基板處理裝置及基板處理方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及基板處理裝置及基板處理方法。
【背景技術(shù)】
[0002]基板處理裝置是在半導(dǎo)體、液晶面板等的制造工序中，向晶片、液晶基板等基板的表面供給處理液(例如抗蝕劑剝離液、清洗液等)對(duì)基板表面進(jìn)行處理的裝置。在該基板處理裝置中，開發(fā)有進(jìn)行旋回(spin)處理的裝置，其使基板以水平狀態(tài)旋轉(zhuǎn)并從噴嘴向基板表面的大致中央供給處理液，利用離心力使該處理液在基板表面擴(kuò)展。另外，還開發(fā)有對(duì)基板的兩面進(jìn)行處理的裝置，其從噴嘴向該旋轉(zhuǎn)的基板的表面和背面噴射供給處理液。
[0003]但是，當(dāng)基板大型化時(shí)，處理液對(duì)基板的覆蓋性降低，而單純地增加處理液會(huì)導(dǎo)致制造成本增加。另外，在為了使處理液對(duì)基板的覆蓋性提高而使噴嘴沿著基板的背面移動(dòng)的情況下，由于需要具備移動(dòng)機(jī)構(gòu)，因此裝置復(fù)雜化從而裝置成本增加。另外，由于在處理中噴嘴通過移動(dòng)機(jī)構(gòu)進(jìn)行移動(dòng)，因此產(chǎn)生塵埃等而成品率降低。由于這些原因，希望在抑制制造成本和裝置成本的增加及成品率的降低的同時(shí)，使處理液對(duì)基板的覆蓋性提高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明要解決的課題在于，提供一種基板處理裝置及基板處理方法，能夠在抑制制造成本和裝置成本的增加及成品率的降低的同時(shí)，使處理液對(duì)基板的覆蓋性提高。
[0005]實(shí)施方式的基板處理裝置，具備:噴嘴，向基板的被處理面吐出處理液；去路彎曲部，具有去路彎曲面，該去路彎曲面是使從噴嘴吐出的處理液將其行進(jìn)方向彎曲而向被處理面入射的環(huán)狀的傾斜面，該去路彎曲面的傾斜角度沿著其呈環(huán)狀延伸的方向變化；以及位置變更部，使處理液對(duì)去路彎曲面的入射位置在去路彎曲面呈環(huán)狀延伸的方向上移動(dòng)。
[0006]實(shí)施方式的基板處理方法，具有以下工序:從噴嘴向基板的被處理面吐出處理液的工序；使從噴嘴吐出的處理液將其行進(jìn)方向通過去路彎曲面進(jìn)行彎曲并向被處理面入射的工序，該去路彎曲面是去路彎曲部的環(huán)狀的傾斜面且傾斜角度沿著其呈環(huán)狀延伸的方向變化；以及使處理液對(duì)去路彎曲面的入射位置在去路彎曲面呈環(huán)狀延伸的方向上移動(dòng)的工序。
[0007]根據(jù)上述實(shí)施方式的基板處理裝置或基板處理方法，能夠在抑制制造成本和裝置成本的增加及成品率的降低的同時(shí)使處理液對(duì)基板的覆蓋性提高。
【附圖說明】
[0008]圖1為表示第I實(shí)施方式的基板處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。
[0009]圖2為表示第I實(shí)施方式的基板處理裝置的一部分(旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)及第2處理液供給部)的概略結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0010]圖3為表示第I實(shí)施方式的去路彎曲部的傾斜面(第I例)的俯視圖。
[0011]圖4為用于說明第I實(shí)施方式的由去路彎曲部的傾斜面帶來的處理液的去路變化的說明圖。
[0012]圖5為表示第I實(shí)施方式的載置臺(tái)旋轉(zhuǎn)角度與背面吐出液供給位置之間的關(guān)系的圖線圖。
[0013]圖6為表示第I實(shí)施方式的去路彎曲部的傾斜面(第2例)的俯視圖。
[0014]圖7為表示第2實(shí)施方式的去路彎曲部的概略結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0015]圖8為表示第2實(shí)施方式的去路彎曲部的傾斜面(第3例)的俯視圖。
[0016]圖9為用于說明第2實(shí)施方式的由去路彎曲部的傾斜面帶來的處理液的去路變化的說明圖。
[0017]圖10為表示第2實(shí)施方式的載置臺(tái)旋轉(zhuǎn)角度與背面吐出液供給位置之間的關(guān)系的圖線圖。
[0018]圖11為表示第2實(shí)施方式的去路彎曲部的傾斜面(第4例)的俯視圖。
[0019]圖12為用于說明第I實(shí)施方式的去路彎曲部的傾斜面的變形例的說明圖。
[0020]圖13為用于說明第2實(shí)施方式的去路彎曲部的傾斜面的變形例的說明圖。
[0021]圖14為用于說明第2實(shí)施方式的去路彎曲部的變形例的說明圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022](第I實(shí)施方式)
[0023]參照?qǐng)D1至圖6對(duì)第I實(shí)施方式進(jìn)行說明。
[0024]如圖1所示，第I實(shí)施方式的基板處理裝置I具備:作為處理室的處理箱2、在該處理箱2內(nèi)設(shè)置的杯(cup) 3、在該杯3內(nèi)以水平狀態(tài)支撐基板W的載置臺(tái)4、向載置臺(tái)4上的基板W的表面(第I被處理面)供給處理液的第I處理液供給部5、向載置臺(tái)4上的基板W的背面(第2被處理面)供給處理液的第2處理液供給部6、使載置臺(tái)4等在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7、以及控制各部的控制部8。
[0025]杯3形成為圓筒形狀，將載置臺(tái)4從周圍包圍而收容于內(nèi)部。杯3的周壁的上部朝向徑向的內(nèi)側(cè)傾斜，且開口以使載置臺(tái)4上的基板W露出。該杯3接收從旋轉(zhuǎn)的基板W上流下的處理液或飛散的處理液。另外，在杯3的底部連接有用于將接收的處理液排出的排出管(未圖示)。
[0026]載置臺(tái)4被定位于杯3內(nèi)的中央附近，設(shè)置為能夠在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)。該載置臺(tái)4具有多個(gè)銷等支撐部件4a，通過這些支撐部件4a，作為可裝拆地支撐晶片、液晶基板等基板W的支撐部發(fā)揮功能。
[0027]第I處理液供給部5具備:向載置臺(tái)4上的基板W的表面吐出處理液的噴嘴5a、保持該噴嘴5a的臂5b、將該臂5b在水平面內(nèi)可旋轉(zhuǎn)地支撐并搖動(dòng)其一端部的支柱5c、以及作為搖動(dòng)的驅(qū)動(dòng)源的馬達(dá)5d。
[0028]噴嘴5a設(shè)于臂5b的頂端部，經(jīng)由配管連接于儲(chǔ)液部、泵、電磁閥等(均未圖示)。這些泵、電磁閥與控制部8電連接，其驅(qū)動(dòng)被控制部8控制。臂5b以支柱5c為中心沿著載置臺(tái)4上的基板W的表面旋轉(zhuǎn)。因此，該臂5b支撐的噴嘴5a也沿著基板W的表面移動(dòng)。馬達(dá)5d與控制部8電連接，其驅(qū)動(dòng)被控制部8控制。
[0029]例如，噴嘴5a伴隨臂5b的搖動(dòng)而移動(dòng)，向與載置臺(tái)4上的基板W的表面的大致中央對(duì)置的供液位置(處理位置)、和從該供液位置退避而能夠?qū)崿F(xiàn)載置臺(tái)4上的基板W的搬入或搬出的待機(jī)位置移動(dòng)。
[0030]如圖2所示，第2處理液供給部6具備:向載置臺(tái)4上的基板W的背面吐出處理液的噴嘴塊(nozzle block) 6a、向該噴嘴塊6a供給處理液的噴嘴配管6b、以及使從噴嘴塊6a吐出的處理液(吐出液)的行進(jìn)方向朝基板W的背面?zhèn)葟澢娜ヂ窂澢?c。
[0031]噴嘴塊6a具有分別吐出處理液的多個(gè)噴嘴流路、即多個(gè)噴嘴11。該噴嘴塊6a設(shè)于載置臺(tái)4的大致中央的開口部4b內(nèi)，以使得能夠從各噴嘴11向載置臺(tái)4上的基板W的背面供給處理液。
[0032]噴嘴配管6b具有與噴嘴塊6a的各噴嘴11相連而供給處理液的供液流路12。該供液流路12經(jīng)由配管連接于儲(chǔ)液部、泵、電磁閥等(均未圖示)。泵、電磁閥與控制部8電連接，其驅(qū)動(dòng)被控制部8控制。
[0033]去路彎曲部6c具有:將噴嘴塊6a可旋轉(zhuǎn)地收容的收容部13、噴嘴配管6b穿過的貫通孔14、以及使從各噴嘴11吐出的處理液的行進(jìn)方向彎曲的傾斜面(去路彎曲面)15。傾斜面15在去路彎曲部6c的上表面形成為在基板W的旋轉(zhuǎn)方向上延伸的環(huán)狀，以從基板W的內(nèi)側(cè)向外側(cè)逐漸變高的方式傾斜。另外，傾斜面15是傾斜角度沿著基板W的旋轉(zhuǎn)方向連續(xù)地逐漸變大的連續(xù)面，或者是傾斜角度沿著基板W的旋轉(zhuǎn)方向階段性地不同的非連續(xù)面(具有高度差)(具體后述)。該傾斜面15使從各噴嘴11吐出的處理液與傾斜角度相應(yīng)地彎曲，并向載置臺(tái)4上的基板W的背面入射。即，當(dāng)從各噴嘴11吐出的處理液接觸(碰撞)到傾斜面15，則其行進(jìn)方向?qū)?yīng)于傾斜面15的傾斜角度而改變，并向基板W的背面入射。
[0034]旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7具備:以載置臺(tái)4的中心為旋轉(zhuǎn)軸使載置臺(tái)4旋轉(zhuǎn)的載置臺(tái)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7a、使去路彎曲部6c以載置臺(tái)4的旋轉(zhuǎn)軸為旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)的彎曲旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7b、以及使噴嘴塊6a和噴嘴配管6b以載置臺(tái)4的旋轉(zhuǎn)軸為旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7c。另外，彎曲旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7b或噴嘴旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)7c作為位置變更部發(fā)揮功能，使處理液向傾斜面15入射的入射位置在傾斜面15呈環(huán)狀延伸的方向上移動(dòng)。
[0035]載置臺(tái)