本發(fā)明涉及利用半導(dǎo)體工藝制備具有非易失性可編程pn結(jié)存儲(chǔ)器功能的器件結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
浮柵存儲(chǔ)器具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。在傳統(tǒng)的浮柵存儲(chǔ)器中,主要利用施加在控制柵上的脈沖電壓控制溝道層在不同的電阻存儲(chǔ)狀態(tài)之間變化,而不能在其它存儲(chǔ)狀態(tài),如pn結(jié)與非pn結(jié)之間變化。這主要是由于,對(duì)于傳統(tǒng)的半導(dǎo)體材料,例如硅,它們的載流子類型(p型或n型)主要由摻雜產(chǎn)生,一旦形成之后,就無法動(dòng)態(tài)的實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體材料在不同電荷類型之間轉(zhuǎn)變。也就是說,對(duì)于n型的溝道層,控制柵只能調(diào)控溝道層具有不同的電阻,但是主要載流子仍然是電子(n型);對(duì)于p型的溝道層也是一樣的。此外,基于上述原因,對(duì)于傳統(tǒng)的半導(dǎo)體材料,即使利用半浮柵場效應(yīng)晶體管結(jié)構(gòu),溝道層也只能處于不同的電阻存儲(chǔ)狀態(tài)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn),一些納米材料,如wse2二維晶體、黑磷等,它們的載流子類型可以通過電場調(diào)制,在p型和n型之間動(dòng)態(tài)變化(我們定義這種材料為雙極性半導(dǎo)體材料)。這為設(shè)計(jì)制備新型器件結(jié)構(gòu)提供了可能。例如利用這種性質(zhì),人們用來制備可以動(dòng)態(tài)調(diào)制的pn結(jié)結(jié)構(gòu),本發(fā)明進(jìn)一步公開該pn結(jié)結(jié)構(gòu)具有存儲(chǔ)性能。
本發(fā)明需要保護(hù)的技術(shù)方案為:
本發(fā)明提供一種具有非易失性可編程可存儲(chǔ)的pn結(jié)結(jié)構(gòu),使其用于非易失性可編程pn結(jié)存儲(chǔ)器等方面。本發(fā)明通過設(shè)計(jì)基于雙極型二維晶體的半浮柵場效應(yīng)晶體管結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)利用施加在控制柵上的脈沖電壓對(duì)器件在pn結(jié)與非pn結(jié)等不同狀態(tài)的存儲(chǔ)和邏輯變化。
進(jìn)一步公開技術(shù)方案,一種具有非易失性可編程pn結(jié)存儲(chǔ)器功能的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)依次為,
包括電極1;
包括溝道層2,位于電極1的下層,并采用雙極性半導(dǎo)體材料;
包括兩個(gè)上下兩個(gè)電介質(zhì)層(3、5);
包括半浮柵4,位于所述兩個(gè)電介質(zhì)層(3、5)之間,且半浮柵4面積小于所述溝道層2面積;半浮柵4可以由一個(gè)半浮柵(圖1)或延伸為多個(gè)半浮柵組成;
包括控制柵6,位于所述電介質(zhì)層5下層。
所述溝道層為雙極性半導(dǎo)體,即其載流子類型可以通過外加電場進(jìn)行調(diào)制。
所述器件可以在pn結(jié)與非pn結(jié)之間進(jìn)行邏輯變化,并具有非易失性可存儲(chǔ)功能。
通過在所述控制柵6輸入不同的脈沖電壓,獲得不同類型電荷在所述半浮柵4中的存儲(chǔ),從而調(diào)制所述溝道層2在pn結(jié)與非pn結(jié)之間轉(zhuǎn)變。由于半浮柵4對(duì)電荷的存儲(chǔ),可以實(shí)現(xiàn)所述溝道層2在pn結(jié)與非pn結(jié)等不同狀態(tài)的存儲(chǔ),從而具有非易失性可存儲(chǔ)性能。通過輸入不同的脈沖電壓,可以實(shí)現(xiàn)所述溝道層2在不同狀態(tài)之間的邏輯轉(zhuǎn)變,從而具有可編程性能。
本發(fā)明創(chuàng)造性的提出非易失性可編程pn結(jié)存儲(chǔ)器的器件結(jié)構(gòu)和功能。由于材料性能限制,傳統(tǒng)的浮柵存儲(chǔ)器只能實(shí)現(xiàn)溝道層在不同電阻狀態(tài)之間的存儲(chǔ)和邏輯變化,不能實(shí)現(xiàn)溝道層在pn結(jié)與非pn結(jié)等不同狀態(tài)的存儲(chǔ)和邏輯變化。由于pn結(jié)與非pn結(jié)具有不同的電學(xué)和光電子學(xué)性能,本發(fā)明設(shè)計(jì)的器件結(jié)構(gòu)因而會(huì)產(chǎn)生很多新的應(yīng)用。
本發(fā)明創(chuàng)造了一種新型的器件結(jié)構(gòu),有望拓展傳統(tǒng)pn結(jié)的功能和應(yīng)用領(lǐng)域,在電子和光電子器件中產(chǎn)生新的應(yīng)用。
附圖說明
圖1為本發(fā)明器件結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為延伸的器件結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為實(shí)施例在不同的存儲(chǔ)狀態(tài),a為pn結(jié),b為非pn(n+n)結(jié)。
圖4為實(shí)施例的器件非易失性存儲(chǔ)功能應(yīng)用演示。
圖5為實(shí)施例的可編程功能應(yīng)用演示。
數(shù)字標(biāo)記:
1電極
2溝道層:采用雙極性半導(dǎo)體材料
3電介質(zhì)層一
4半浮柵一
5電介質(zhì)層2
6控制柵
7半浮柵二
具體實(shí)施方式
本發(fā)明公開了一種具有非易失性可編程可存儲(chǔ)功能的新型pn結(jié)器件結(jié)構(gòu)。該器件主要基于雙極性半導(dǎo)體材料的物理特性,通過半浮柵場效應(yīng)晶體管的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)控制柵對(duì)溝道層的有效調(diào)制,使溝道層可以在pn結(jié)與非pn結(jié)等不同的存儲(chǔ)狀態(tài)之間邏輯變換,具有非易失性可編程可存儲(chǔ)的功能。由于pn結(jié)與非pn結(jié)具有不同的物理性能,因而可以在電子和光電子器件中產(chǎn)生新的應(yīng)用,拓展傳統(tǒng)半導(dǎo)體pn結(jié)與浮柵存儲(chǔ)器的功能和應(yīng)用領(lǐng)域。該器件主要結(jié)構(gòu)和功能如下:(1)具有半浮柵場效應(yīng)晶體管的器件構(gòu)造;(2)組成溝道層的材料主要為雙極性半導(dǎo)體材料,該材料的載流子類型(p型或n型)可以通過電場進(jìn)行動(dòng)態(tài)調(diào)控;(4)為半浮柵結(jié)構(gòu),即浮柵只覆蓋部分溝道層;(5)通過這種結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),可以實(shí)現(xiàn)溝道層在pn結(jié)與非pn結(jié)之間的邏輯變化,并且可以處于pn結(jié)與非pn結(jié)等不同的存儲(chǔ)狀態(tài),具有非易失性和可編程性特點(diǎn)。
以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做進(jìn)一步說明。
本發(fā)明器件的結(jié)構(gòu)如圖1、圖2所示:
包括電極1;
包括溝道層2,為雙極性半導(dǎo)體材料;
包括兩個(gè)電介質(zhì)層(3、5);
包括浮柵4,為半浮柵結(jié)構(gòu),即浮柵不覆蓋整個(gè)溝道層,可以由一個(gè)半浮柵(圖1)或延伸為多個(gè)半浮柵(圖2)組成;
包括控制柵6。
通過在所述控制柵6輸入不同的脈沖電壓,獲得所述溝道層2在pn結(jié)或非pn結(jié)等不同的存儲(chǔ)狀態(tài),并可以在pn結(jié)與非pn結(jié)之間轉(zhuǎn)變,使得所述溝道層具有非易失性可存儲(chǔ)可編程的功能。
以下進(jìn)一步通過實(shí)例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步介紹。
實(shí)施例
基于雙極性半導(dǎo)體材料wse2的非易失性可編程pn結(jié)存儲(chǔ)器。
該器件采用圖1所示的器件結(jié)構(gòu),其中電極1為金,溝道層2為雙極性半導(dǎo)體wse2二維晶體,電介質(zhì)層3為氮化硼,半浮柵4為石墨烯,電介質(zhì)層5為sio2,控制柵6為硅。
如圖3所示,可以看出,當(dāng)施加不同的正脈沖電壓的時(shí)候,溝道層處于pn結(jié)狀態(tài),具有整流特性;當(dāng)施加不同的負(fù)脈沖電壓的時(shí)候,溝道層處于非pn(n+n)結(jié)狀態(tài),具有相反的整流特性。
如圖4所示,溝道層可以存儲(chǔ)在pn結(jié)與非pn結(jié)的狀態(tài),具有非易失性。
如圖5所示,溝道層可以在不同的狀態(tài)之間邏輯變化,因而具有可編程的特點(diǎn)。