本實(shí)用新型涉及一種光罩檢測(cè)裝置，特別是涉及一種可對(duì)光罩的多邊形框架的內(nèi)壁面進(jìn)行微粒檢測(cè)，且通過(guò)測(cè)距后位移調(diào)整的方式，對(duì)各檢測(cè)區(qū)域精準(zhǔn)采集檢測(cè)影像，以對(duì)應(yīng)產(chǎn)生檢測(cè)信息的光罩檢測(cè)裝置。

背景技術(shù)：

就現(xiàn)有的半導(dǎo)體元件制造技術(shù)來(lái)說(shuō)，半導(dǎo)體元件的電路圖案是通過(guò)光罩將電路圖案轉(zhuǎn)印至晶圓的表面上形成的。

由于半導(dǎo)體元件的微小化，在制造半導(dǎo)體元件的過(guò)程中，光罩的缺陷將會(huì)大大影響硅晶圓表面的電路圖案的質(zhì)量，例如造成電路圖案的扭曲或變形；目前最常見(jiàn)的造成光罩缺陷的原因在于光罩的表面附有微粒。

因此，為了維持光罩在使用期間的質(zhì)量，現(xiàn)有技術(shù)是在光罩的表面上設(shè)置一種光罩保護(hù)薄膜(pellicle)，用以防止微粒掉落在光罩表面：然而，光罩保護(hù)膜的構(gòu)造中所包含的框架在設(shè)置過(guò)程中，其壁面可能已附有微粒，進(jìn)而可能具有光罩在作業(yè)或運(yùn)送途中，位于框架內(nèi)壁面的微粒掉落在光罩表面的風(fēng)險(xiǎn)。

所以如何在光罩的使用之前，將光罩保護(hù)薄膜的內(nèi)壁面的微粒檢測(cè)出來(lái)，將是該相關(guān)產(chǎn)業(yè)亟需思考并解決的一大課題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種光罩檢測(cè)裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中所面臨的問(wèn)題。

基于上述目的，本實(shí)用新型公開(kāi)了一種光罩檢測(cè)裝置，其包含檢測(cè)基座、移動(dòng)平臺(tái)、轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)、承載平臺(tái)、發(fā)光單元、雷射測(cè)距模塊、處理模塊及影像擷取模塊。檢測(cè)基座的一面上設(shè)有支架。沿檢測(cè)基座作第一方向的位移的移動(dòng)平臺(tái)設(shè)于檢測(cè)基座的所述面上，且位于檢測(cè)基座與支架之間。沿移動(dòng)平臺(tái)作垂直第一方向的第二方向的位移的轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)設(shè)于移動(dòng)平臺(tái)之上。承載平臺(tái)設(shè)于轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)的一面上，承載平臺(tái)承載光罩，光罩包含基板與多邊形框架，多邊形框架設(shè)于基板的一面上。照射光罩的發(fā)光單元設(shè)于支架的一側(cè)。測(cè)量多邊形框架的若干個(gè)內(nèi)壁面的若干個(gè)檢測(cè)區(qū)域，且對(duì)應(yīng)各檢測(cè)區(qū)域產(chǎn)生測(cè)距信號(hào)的雷射測(cè)距模塊設(shè)于支架的一側(cè)。依據(jù)測(cè)距信號(hào)控制移動(dòng)平臺(tái)移動(dòng)的處理模塊連結(jié)移動(dòng)平臺(tái)及雷射測(cè)距模塊。當(dāng)移動(dòng)平臺(tái)移動(dòng)后，采集對(duì)應(yīng)測(cè)距信號(hào)的檢測(cè)區(qū)域的檢測(cè)影像，且處理模塊依據(jù)檢測(cè)影像產(chǎn)生檢測(cè)信息的影像擷取模塊位于支架的一側(cè)并連結(jié)處理模塊。其中，當(dāng)影像擷取模塊采集完其中一個(gè)內(nèi)壁面的若干個(gè)檢測(cè)區(qū)域的若干個(gè)檢測(cè)影像之后，轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)一個(gè)預(yù)設(shè)角度，使影像擷取模塊采集另一個(gè)內(nèi)壁面的若干個(gè)檢測(cè)區(qū)域的若干個(gè)檢測(cè)影像。

較佳地，移動(dòng)平臺(tái)可包含導(dǎo)軌，轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)沿著導(dǎo)軌移動(dòng)。

較佳地，雷射測(cè)距模塊可位于其所測(cè)量的其中一個(gè)內(nèi)壁面的斜上方。

較佳地，影像擷取模塊可位于其所采集的其中一個(gè)內(nèi)壁面的斜上方。

較佳地，多邊形框架可為四邊形框架。

較佳地，預(yù)設(shè)角度可為90度。

較佳地，發(fā)光單元可為條狀光發(fā)光單元。

較佳地，檢測(cè)信息可包含微粒位置、微粒尺寸或其組合。

較佳地，預(yù)設(shè)角度可為0至360度。

綜上所述，本實(shí)用新型的光罩檢測(cè)裝置于影像擷取模塊在采集其中一個(gè)檢測(cè)區(qū)域的檢測(cè)影像之前，先通過(guò)雷射測(cè)距模塊對(duì)該檢測(cè)區(qū)域進(jìn)行測(cè)量，待移動(dòng)平臺(tái)依據(jù)測(cè)距信號(hào)移動(dòng)后，影像擷取模塊再對(duì)該檢測(cè)區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)影像的采集；從而達(dá)到精密檢測(cè)的目的，且具有提升后續(xù)的微縮制程良率的功效。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的光罩檢測(cè)裝置的示意圖；

圖2為本實(shí)用新型的光罩檢測(cè)裝置的方塊圖；

圖3為本實(shí)用新型的光罩檢測(cè)裝置的光罩的示意圖；

符號(hào)說(shuō)明

100：光罩檢測(cè)裝置

101：基板

102：多邊形框架

103：內(nèi)壁面

104：檢測(cè)區(qū)域

110：檢測(cè)基座

111：支架

120：移動(dòng)平臺(tái)

121：導(dǎo)軌

130：轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)

140：承載平臺(tái)

141：光罩

150：發(fā)光單元

160：雷射測(cè)距模塊

170：處理模塊

180：影像擷取模塊。

具體實(shí)施方式

為利審查員了解本實(shí)用新型的特征、內(nèi)容與優(yōu)點(diǎn)及其所能達(dá)成的功效，茲將本實(shí)用新型配合圖式，并以實(shí)施例的表達(dá)形式詳細(xì)說(shuō)明如下，而其中所使用的圖式，其主旨僅為示意及輔助說(shuō)明書(shū)之用，未必為實(shí)用新型實(shí)施后的真實(shí)比例與精準(zhǔn)配置，故不應(yīng)就所附的圖式的比例與配置關(guān)系解讀、局限本實(shí)用新型在實(shí)際實(shí)施上的權(quán)利范圍。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)、特征以及達(dá)到的技術(shù)方法將參照示例性實(shí)施例及所附圖式進(jìn)行更詳細(xì)地描述而更容易理解，且本實(shí)用新型或可以不同形式來(lái)實(shí)現(xiàn)，故不應(yīng)被理解僅限于此處所陳述的實(shí)施例，相反地，對(duì)所屬技術(shù)領(lǐng)域具有通常知識(shí)者而言，所提供的實(shí)施例將使本公開(kāi)更加透徹、全面且完整地傳達(dá)本實(shí)用新型的范疇，且本實(shí)用新型將僅為所附加的權(quán)利要求書(shū)所定義。

請(qǐng)參閱圖1~圖3；圖1為本實(shí)用新型的光罩檢測(cè)裝置的示意圖；圖2為本實(shí)用新型的光罩檢測(cè)裝置的方塊圖；圖3為本實(shí)用新型的光罩的示意圖。如圖所示，本實(shí)用新型的光罩檢測(cè)裝置100包含檢測(cè)基座110、移動(dòng)平臺(tái)120、轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130、承載平臺(tái)140、發(fā)光單元150、雷射測(cè)距模塊160、處理模塊170及影像擷取模塊180。其中，移動(dòng)平臺(tái)120用以帶動(dòng)承載著光罩141的承載平臺(tái)140移動(dòng)；轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130用以帶動(dòng)承載平臺(tái)140轉(zhuǎn)動(dòng)，將待測(cè)量及檢測(cè)的其中一個(gè)內(nèi)壁面轉(zhuǎn)至對(duì)應(yīng)雷射測(cè)距模塊160及影像擷取模塊180的位置；發(fā)光單元150用以提供采集影像時(shí)的光源；處理模塊170則用以控制移動(dòng)平臺(tái)120移動(dòng)、轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130轉(zhuǎn)動(dòng)，以及分析檢測(cè)影像以產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的檢測(cè)信息。

檢測(cè)基座110的一面上設(shè)有支架111。移動(dòng)平臺(tái)120則設(shè)于檢測(cè)基座110設(shè)有支架111的該面上，且移動(dòng)平臺(tái)120位于檢測(cè)基座110與支架111之間，支架111橫跨在移動(dòng)平臺(tái)120之上；移動(dòng)平臺(tái)120可沿檢測(cè)基座110作第一方向的位移。轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130設(shè)于移動(dòng)平臺(tái)120之上，且可沿著移動(dòng)平臺(tái)120作第二方向的位移；其中；第一方向與第二方向互為垂直，換句話(huà)說(shuō)，光罩141可通過(guò)移動(dòng)平臺(tái)120在檢測(cè)基座110平面上作相對(duì)檢測(cè)基座110的X軸及Y軸方向的位移。

承載平臺(tái)140設(shè)于轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130的一面上，承載平臺(tái)140承載光罩141；如圖3所示，光罩141包含基板101及多邊形框架102，多邊形框架102設(shè)于基板101的一面上，而多邊形框架102的若干個(gè)內(nèi)壁面103即為測(cè)量及檢測(cè)的目標(biāo)對(duì)象，各內(nèi)壁面103具有若干個(gè)檢測(cè)區(qū)域104。

發(fā)光單元150位于支架111的一側(cè)，且以一角度照射光罩141，以提供檢測(cè)所需的光源；其中，發(fā)光單元150較佳為條狀光發(fā)光單元，但不以此為限。雷射測(cè)距模塊160位于支架111的一側(cè)，用以測(cè)量多邊形框架102的若干個(gè)內(nèi)壁面103的若干個(gè)檢測(cè)區(qū)域104，且對(duì)應(yīng)各檢測(cè)區(qū)域104產(chǎn)生測(cè)距信號(hào)。處理模塊170則依據(jù)測(cè)距信號(hào)控制移動(dòng)平臺(tái)120移動(dòng)。影像擷取模塊180位于支架111的一側(cè)，當(dāng)每次移動(dòng)平臺(tái)120移動(dòng)完畢之后，采集對(duì)應(yīng)測(cè)距信號(hào)的檢測(cè)區(qū)域104的檢測(cè)影像，并將檢測(cè)影像傳送至處理模塊170，以使處理模塊170據(jù)以分析產(chǎn)生檢測(cè)信息；其中，檢測(cè)信息包含檢測(cè)區(qū)域104中的微粒相關(guān)信息，如微粒位置、微粒尺寸等。其中，通過(guò)處理模塊170控制移動(dòng)平臺(tái)120位移，以使所欲采集的檢測(cè)區(qū)域104與影像擷取模塊180的距離符合影像擷取模塊180的焦距。較佳地，發(fā)光單元150、雷射測(cè)距模塊160及影像擷取模塊180皆位于支架111的同一側(cè)，且以互不影響為前提而彼此相鄰，但不以此為限。

當(dāng)影像擷取模塊180采集完其中一個(gè)內(nèi)壁面103的若干個(gè)檢測(cè)區(qū)域104的若干個(gè)檢測(cè)影像之后，轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130將轉(zhuǎn)動(dòng)預(yù)設(shè)角度，使影像擷取模塊180可進(jìn)行另一個(gè)內(nèi)壁面的若干個(gè)檢測(cè)區(qū)域104的若干個(gè)檢測(cè)影像的采集；其中，預(yù)設(shè)角度為0至360度，其可依據(jù)多邊形框架102所具有的內(nèi)壁面103的數(shù)量決定預(yù)設(shè)角度。以此方式，對(duì)多邊形框架102的所有內(nèi)壁面103中的各檢測(cè)區(qū)域104進(jìn)行檢測(cè)影像的采集。

本實(shí)用新型的光罩檢測(cè)裝置100的影像擷取模塊180是依次對(duì)各內(nèi)壁面103中的各檢測(cè)區(qū)域104進(jìn)行檢測(cè)影像的采集，但每對(duì)其中一個(gè)檢測(cè)區(qū)域104采集一張檢測(cè)影像之前，需先通過(guò)雷射測(cè)距模塊160對(duì)該檢測(cè)區(qū)域104進(jìn)行測(cè)距測(cè)量，進(jìn)而使移動(dòng)平臺(tái)120執(zhí)行位置的調(diào)整，以確保該檢測(cè)區(qū)域104位于影像擷取模塊180的焦距中，從而獲得精確的檢測(cè)影像。

移動(dòng)平臺(tái)120進(jìn)一步可包含導(dǎo)軌121，轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130位于導(dǎo)軌121之上，進(jìn)而轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130可沿著導(dǎo)軌121進(jìn)行第二方向的位移。

此外，考慮到多邊形框架102的各內(nèi)壁面103是垂直于光罩141的基板101，為能測(cè)量及采集影像，雷射測(cè)距模塊160較佳地位于所要測(cè)量的其中一個(gè)內(nèi)壁面103的斜上方；同理，影像擷取模塊180亦較佳地位于所要采集的其中一個(gè)內(nèi)壁面103的斜上方。

如圖3所示，舉例而言，多邊形框架102較佳為四邊形框架；進(jìn)而，其具有四個(gè)內(nèi)壁面103，而轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)130轉(zhuǎn)換各內(nèi)壁面103所需轉(zhuǎn)動(dòng)的預(yù)設(shè)角度為90度。上述僅為舉例，不應(yīng)以此為限。

綜上所述，本實(shí)用新型的光罩檢測(cè)裝置于影像擷取模塊在采集其中一個(gè)檢測(cè)區(qū)域的檢測(cè)影像之前，先通過(guò)雷射測(cè)距模塊對(duì)該檢測(cè)區(qū)域進(jìn)行測(cè)量，待移動(dòng)平臺(tái)依據(jù)測(cè)距信號(hào)移動(dòng)后，影像擷取模塊再對(duì)該檢測(cè)區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)影像的采集；從而達(dá)到精密檢測(cè)的目的，且具有提升后續(xù)的微縮制程良率的功效。

以上所述的實(shí)施例僅為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)思想及特點(diǎn)，其目的在使熟習(xí)此項(xiàng)技藝的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，當(dāng)不能以此限定本實(shí)用新型的權(quán)利要求，即大概依本實(shí)用新型所公開(kāi)的精神所作的均等變化或修飾，仍應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求內(nèi)。