技術編號：9236660
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。基板處理裝置是在半導體、液晶面板等的制造工序中，向晶片、液晶基板等基板的表面供給處理液(例如抗蝕劑剝離液、清洗液等)對基板表面進行處理的裝置。在該基板處理裝置中，開發(fā)有進行旋回(spin)處理的裝置，其使基板以水平狀態(tài)旋轉并從噴嘴向基板表面的大致中央供給處理液，利用離心力使該處理液在基板表面擴展。另外，還開發(fā)有對基板的兩面進行處理的裝置，其從噴嘴向該旋轉的基板的表面和背面噴射供給處理液。但是，當基板大型化時，處理液對基板的覆蓋性降低，而單純地增加處理液會導...
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