旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7a具備與載置臺(tái)4連結(jié)的中空的旋轉(zhuǎn)軸21以及作為使該旋轉(zhuǎn)軸21旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)源的馬達(dá)22。旋轉(zhuǎn)軸21是相對(duì)于載置臺(tái)4例如垂直地交叉的軸。馬達(dá)22是中空馬達(dá)等，供旋轉(zhuǎn)軸21插入且設(shè)于處理箱2的外表面。該馬達(dá)22與控制部8電連接，其驅(qū)動(dòng)被控制部8控制。該載置臺(tái)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7a通過馬達(dá)22經(jīng)旋轉(zhuǎn)軸21使載置臺(tái)4旋轉(zhuǎn)。
[0036]彎曲旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7b具備與去路彎曲部6c連結(jié)的中空的旋轉(zhuǎn)軸23、作為使該旋轉(zhuǎn)軸23旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)源的馬達(dá)24、以及保持該馬達(dá)24的保持部件25。旋轉(zhuǎn)軸23是相對(duì)于載置臺(tái)4例如垂直地交叉的軸。馬達(dá)24為中空馬達(dá)等，在該馬達(dá)24中插入有旋轉(zhuǎn)軸23。該馬達(dá)24與控制部8電連接，其驅(qū)動(dòng)被控制部8控制。保持部件25形成為對(duì)馬達(dá)24進(jìn)行保持，固定在處理箱2的下表面。該彎曲旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7b通過馬達(dá)24經(jīng)旋轉(zhuǎn)軸23使去路彎曲部6c旋轉(zhuǎn)。
[0037]噴嘴旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7c具備:作為使與噴嘴塊6a連結(jié)的噴嘴配管6b旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)源的馬達(dá)26、保持該馬達(dá)26的保持部件27、作為噴嘴配管6b用的連接部發(fā)揮功能的旋轉(zhuǎn)接頭(rotary joint) 28、以及保持該旋轉(zhuǎn)接頭28的保持部件29。馬達(dá)26為中空馬達(dá)等，在該馬達(dá)26中插入有噴嘴配管6b。該馬達(dá)26與控制部8電連接，其驅(qū)動(dòng)被控制部8控制。保持部件27形成為對(duì)馬達(dá)26進(jìn)行保持，固定在處理箱2的下表面。并且，保持部件29形成為對(duì)旋轉(zhuǎn)接頭28進(jìn)行保持，固定在保持部件27的下表面。該噴嘴旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7c通過馬達(dá)26經(jīng)噴嘴配管6b使噴嘴塊6a旋轉(zhuǎn)。
[0038]回到圖1，控制部8具備集中地控制各部的微型計(jì)算機(jī)、以及存儲(chǔ)與基板處理有關(guān)的基板處理信息和各種程序等的存儲(chǔ)部(均未圖示)。該控制部8基于基板處理信息及各種程序，對(duì)第I處理液供給部5、第2處理液供給部6、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7等各部進(jìn)行控制，進(jìn)行通過第I處理液供給部5向旋轉(zhuǎn)中的載置臺(tái)4上的基板W的表面供給處理液、進(jìn)而通過第2處理液供給部6向旋轉(zhuǎn)中的載置臺(tái)4上的基板W的背面供給處理液的處理。
[0039]這里，在對(duì)基板W的表面及背面同時(shí)進(jìn)行處理的情況下，為了進(jìn)行基板W的表面處理而需要使基板W旋轉(zhuǎn)。該情況下，能夠不使噴嘴塊6a旋轉(zhuǎn)(噴嘴塊6a固定)而使去路彎曲部6c旋轉(zhuǎn)。此時(shí)，可以改變基板W及去路彎曲部6c的相互的旋轉(zhuǎn)方向，或者，可以使它們相同。但是，在使基板W及去路彎曲部6c的相互的旋轉(zhuǎn)方向?yàn)橄嗤较虻那闆r下，優(yōu)選使它們的旋轉(zhuǎn)速度不同。并且，還能夠不使去路彎曲部6c旋轉(zhuǎn)(去路彎曲部6c固定)而使噴嘴塊6a旋轉(zhuǎn)。此時(shí)，也可以改變基板W及噴嘴塊6a的相互的旋轉(zhuǎn)反向，或者，也可以使它們相同。但是，在使基板W及噴嘴塊6a的相互的旋轉(zhuǎn)方向?yàn)橄嗤较虻那闆r下，優(yōu)選使它們的旋轉(zhuǎn)速度不同。并且，旋轉(zhuǎn)速度不需要恒定，可以使旋轉(zhuǎn)速度變化。
[0040]另一方面，在不對(duì)基板W的表面及背面同時(shí)進(jìn)行處理的情況下，在基板W的背面處理時(shí)，可以不使基板W旋轉(zhuǎn)(基板W固定)而使噴嘴塊6a及去路彎曲部6c中的任一方或兩方旋轉(zhuǎn)。另外，當(dāng)然也可以使基板W旋轉(zhuǎn)。此時(shí)，優(yōu)選使噴嘴塊6a及去路彎曲部6c的相互的旋轉(zhuǎn)方向不同，但是也可以使它們相同。但是，在使噴嘴塊6a及去路彎曲部6c的相互的旋轉(zhuǎn)方向?yàn)橄嗤较虻那闆r下，需要使它們的旋轉(zhuǎn)速度不同。并且，旋轉(zhuǎn)速度不需要恒定，可以使旋轉(zhuǎn)速度變化，并且可以使旋轉(zhuǎn)持續(xù)或間斷。
[0041]接著，參照?qǐng)D3至圖6對(duì)去路彎曲部6c的傾斜面(去路彎曲面)15進(jìn)行說明。并且，在圖3及圖6中，以濃淡表示傾斜面15的傾斜角度的不同，顏色越濃則表示傾斜角度越大。并且，向傾斜面15入射的處理液的入射位置(入射點(diǎn))的移動(dòng)方向成為基板W的旋轉(zhuǎn)方向BI的反方向。
[0042]首先，如圖3及圖4所示，對(duì)去路彎曲部6c的傾斜面15為連續(xù)面的情況進(jìn)行說明。例如，傾斜面15的傾斜角度，在去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度為O度時(shí)為15度，在去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度為10度時(shí)為20度，在去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度為30度時(shí)為30度，在去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度為50度時(shí)為45度，在去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度為70度時(shí)為60度，在去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度為90度時(shí)為80度。
[0043]并且，去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從90度到180度的傾斜角度變化，與去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從O度到90度的傾斜角度變化相反。并且，去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從180度到270度的傾斜角度變化，與去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從O度到90度的傾斜角度變化相同。去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從270度到360度的傾斜角度變化，與去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從O度到90度的傾斜角度變化相反。
[0044]當(dāng)處理液對(duì)具有這樣的傾斜角度變化的傾斜面15的入射位置(碰撞位置)沿著傾斜面15呈環(huán)狀延伸的方向(基板W的旋轉(zhuǎn)方向BI的反方向)移動(dòng)，則處理液的行進(jìn)方向相應(yīng)于該傾斜面15的傾斜角度逐漸變化(參照?qǐng)D4)。當(dāng)去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度為O度，處理液不彎曲而保持原有狀態(tài)行進(jìn)，而在其后，與去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度的增加相應(yīng)地，傾斜面15的傾斜角度變大，隨之處理液逐漸較大地彎曲。
[0045]這里，在圖4中，例如使處理液對(duì)傾斜面15的入射角度與反射角度相同，用箭頭示意性示出了處理液的行進(jìn)方向的變化，但是行進(jìn)方向并不一定在該方向上變化。例如，由于隨著旋轉(zhuǎn)而相對(duì)移動(dòng)的傾斜面15與噴嘴11的吐出口之間的相對(duì)移動(dòng)速度和它們的間隔距離、以及由該相對(duì)移動(dòng)引起的氣流的產(chǎn)生(氣流的強(qiáng)度)等，處理液的行進(jìn)方向也可能成為沿著傾斜面15的方向。該情況下，也能夠通過傾斜面15的傾斜角度控制行進(jìn)方向。
[0046]另外，去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從90度到180度的處理液的行進(jìn)方向變化(去路變化)，與去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從O度到90度的處理液的行進(jìn)方向變化相反。并且，去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從180度到270度的處理液的行進(jìn)方向變化，與去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從O度到90度的處理液的行進(jìn)方向變化相同。去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從270度到360度的處理液的行進(jìn)方向變化，與去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從O度到90度的處理液的行進(jìn)方向變化相反。
[0047]這里，如圖5的曲線Al (實(shí)線)所示，當(dāng)去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從O度向90度變化，傾斜面15的傾斜角度逐漸變大(參照?qǐng)D3及圖4)，對(duì)基板W的背面的吐出液供給位置(背面吐出液供給位置)從210mm逐漸接近Omm(基板W的中心)。另外，當(dāng)去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從90度向180度變化，去路彎曲部6c的傾斜角度逐漸變小，背面吐出液供給位置從Omm向210mm逐漸遠(yuǎn)離。此后，當(dāng)去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從180度向270度變化，傾斜面15的傾斜角度再次逐漸變大，背面吐出液供給位置從210mm逐漸接近0mm。另夕卜，當(dāng)去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從270度向360度變化，去路彎曲部6c的傾斜角度逐漸變小，背面吐出液供給位置從Omm向210mm逐漸遠(yuǎn)離。這樣，背面吐出液供給位置根據(jù)去路彎曲部6c的傾斜面15的傾斜角度而變化。
[0048]另外，背面吐出液供給位置(吐出液對(duì)基板W背面的碰撞位置)為Omm到21mm的范圍內(nèi)，但不限于此，能夠通過去路彎曲部6c的傾斜面15的傾斜角度、噴嘴11的吐出角度、傾斜面15與噴嘴11的間隔距離等的變更來調(diào)整該背面吐出液供給位置。因此，被供給到基板W背面的中央附近的吐出液的位置不需要是基板W的中央即0mm，例如可以是距離基板W中央為1mm左右的位置，并且，被供給到基板W背面的外周側(cè)的吐出液的位置也可以是比210mm遠(yuǎn)的位置，并沒有特別限定。
[0049]接著，如圖6所示，對(duì)去路彎曲部6c的傾斜面15為非連續(xù)面的情況進(jìn)行說明。例如，在去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從O度變?yōu)?0度的過程中，傾斜面15的傾斜角度從15度逐漸增大為80度，在去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從90度變?yōu)?80度的過程中，傾斜面15的傾斜角度從15度逐漸增大為80度。同樣，在去路彎曲部6c的旋轉(zhuǎn)角度從180度變?yōu)?70度的過程中，傾