數(shù)具有簡(jiǎn)單的關(guān)系，在不是上述情況時(shí)受到各種因素的支配。在該情況下，也稱(chēng)作有效放射率。在粗糙的表面或凹陷表面的情況下，有效放射率高。(節(jié)選于《巖波理化學(xué)辭典》，第三版增補(bǔ)版，株式會(huì)社巖波書(shū)店，1981年10月20日第三版增補(bǔ)版第二版發(fā)行，p1265《放射率》的項(xiàng)目。)本申請(qǐng)的輻射比對(duì)應(yīng)于上述的有效放射率，高輻射比部的單位面積的有效放射率，小于表面處理之前的底座部表面的單位面積的有效放射率。
本發(fā)明如上所述那樣構(gòu)成，若將基板載置于在臂部設(shè)置的手部，并使臂部移動(dòng)，則基板以載置于手部的狀態(tài)，通過(guò)臂部的移動(dòng)而被搬運(yùn)。
當(dāng)在真空氣氛中搬運(yùn)高溫的基板時(shí)，基板的熱通過(guò)輻射或熱傳導(dǎo)從基板傳熱。
當(dāng)高溫的基板載置于手部時(shí)，基板的熱通過(guò)熱傳導(dǎo)傳遞的路徑是從手部到臂部、從臂部到支承軸、從支承軸到底座部，當(dāng)?shù)鬃拷?jīng)由安裝部件安裝于真空槽時(shí)，傳遞至底座部的熱從底座部經(jīng)由安裝部件向真空槽傳遞。
即使在傳遞相同熱量的情況下，由于輻射比越高，越容易放射包括紅外線的電磁波(輻射熱)，所以，若對(duì)基板的熱向真空槽熱傳導(dǎo)的路徑的中間部件(散熱側(cè)部件)、和表面與該散熱側(cè)部件彼此對(duì)置的受熱側(cè)部件中的至少一方部件的表面進(jìn)行表面處理，提高輻射比，則散熱側(cè)部件與受熱側(cè)部件之間的空間的熱阻抗降低。因此，基板的熱不通過(guò)熱傳導(dǎo)的路徑，而是基于輻射從散熱側(cè)部件直接傳遞至受熱側(cè)部件。
例如，若在底座部設(shè)置散熱側(cè)高輻射比部作為散熱側(cè)部件，在受熱板的與散熱側(cè)高輻射比部對(duì)置的面設(shè)置高輻射比部作為受熱側(cè)部件，則底座部的熱從散熱側(cè)高輻射比部放射，入射到對(duì)置的受熱側(cè)高輻射比部。
即使入射的電磁波的能量相同，由于輻射比越高電磁波的反射率越小，所以，受熱側(cè)高輻射比部吸收大量的電磁波，在受熱板內(nèi)變換成熱。
受熱板密接安裝于真空槽，或經(jīng)由熱傳導(dǎo)性部件安裝于真空槽，從而與真空槽熱連接，使得由受熱板變換的熱通過(guò)熱傳導(dǎo)傳遞至真空槽，并從真空槽向外部散熱。因此，即使在底座部不與真空槽熱連接的情況，或傳遞至真空槽的熱量小的情況下，底座部與臂部也難以升至高溫。
受熱板只要是與真空槽熱連接的部件即可，并沒(méi)有特別的限定，也可以由將搬運(yùn)系統(tǒng)連接于真空槽的凸緣構(gòu)成受熱板，還可以由真空槽的一部分構(gòu)成受熱板。
當(dāng)基板在底座部上方移動(dòng)時(shí)，若將散熱側(cè)高輻射比部設(shè)置在底座部的下方，則由于散熱側(cè)高輻射比部不與基板直接對(duì)置，所以，基板的輻射熱難以入射至散熱側(cè)高輻射比部。
由于受熱側(cè)高輻射比部形成在與真空槽熱連接的受熱板上，所以，即使受熱側(cè)高輻射比部與基板對(duì)置、入射了基板的輻射熱，由受熱板變換的熱也會(huì)傳遞至真空槽，結(jié)果，基板的熱最終向真空槽逃逸。
由于本發(fā)明的搬運(yùn)機(jī)械手，即使通過(guò)輻射或熱傳導(dǎo)從被加熱的基板流入熱能，流入的熱能也會(huì)從散熱側(cè)高輻射比部散熱，使得散熱后的熱能從受熱側(cè)高輻射比部向真空槽傳遞，所以，熱能不會(huì)蓄積于搬運(yùn)機(jī)械手。因此，即使在搬運(yùn)機(jī)械手的臂部放置于真空氣氛的情況下，也會(huì)抑制溫度上升，抑制搬運(yùn)機(jī)械手的軸承所使用的潤(rùn)滑油的蒸發(fā)。因而，本發(fā)明的搬運(yùn)機(jī)械手難以引起動(dòng)作不良，減少了維護(hù)的頻率。而且，本發(fā)明的搬運(yùn)機(jī)械手由于臂部的溫度抑制得低，所以，由熱膨脹對(duì)臂部的伸展造成的影響少，不僅保持基板時(shí)的基板位置再現(xiàn)性不會(huì)惡化，而且，從機(jī)械手臂放出的氣體量也少。


圖1是說(shuō)明搬運(yùn)機(jī)械手安裝于真空槽的狀態(tài)的剖視圖。
圖2是表示搬運(yùn)機(jī)械手的基座凸緣周?chē)囊徊糠值姆糯笃室晥D。
圖3是從上方觀察搬運(yùn)機(jī)械手時(shí)的立體圖。
圖4是臂部的剖視圖。
圖5是表示在散熱確認(rèn)試驗(yàn)中測(cè)定的溫度與時(shí)間的關(guān)系的圖表。
圖6是說(shuō)明本發(fā)明的搬運(yùn)裝置的其他例子的剖視圖。
圖7是說(shuō)明臂部形狀的剖視圖。
附圖標(biāo)記說(shuō)明1、50搬運(yùn)裝置2搬運(yùn)機(jī)械手3搬運(yùn)系統(tǒng)7真空槽9基板15基座凸緣(受熱板)19馬達(dá)部20臂部22臂部側(cè)高輻射比部23、47反射鏡30底座部41散熱側(cè)高輻射比部42受熱側(cè)高輻射比部52真空槽側(cè)高輻射比部具體實(shí)施方式
圖1的附圖標(biāo)記1表示本發(fā)明的搬運(yùn)裝置的一個(gè)例子，該搬運(yùn)裝置1具有搬運(yùn)機(jī)械手2和真空槽7。
搬運(yùn)機(jī)械手2具有板狀的基座凸緣15；位于基座凸緣15的一面?zhèn)?，產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力的馬達(dá)部19(驅(qū)動(dòng)系統(tǒng))；和位于基座凸緣15的另一面?zhèn)?，接受馬達(dá)部19的驅(qū)動(dòng)力使后述的基板移動(dòng)的搬運(yùn)系統(tǒng)3。
在真空槽7的底壁，設(shè)置有孔徑比基座凸緣15的平面形狀小的貫通孔，在搬運(yùn)機(jī)械手2的搬運(yùn)系統(tǒng)3配置于真空槽7內(nèi)部、馬達(dá)部19配置于真空槽7的外部的狀態(tài)下，基座凸緣15的緣部分密接安裝于貫通孔的周?chē)Ｒ虼?，貫通孔處于被基座凸?5阻塞的狀態(tài)。
圖2表示搬運(yùn)機(jī)械手的基座凸緣15周邊的部分的放大剖視圖，基座凸緣15在中央部分設(shè)置有貫通孔，呈環(huán)狀。
內(nèi)徑比貫通孔的孔徑大的外筒12的上端，以密接于貫通孔的周?chē)姆绞桨惭b在基座凸緣15的貫通孔的周?chē)馔?2的下端向鉛直下方延伸，馬達(dá)部19安裝于其下端。因此，馬達(dá)部19通過(guò)外筒12安裝于基座凸緣15上。
馬達(dá)部19具有各自獨(dú)立地產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)力的兩個(gè)驅(qū)動(dòng)軸。在外筒12中插入內(nèi)筒13，在內(nèi)筒13中插入心軸14，內(nèi)筒13的下端和心軸14的下端分別安裝于各自的驅(qū)動(dòng)軸上，內(nèi)筒13與心軸14各自旋轉(zhuǎn)。
在內(nèi)筒13和外筒12之間、內(nèi)筒13和心軸14之間分別配置有具有軸承的軸支承部17、18。內(nèi)筒13和心軸14由軸支承部17、18支承，以使中心軸線B一致，內(nèi)筒13和心軸14以該中心軸線B為中心旋轉(zhuǎn)。
雖未圖示，但是，在軸支承部17、18的下部分別配置有軸密封部，這些軸密封部從外部的大氣氣氛對(duì)真空槽7內(nèi)的真空氣氛進(jìn)行遮蔽。
搬運(yùn)系統(tǒng)3具有底座部30、支承軸35、臂部20。底座部30為中空，其底壁固定在內(nèi)筒13的上端，若內(nèi)筒13旋轉(zhuǎn)，則底座部30也與內(nèi)筒13一同以中心軸線B為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
內(nèi)筒13的上端比基座凸緣15的表面向上方突出，底座部30與基座凸緣15分離。中心軸線B垂直于底座部30的與基座凸緣15對(duì)置的面、和基座凸緣15的與底座部30對(duì)置的面這二者，在底座部30旋轉(zhuǎn)時(shí)，底座部30的與基座凸緣15對(duì)置的面、和基座凸緣15的與底座部30對(duì)置的面維持平行的狀態(tài)。因此，底座部30與基座凸緣15維持分離的狀態(tài)，使得底座部30與基座凸緣15不會(huì)發(fā)生摩擦。
支承軸35的下部安裝于底座部30，上部安裝有臂部20的根部部分，在底座部30旋轉(zhuǎn)時(shí)，臂部20與支承軸35一同以相同的中心軸線B為中心旋轉(zhuǎn)。
在底座部30底壁的、內(nèi)筒13上端的正上位置安裝有貫通孔，心軸14的上部貫通貫通孔，延伸至底座部30的內(nèi)部。
在底座部30內(nèi)配置有旋轉(zhuǎn)力傳遞系統(tǒng)34，心軸14的旋轉(zhuǎn)力通過(guò)旋轉(zhuǎn)力傳遞系統(tǒng)34傳遞至支承軸35。
在支承軸35與底座部30之間配置有軸承部。這里，在支承軸35的下端與底座部30的底壁側(cè)內(nèi)壁之間配置有第一軸承部36，在支承軸35的上部與底座部30的頂板側(cè)外壁之間配置有第二軸承部37。
第一、第二軸承部36、37構(gòu)成為，在心軸14的旋轉(zhuǎn)力傳遞至支承軸35時(shí)，不將該旋轉(zhuǎn)力傳遞至底座部30，而將旋轉(zhuǎn)力傳遞至支承軸35，使支承軸35以其中心軸線為中心旋轉(zhuǎn)。
臂部20具有未圖示的連桿機(jī)構(gòu)，若支承軸35旋轉(zhuǎn)，則該連桿機(jī)構(gòu)動(dòng)作，使得臂部20伸縮。
圖3表示搬運(yùn)機(jī)械手2的配置于真空槽7側(cè)的部分的立體圖。在臂部20的前端上安裝有手部25，作為搬運(yùn)對(duì)象物的基板9載置于該手部25上。
由于手部25與臂部20一同移動(dòng)，所以，通過(guò)臂部20的伸縮和底座部30的旋轉(zhuǎn)，手部25上的基板9被搬運(yùn)至期望位置。
如上所述，基座凸緣15密接于真空槽7底壁的貫通孔周?chē)?，在基座凸?5的貫通孔的周?chē)芙影惭b有外筒12，所以，真空槽7的內(nèi)部處于從外部氣氛遮斷的狀態(tài)。
因此，若通過(guò)與真空槽7連接的未圖示的真空泵，對(duì)真空槽7的內(nèi)部進(jìn)行真空排氣，則基板9和搬運(yùn)系統(tǒng)3放置在形成于真空槽7內(nèi)的真空氣氛中，基板9在該真空氣氛中被搬運(yùn)。
這里，真空槽7與處理室61和后處理室62連接，在處理室61內(nèi)部和后處理室62的內(nèi)部與真空槽7同樣形成有真空氣氛。在處理室61中配置有因成膜或蝕刻等處理而升至高溫的基板9，延伸臂部20使手部25進(jìn)入處理室61，在使基板9保持于手部25上之后收縮臂部20，則基板9被搬入真空槽7內(nèi)部。若在旋轉(zhuǎn)臂部20并改變手部25的朝向之后延伸臂部20，則手部25與基板9一同被搬入到后處理室62內(nèi)部，由此，基板9被交接到后處理室62內(nèi)。
手部25、臂部20、支承軸35、底座部30由鋁或不銹鋼等熱傳導(dǎo)性材料構(gòu)成，由于在真空氣氛中不引起熱對(duì)流，所以，在搬運(yùn)機(jī)械手2從處理室61接收基板9到交接至后處理室62期間中，從基板9因輻射而放出的熱之外的熱，通過(guò)熱傳遞傳導(dǎo)至手部25、臂部20、支承軸35和底座部30。
如上所述，基座凸緣15與底座部30分離，底座部30經(jīng)由內(nèi)筒13、軸支承部17和外筒12，與基座凸緣15連接，但是由于軸支承部17的軸承熱傳導(dǎo)性較低，所以，通過(guò)熱傳導(dǎo)從底座部30向基座凸緣15逃逸的熱量少。
在本發(fā)明的搬運(yùn)機(jī)械手2中，由于底座部30位于基座凸緣15上，所以，底座部30的下側(cè)的面(第二面)與基座凸緣15的上側(cè)的面對(duì)置。
對(duì)底座部30的下側(cè)的面和基座凸緣15的上側(cè)的面實(shí)施后述的表面處理，形成了散熱側(cè)高輻射比部41和受熱側(cè)高輻射比部42。若將底座部30的被表面處理之前的平坦表面的輻射比作為前處理輻射比，則前處理輻射比在底座部30是不銹鋼制的情況下為0.4以下，在底座部30是鋁制的情況下為0.05以上0.2以下，與之相對(duì)，通過(guò)表面處理，散熱側(cè)高輻射比部41的輻射比和受熱側(cè)高輻射比部42的輻射比超過(guò)0.4，比底座部30的前處理輻射比高。
如上所述，由于底座部30的下側(cè)的面和基座凸緣15的上側(cè)的面對(duì)置，所以，散熱側(cè)高輻射比部41和受熱側(cè)高輻射比部42對(duì)置，底座部30的熱轉(zhuǎn)換成電磁波(例如紅外線)從散熱側(cè)高輻射比部41放射，該紅外線入射至受熱側(cè)高輻射比部42。
基座凸緣15由鋁或不銹鋼等熱傳導(dǎo)性材料構(gòu)成，密接安裝于真空槽7，所以，在入射于受熱側(cè)高輻射比部42的紅外線轉(zhuǎn)換成熱時(shí)，從基座凸緣15向真空槽7傳遞，從真空槽7的外壁面向外部氣氛(大氣)或地面放出。
這樣，在本發(fā)明的搬運(yùn)機(jī)械手2中，搬運(yùn)系統(tǒng)3的熱傳遞至基座凸緣15即受熱板，由此使得放置在真空氣氛中的搬運(yùn)系統(tǒng)3被高效冷卻。
底座部30的貫通孔設(shè)置在底壁的中央部分，由于基座凸緣15呈在其中央部分設(shè)置有貫通孔的板狀，所以，散熱側(cè)高輻射比部41和受熱側(cè)高輻射比部42呈環(huán)狀。
內(nèi)筒13通過(guò)基座凸緣15的貫通孔的近似中心，其中心軸線在散熱側(cè)高輻射比部41的環(huán)的內(nèi)側(cè)和受熱側(cè)高輻射比部42的環(huán)的內(nèi)側(cè)，通過(guò)散熱側(cè)高輻射比部41的中心和受熱側(cè)高輻射比部42的中心。
內(nèi)筒13的中心軸線和旋轉(zhuǎn)的中心軸線B一致，如上所述，通過(guò)底座部30的旋轉(zhuǎn)，底座部30的與基座凸緣15對(duì)置的面、和基座凸緣15的與底座部30對(duì)置的面維持平行的狀態(tài)，所以，若通過(guò)底座部30的旋轉(zhuǎn)，散熱側(cè)高輻射比部41以中心軸線B為中心旋轉(zhuǎn)，則散熱側(cè)高輻射比部41和受熱側(cè)高輻射比部42總是以相同的面積對(duì)置，在向底座部30的傳熱量相同的情況下，總是從散熱側(cè)高輻射比部41向受熱側(cè)高輻射比部42入射一定量的輻射熱。
在使底座部30旋轉(zhuǎn)來(lái)改變臂部20的朝向時(shí)，為了減少施加于基板9的離心力，暫時(shí)使臂部20的腕部縮短之后使其旋轉(zhuǎn)，若縮短臂部20的腕部，則高溫的基板9會(huì)配置到底座部30上。因此，底座部30的上表面(第一面)能夠與基板9對(duì)置。
在底座部30上配置有反射紅外線那樣的電磁波的反射鏡47。例如，反射鏡47由具有反射電磁波的鏡面的鏡子構(gòu)成，以鏡面朝向上側(cè)的狀態(tài)，并按照覆蓋底座部30的上表面以及側(cè)面的一部分的方式安裝，由此，來(lái)自基板9的輻射熱被反射鏡47的鏡面反射，使得基板9的輻射熱不會(huì)入射到底座部30。另外，反射鏡47隔著由隔熱材料構(gòu)成的襯墊48安裝于底座部30，由于底座部30與反射鏡47不接觸，所以，即使反射鏡47升溫，反射鏡47的熱也不會(huì)傳遞至臂部20。
這樣，由于來(lái)自基板9的輻射熱被反射鏡47反射，從基板9通過(guò)熱傳導(dǎo)傳遞的熱通過(guò)基座凸緣15而向真空槽7逃逸，所以，即使臂部20和底座部30被放置于真空氣氛中，也難以成為高溫。
因此，即使在第一、第二軸承部36、37和軸支承部17、18采用了涂敷有潤(rùn)滑油的軸承的情況下，由于該潤(rùn)滑油不蒸發(fā)，所以，維護(hù)的頻率減少，且難以引起動(dòng)作不良。
另外，除了底座部30之外，也可以在臂部20設(shè)置高輻射比部和反射鏡。
圖4表示圖3的C-C切斷線剖視圖，對(duì)臂部20的下側(cè)的面(第二面)實(shí)施了上述的表面處理，形成了輻射比與底座部30的前處理輻射比相比高的臂部側(cè)高輻射比部22。因此，臂部20的熱除了向支承軸35和底座部30的熱傳導(dǎo)之外，也通過(guò)從臂部側(cè)高輻射比部22的輻射而向外部放出。
在臂部20上側(cè)的面(第一面)隔著由隔熱材料構(gòu)成的襯墊24安裝有反射鏡23，反射鏡23的鏡面朝向上側(cè)。因此，在臂部20收縮時(shí)，即使高溫的基板9位于臂部20上的位置，來(lái)自基板9的輻射熱也會(huì)被反射鏡23反射。
這里，臂部20呈板狀，在將臂部20以直線狀伸展時(shí)，沿著該直線的兩側(cè)的端部向與反射鏡23的鏡面相反側(cè)彎折，由該彎折的部分構(gòu)成凸?fàn)畹恼诒尾浚沟帽鄄總?cè)高輻射比部22位于遮蔽部與遮蔽部之間，由反射鏡23反射的熱能被遮蔽部遮蔽，不向臂部側(cè)高輻射比部22入射。因此，臂部20難以升至高溫，難以引起臂部20的熱變形。
上面，說(shuō)明了將臂部20的下側(cè)的面作為第二面，并在該面設(shè)置高輻射比部的情況，但是，本發(fā)明不限定于此，例如，在當(dāng)手部位于比臂部20靠向下方處而保持基板9、通過(guò)臂部20的伸縮在臂部20的下方移動(dòng)基板9的情況下，優(yōu)選將臂部20的上側(cè)的面作為第二面，在該面設(shè)置高輻射比部，并將臂部20的下側(cè)的面作為第一面，在該面設(shè)置反射鏡23。
并且，當(dāng)基板9在比底座部30靠向下方的位置動(dòng)作時(shí)，優(yōu)選將底座部30的頂板側(cè)的壁面作為第二面，在該面設(shè)置散熱側(cè)高輻射比部，在使配置有受熱側(cè)高輻射比部一側(cè)的面與散熱側(cè)高輻射比部對(duì)置的狀態(tài)下，將受熱板配置在底座部30上，進(jìn)而，將底座部30的底壁側(cè)的面作為第一面，在該面上設(shè)置反射鏡。
總之，本發(fā)明通過(guò)在與基板9對(duì)置的位置(第一面)配置反射鏡，在與基板9不對(duì)置的面(第二面)設(shè)置受熱側(cè)高輻射比部，來(lái)防御來(lái)自基板9的輻射熱向搬運(yùn)系統(tǒng)3入射，通過(guò)使散熱側(cè)高輻射比部與受熱側(cè)高輻射比部對(duì)置，來(lái)使通過(guò)熱傳導(dǎo)而傳遞的熱高效逃逸。
若在安裝本發(fā)明的搬運(yùn)機(jī)械手的真空槽設(shè)置冷卻機(jī)構(gòu)，利用該冷卻機(jī)構(gòu)對(duì)真空槽進(jìn)行冷卻，則由受熱側(cè)高輻射比部42入射的熱會(huì)被更加迅速地放出。
底座部30與臂部20的材質(zhì)不限定于不銹鋼和鋁，只要是通過(guò)表面處理能夠形成輻射比比前處理輻射比高的高輻射比部，也可以使用其他種類(lèi)的金屬或合金。而且，除了后述的表面處理之外，也可以通過(guò)由輻射比比其他部分高的金屬材料構(gòu)成底座部30和臂部20的應(yīng)該形成高輻射比部的部分，來(lái)形成高輻射比部。
以上，說(shuō)明了在與基板9對(duì)置的面配置作為鏡子的反射鏡23、47的情況，但是，本發(fā)明不限定于此。若研磨底座部30或臂部20的與基板9對(duì)置的面，形成輻射比比研磨之前小的低輻射比部，則由于和不研磨的情況相比輻射熱的反射率高，所以，即使不配置反射鏡23、47，從基板9放射的熱能也會(huì)被反射。
若具體闡述提高輻射比的表面處理方法，則有通過(guò)噴出玻璃珠的GBB(Glass Beeds Blast)法、或噴出鋼粒、砂等的噴砂法，在處理對(duì)象物的平坦表面形成凹凸，形成由表面粗糙度大的部分構(gòu)成的層狀高輻射比部的表面處理，或在將液狀的氟樹(shù)脂材料涂敷于處理對(duì)象物形成涂敷層之后，加熱涂敷層，形成由表面的輻射比高的氟樹(shù)脂層構(gòu)成的層狀高輻射比部的氟被膜處理。
并且，也可以使用通過(guò)使陶瓷等的母材熔融，將該熔融物噴到處理對(duì)象物來(lái)形成層狀的高輻射比部的熔射法。
上述氟被膜處理在加熱涂敷層之際，可以加熱至氟樹(shù)脂材料發(fā)生黑化為止(黑化處理)，由于與其他顏色相比黑色的輻射比高，所以，若進(jìn)行黑化處理則高輻射比部的輻射比會(huì)進(jìn)一步提高。
受熱側(cè)高輻射比部、散熱側(cè)高輻射比部和臂部側(cè)高輻射比部可以分別通過(guò)相同的方法進(jìn)行表面處理，也可以通過(guò)各自不同的方法進(jìn)行表面處理。
為了確認(rèn)上述表面處理的散熱性，進(jìn)行了下述的散熱確認(rèn)試驗(yàn)。
將加熱板懸掛配置于真空槽內(nèi)，以使向真空槽的傳熱量減少，按照表面與加熱板的表面對(duì)置的方式，將后述的試樣片配置到真空槽內(nèi)。在真空槽內(nèi)形成并維持既定壓力的真空氣氛，一邊測(cè)定加熱板的表面和試樣片的背面溫度，一邊對(duì)加熱板通電，在加熱板的溫度大約為120℃之后，控制通電量，來(lái)維持該溫度。
在維持真空氣氛的狀態(tài)下，將鋁板的試樣片搬入到該真空槽內(nèi)，按照其表面與維持為120℃的加熱板對(duì)置的方式進(jìn)行配置，分別測(cè)定與加熱板不對(duì)置的各背面的溫度。
這里，使用了下述A～D四種作為試樣片。
A分別電解研磨處理了表面和背面B電解研磨處理了表面，通過(guò)GBB法表面處理了背面C分別電解研磨處理了表面和背面D電解研磨處理了表面，氟被膜處理了背面(包括黑化處理)其中，在上述試樣片A～D中，試樣片A、B、D采用壓延成形的鋁板，試樣片C采用鑄造形成的鋁板。將各試樣片A～D背面的溫度測(cè)定結(jié)果與加熱板表面(加熱面)的溫度測(cè)定結(jié)果一起記載于圖5。
由圖5可知，背面被電解研磨處理后的試樣片A、C，背面的溫度上升高。這可以推測(cè)為，由于通過(guò)電解研磨處理背面變得更加平坦，使得輻射比降低，所以，從背面?zhèn)鹊妮椛錈釡p少。
與之相對(duì)，通過(guò)GBB法增大了背面的表面粗糙度的試樣片B、和通過(guò)氟被膜處理在背面形成了氟樹(shù)脂膜的試樣片D，與試樣片A、C相比，背面的溫度上升小。因此可知，即使在以同樣的加熱條件對(duì)相同的鋁板進(jìn)行加熱的情況下，在實(shí)施了上述表面處理之后，輻射熱的放出量比實(shí)施之前增多，具有防止鋁板溫度上升的效果。
特別是，試樣片D與試樣片B相比溫度上升小，推測(cè)氟被膜處理與增大表面粗糙度的處理相比具有大量放出輻射熱的效果，但是，由于氟樹(shù)脂膜在成為高溫時(shí)，可能向真空氣氛中放出污染氣體，所以，在基板9有被該污染氣體污染的可能性時(shí)，和基板9溫度非常高時(shí)，優(yōu)選通過(guò)增大表面粗糙度來(lái)形成高輻射比部。
以上，對(duì)在搬運(yùn)機(jī)械手形成高輻射比部的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但是本發(fā)明不限定于此，例如，若對(duì)真空槽7的內(nèi)壁面實(shí)施上述的表面處理，形成輻射比比底座部30的處理前輻射比高的高輻射比部，則通過(guò)該高輻射比部吸收來(lái)自基板9的輻射熱，可從真空槽的外部散熱，所以，底座部30更加難以升溫。
但是，由于在對(duì)真空槽的內(nèi)壁進(jìn)行表面處理時(shí)，容易產(chǎn)生水或氟樹(shù)脂的污染氣體，所以，在該污染氣體會(huì)對(duì)基板造成不良影響的情況下，優(yōu)選不實(shí)施真空槽的表面處理。
以上，對(duì)通過(guò)臂部的伸縮和旋轉(zhuǎn)搬運(yùn)基板的搬運(yùn)機(jī)械手進(jìn)行了說(shuō)明，但是本發(fā)明不限定于此。
例如，本發(fā)明還包括基于磁場(chǎng)產(chǎn)生機(jī)構(gòu)所形成的磁力而上浮，具有與基板一同旋轉(zhuǎn)或水平移動(dòng)的搬運(yùn)系統(tǒng)的搬運(yùn)機(jī)械手、或進(jìn)行基板定位的所謂XY載置臺(tái)。
在任何一種情況下，若在搬運(yùn)系統(tǒng)的與基板對(duì)置的面的相反側(cè)的面形成散熱側(cè)高輻射比部，在真空槽或與真空槽熱連接的部件(受熱板)形成受熱側(cè)高輻射比部，并使散熱側(cè)高輻射比部與受熱側(cè)高輻射比部對(duì)置，則搬運(yùn)系統(tǒng)的熱從散熱側(cè)高輻射比部向受熱側(cè)高輻射比部入射，并迅速向真空槽傳熱，因此，即使在真空氣氛中搬運(yùn)系統(tǒng)也不會(huì)升至高溫。并且，若在搬運(yùn)系統(tǒng)的與基板對(duì)置的面上配置上述反射鏡，則由于基板的輻射熱不直接入射到搬運(yùn)系統(tǒng)，所以，搬運(yùn)系統(tǒng)更加難以升溫。
接著，對(duì)本發(fā)明的搬運(yùn)裝置的其他例子進(jìn)行說(shuō)明。
圖6的附圖標(biāo)記50表示本發(fā)明的搬運(yùn)裝置1，該搬運(yùn)裝置50除了在真空槽7的內(nèi)壁面形成了后述的高輻射比部之外，具有與圖1所示的搬運(yùn)裝置1同樣的構(gòu)造。
在該搬運(yùn)裝置50中，與圖1所示的搬運(yùn)裝置1同樣，基板9配置在手部25上，在收縮臂部20時(shí)，臂部20的上側(cè)的面成為第一面，該面能夠與基板9對(duì)置，與臂部20的配置有基板9的側(cè)相反側(cè)的面，即下側(cè)的面成為第二面，在該面上形成有上述臂部側(cè)高輻射比部22，輻射比高至0.4以上。
這里，在真空槽7的內(nèi)壁面中，真空槽7的底壁面被實(shí)施表面處理，形成了輻射比比表面處理之前高的真空槽側(cè)高輻射比部52。
由于臂部20在第二面與真空槽7的底壁面對(duì)置的狀態(tài)下伸縮、旋轉(zhuǎn)，所以，臂部側(cè)高輻射比部22總是與真空槽側(cè)高輻射比部52對(duì)置，臂部20的熱成為紅外線那樣的電磁波，從臂部側(cè)高輻射比部22被放射，入射至真空槽側(cè)高輻射比部52。因此，臂部20的熱傳遞至真空槽7。如上所述，由于真空槽7的外壁面與外部氣氛連接，所以，傳遞至真空槽7的熱從外壁面?zhèn)鬟f到外部而被冷卻。
若在真空槽7上設(shè)置真空槽側(cè)高輻射比部52，則由于臂部20的熱會(huì)直接傳遞至真空槽7，所以，與不設(shè)置真空槽側(cè)高輻射比部52的情況相比，從臂部20的散熱效率提高，更加難以引起臂部20的熱變形。
以上，對(duì)在真空槽7的整個(gè)底壁面設(shè)置真空槽側(cè)高輻射比部52的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但是本發(fā)明不限定于此，只要真空槽側(cè)高輻射比部52至少在臂部側(cè)高輻射比部22所移動(dòng)的區(qū)域形成即可。
具體而言，若在真空槽7的底壁面的、以直線狀伸展了臂部20的狀態(tài)下使臂部20旋轉(zhuǎn)360°時(shí)臂部20在上方移動(dòng)的區(qū)域設(shè)置真空槽側(cè)高輻射比部52，則臂部側(cè)高輻射比部22一定會(huì)與真空槽側(cè)高輻射比部52對(duì)置。另外，以直線狀伸展了臂部20的狀態(tài)是指，臂部20的從根部部分到前端的直線距離最長(zhǎng)的狀態(tài)。
設(shè)置真空槽側(cè)高輻射比部52的面不限定于真空槽7的底壁面。如上所述，當(dāng)基板9在臂部20的下方移動(dòng)時(shí)，臂部20的下側(cè)的面成為第一面，在將臂部20的上側(cè)的面作為第二面，并在該第二面設(shè)置臂部側(cè)高輻射比部的情況下，優(yōu)選在真空槽7內(nèi)壁面的與臂部20的第二面對(duì)置的面，即真空槽7的頂板處設(shè)置。
而且，在基板9與臂部20的側(cè)面對(duì)置時(shí)，臂部20的能夠與基板9對(duì)置的側(cè)面成為第一面，與該側(cè)面相反側(cè)的側(cè)面成為第二面，在第二面形成臂部側(cè)高輻射比部，在真空槽7的內(nèi)壁面中與臂部20的第二面對(duì)置的側(cè)面形成真空槽側(cè)高輻射比部。
總之，只要臂部側(cè)高輻射比部22配置在臂部20的與基板9對(duì)置的面的相反側(cè)的面，真空槽側(cè)高輻射比部設(shè)置在真空槽7的內(nèi)壁面中與臂部20的第二面對(duì)置的面的、至少臂部20移動(dòng)的區(qū)域即可。
不需要設(shè)置真空槽側(cè)高輻射比部52和臂部側(cè)高輻射比部22雙方。即使在如圖1所示僅設(shè)置臂部側(cè)高輻射比部22，或相反不設(shè)置臂部側(cè)高輻射比部22而僅設(shè)置真空槽側(cè)高輻射比部52的情況下，與真空槽側(cè)高輻射比部52和臂部側(cè)高輻射比部22都不設(shè)置的情況相比，都可以使得臂部20的熱容易逃逸，但是，為了使臂部20的熱更加高效地逃逸，優(yōu)選設(shè)置臂部側(cè)高輻射比部22和真空槽側(cè)高輻射比部52雙方。
形成真空槽側(cè)高輻射比部52的表面處理方法沒(méi)有特別限定，可以使用上述的GBB法、噴砂法、氟被膜處理、熔射法等。
在設(shè)置真空槽側(cè)高輻射比部52的情況下，也如圖4所示，若在與臂部20的形成有臂部側(cè)高輻射比部22的側(cè)相反側(cè)的面安裝反射鏡23，則由于來(lái)自基板9的輻射熱被反射鏡23反射，所以，臂部20難以升溫。
當(dāng)在臂部20設(shè)置臂部側(cè)高輻射比部22，進(jìn)而在真空槽7設(shè)置真空槽側(cè)高輻射比部52時(shí)，優(yōu)選如圖4所示，在臂部20的兩側(cè)的端部形成凸?fàn)畹恼诒尾俊?br> 若在臂部20形成遮蔽部，則如上所述，不僅反射鏡反射的熱難以入射到臂部側(cè)高輻射比部22，而且臂部側(cè)高輻射比部22的表面積會(huì)增大相當(dāng)于遮蔽部的高度的量，使得表現(xiàn)的輻射比增高。因此，即使真空槽側(cè)高輻射比部52的與臂部側(cè)高輻射比部22對(duì)置的面積小，也可以從臂部20向真空槽7高效地進(jìn)行熱傳導(dǎo)。
將從彎折臂部20的兩端之前的平面到彎折其兩端形成了遮蔽部時(shí)的遮蔽部前端的距離設(shè)為高度H，從臂部20一端側(cè)的遮蔽部到另一端側(cè)的遮蔽部的距離設(shè)為寬W(圖7)，若高度H與寬W相同或高度H比寬W大，則臂部20的熱放射變得非常大，使得臂部20難以升至高溫。
權(quán)利要求
1.一種搬運(yùn)機(jī)械手，具有底座部和由支承軸支承于前述底座部的臂部，使前述臂部移動(dòng)來(lái)搬運(yùn)基板，其特征在于，前述底座部具有能夠與前述基板對(duì)置的第一面、和與前述第一面相反側(cè)的第二面，在前述第二面配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的散熱側(cè)高輻射比部，具有表面與前述散熱側(cè)高輻射比部對(duì)置配置，并接收從前述散熱側(cè)高輻射比部放射的熱的受熱板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搬運(yùn)機(jī)械手，其特征在于，在前述受熱板的與前述散熱側(cè)高輻射比部對(duì)置的面，配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的受熱側(cè)高輻射比部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搬運(yùn)機(jī)械手，其特征在于，在前述底座部的前述第一面上，配置有反射熱的反射鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搬運(yùn)機(jī)械手，其特征在于，在對(duì)前述底座部實(shí)施前述表面處理之前，鋁板的平坦表面和不銹鋼的平坦表面的某一方露出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搬運(yùn)機(jī)械手，其特征在于，前述臂部呈板狀，前述臂部具有能夠與前述基板對(duì)置的第一面和與前述第一面相反側(cè)的第二面，在前述臂部的前述第二面配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的臂部側(cè)高輻射比部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的搬運(yùn)機(jī)械手，其特征在于，在前述臂部的前述第一面上，配置有反射熱的反射鏡。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搬運(yùn)機(jī)械手，其特征在于，前述臂部可伸縮和旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搬運(yùn)機(jī)械手，其特征在于，前述底座部以相對(duì)于前述底座部的前述第二面和前述受熱板的與該第二面對(duì)置的表面垂直、且通過(guò)該第二面和前述受熱板的該表面的中心的中心軸線為中心可旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成，在前述底座部旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第二面和該受熱板的該表面維持相互平行的狀態(tài)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搬運(yùn)機(jī)械手，其特征在于，前述表面處理向平坦的表面噴出粒子，增大表面粗糙度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搬運(yùn)機(jī)械手，其特征在于，前述表面處理形成氟樹(shù)脂層。
11.一種搬運(yùn)裝置，具有真空槽、和搬運(yùn)機(jī)械手，前述搬運(yùn)機(jī)械手具有安裝于前述真空槽的一個(gè)壁面的受熱板、與前述受熱板分離對(duì)置配置的底座部、和由支承軸支承于前述底座部的臂部，通過(guò)使前述臂部移動(dòng)來(lái)搬運(yùn)基板，其特征在于，前述底座部具有能夠與前述基板對(duì)置的第一面、和在與前述第一面相反側(cè)與前述受熱板對(duì)置的第二面，在前述底座部的前述第二面配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的散熱側(cè)高輻射比部，具有表面與前述散熱側(cè)高輻射比部對(duì)置配置，并接收從前述散熱側(cè)高輻射比部放射的熱的受熱板。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的搬運(yùn)裝置，其特征在于，前述臂部呈板狀，前述臂部具有能夠與前述基板對(duì)置的第一面和與前述第一面相反側(cè)的第二面，在前述臂部的前述第二面配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的臂部側(cè)高輻射比部。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的搬運(yùn)裝置，其特征在于，在前述真空槽的一面，在至少與前述臂部移動(dòng)時(shí)的前述臂部的第二面對(duì)置的區(qū)域，設(shè)置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的真空槽側(cè)高輻射比部。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的搬運(yùn)裝置，其特征在于，在前述受熱板的與前述散熱側(cè)高輻射比部對(duì)置的面，配置有通過(guò)表面處理使得輻射比比表面處理前的狀態(tài)高的受熱側(cè)高輻射比部。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的搬運(yùn)裝置，其特征在于，在前述底座部的前述第一面上，配置有反射熱的反射鏡。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的搬運(yùn)裝置，其特征在于，在對(duì)前述底座部實(shí)施前述表面處理之前，鋁板的平坦表面和不銹鋼的平坦表面的某一方露出。
17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的搬送裝置，其特征在于，前述臂部可伸縮和旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的搬送裝置，其特征在于，前述底座部以相對(duì)于前述底座部的前述第二面和前述受熱板的與該第二面對(duì)置的表面垂直、且通過(guò)該第二面和前述受熱板的該表面的中心的中心軸線為中心可旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成，在前述臺(tái)座部旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第二面和該受熱板的該表面維持相互平行的狀態(tài)。
19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的搬送裝置，其特征在于，前述表面處理向平坦的表面噴出粒子，增大表面粗糙度。
20.根據(jù)權(quán)利要求11所述的搬送裝置，其特征在于，前述表面處理形成氟樹(shù)脂層。
全文摘要
本發(fā)明的搬運(yùn)機(jī)械手具有相互對(duì)置的散熱側(cè)高輻射比部(41)和受熱側(cè)高輻射比部(42)，通過(guò)熱傳導(dǎo)傳遞至底座部(30)的基板的熱從散熱側(cè)高輻射比部(41)作為輻射熱而被放出，該輻射熱被受熱側(cè)高輻射比部(42)吸收。由于受熱側(cè)高輻射比部(42)形成在與真空槽(7)熱連接的受熱板(15)，所以，受熱側(cè)高輻射比部(42)所吸收的輻射熱傳遞至真空槽(7)。因此，即使在真空氣氛中搬運(yùn)高溫的基板的情況下，來(lái)自基板的熱也不會(huì)蓄積于搬運(yùn)系統(tǒng)，搬運(yùn)系統(tǒng)難以升至高溫。
文檔編號(hào)B25J19/00GK1950936SQ20058001502
公開(kāi)日2007年4月18日 申請(qǐng)日期2005年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月10日
發(fā)明者小池土志夫 申請(qǐng)人:株式會(huì)社愛(ài)發(fā)科