本發(fā)明涉及一種光罩的清洗技術(shù)，具體而言涉及一種可以擦拭方式清洗光罩表面的光罩清洗裝置，以能快速、且有效的清理光罩表面，供提升半導(dǎo)體制程的合格率。

背景技術(shù)：

按，在半導(dǎo)體的制程中，微影(Photolithography)與蝕刻制程(Etching Process)是用來(lái)完成晶圓表面的圖案制作，其中用以供微影制程使用的光罩(Mask)具有不可或缺的關(guān)鍵地位。光罩系一繪有特定圖案的透光玻璃片，其中包含一具圖形(Pattern)的圖案區(qū)，供利用一光源，將圖案區(qū)上的圖形轉(zhuǎn)移至晶圓上的光阻，再經(jīng)過(guò)蝕刻制程于晶圓表面完成圖案。

因此影響晶圓合格率中最重要的因素其中一項(xiàng)即為光罩是否有遭受到污染，若光罩上出現(xiàn)微塵粒子，會(huì)使得受污染的光罩用于半導(dǎo)體微影制程時(shí)，會(huì)于晶圓上產(chǎn)生相對(duì)應(yīng)的缺陷(Defect)，是以，為了保持光罩的清潔，一般會(huì)于光罩上設(shè)置有護(hù)膜(Pellicle)，以防止微塵粒子沾附在光罩上，而護(hù)膜為通過(guò)框架支撐而與光罩保持一距離，使落在光罩上的微塵粒子收集在護(hù)膜上，微影制程因護(hù)膜產(chǎn)生相當(dāng)程度成像失真，使得該微塵粒子不至影響原本微影制程。

傳統(tǒng)光罩清洗方法，憑借人工方式針對(duì)光罩的表面作一潔凈處理。清潔人員將該光罩穩(wěn)固的放置于一架體上，并憑借一清洗液(例如：丙酮、乙醇及去離子水等)沖洗該光罩表面，同時(shí)以一刷具刷除該光罩表面的顆粒物質(zhì)；接著，再次以該清洗液沖洗該光罩的表面，如此重復(fù)數(shù)次上述清潔步驟后再對(duì)該光罩進(jìn)行干燥，如此，可去除光罩表面的雜質(zhì)或殘余物，進(jìn)而確保光罩表面的潔凈度。

但上述現(xiàn)有光罩的清洗方法具有如清潔人員于清洗該光罩時(shí)需長(zhǎng)時(shí)間暴露于該清洗液的工作環(huán)境下，極易因吸入或直接接觸該化學(xué)物質(zhì)，而影響該清潔人員的身體健康的缺點(diǎn)。為了解決前述的問(wèn)題，近年來(lái)業(yè)界開發(fā)有多種自動(dòng)化 的光罩清洗設(shè)備，但其仍需使用大量有機(jī)溶劑制成的清洗液，雖然減少人員的接觸量，但其一樣存在清洗液管理與污染的問(wèn)題，且其清洗時(shí)因系沖洗為主，一樣不易有效清潔光罩表面；

再者，由于護(hù)膜所使用的粘膠為酯類結(jié)構(gòu)(RCOOR)x，如聚丙烯酸酯的高分子結(jié)構(gòu)，故當(dāng)光罩接觸硫酸與過(guò)氧化氫溶液的清洗液時(shí)，(RCOOR)x會(huì)水解成可流動(dòng)但不溶于水的膠態(tài)物質(zhì)(RCOOH)x，且(RCOOH)x可能造成光罩圖案上的缺陷與光罩的報(bào)廢，是以現(xiàn)有光罩清洗裝置無(wú)法進(jìn)行護(hù)膜兩側(cè)表面的清潔，然而光罩于護(hù)膜兩側(cè)的表面形成有多樣的識(shí)別及校準(zhǔn)圖形，當(dāng)其受到污染時(shí)仍會(huì)造成缺陷(Defect)的問(wèn)題，故一樣有進(jìn)行清理的需求，現(xiàn)有者僅能以人工方式進(jìn)行，造成光罩清潔上極大的困擾與不便，如何解決前述問(wèn)題，系業(yè)界的重要課題。

緣是，本發(fā)明即基于上述目前常見缺失予以總體考量后，希冀以本發(fā)明所提供的光罩清潔結(jié)構(gòu)可有效的進(jìn)行光罩的護(hù)膜兩側(cè)表面的清潔，同時(shí)達(dá)到保護(hù)清潔人員人身安全、且能維持光罩清潔程度，并可迅速且有效的縮短清潔時(shí)間，以利半導(dǎo)體工廠使用且進(jìn)一步可達(dá)提升半導(dǎo)體制程合格率的功效。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

因此，本發(fā)明的主要目的是在提供一種以擦拭方式清潔光罩的護(hù)膜兩側(cè)表面的光罩清洗裝置，以能迅速、且有效的進(jìn)行表面清潔，從而提高后續(xù)制程的效率與合格率。

又，本發(fā)明的次一主要目的在于提供一具濕式清潔與干式清潔的光罩清洗裝置，供進(jìn)行兩階段清潔，可有效清潔光罩表面上所附著微?；蜢F化污漬，且清潔后不會(huì)殘留清洗水痕或污漬，有助于提升清潔效率。

再者，本發(fā)明的另一主要目的在于提供一種可將光罩表面微粒與污漬直接擦拭干凈的光罩清洗裝置，其無(wú)需使用到大量有機(jī)清潔液，不會(huì)產(chǎn)生大量待處理廢液，可達(dá)維持環(huán)境安全性，且降低處理成本的功效。

為此，本發(fā)明主要系通過(guò)下列的技術(shù)手段，來(lái)具體實(shí)現(xiàn)上述的各項(xiàng)目的與效能：

一種光罩清洗裝置，其特征在于，其至少包含有：

一機(jī)體；

一設(shè)于機(jī)體的濕式清潔模塊及一設(shè)于機(jī)體中濕式清潔模塊后方的干式清潔 模塊；

所述的濕、干式清潔模塊分別具有至少一擦拭機(jī)構(gòu)，該至少一擦拭機(jī)構(gòu)具有一立設(shè)于機(jī)體的立板，且該立板上分別設(shè)有一置料卷輪及一收料卷輪，供同步自動(dòng)收、放一無(wú)塵布條的兩端卷收，又該立板在置料卷輪與收料卷輪之間設(shè)有復(fù)數(shù)轉(zhuǎn)折輪，供無(wú)塵布條在移動(dòng)過(guò)程中能夠經(jīng)過(guò)擦拭機(jī)構(gòu)上緣處，立板在上方兩轉(zhuǎn)折輪之間設(shè)有一頂緣高于兩側(cè)的貼抵輪，供無(wú)塵布條形成較高的擦拭部分；

其中濕式清潔模塊的擦拭機(jī)構(gòu)在無(wú)塵布條相對(duì)貼抵輪的進(jìn)料端設(shè)有一供噴灑清潔液體的噴液機(jī)構(gòu)，供選擇性對(duì)經(jīng)過(guò)的無(wú)塵布條進(jìn)行清潔液噴灑；

如此，供光罩能夠依序相對(duì)濕式清潔模塊及干式清潔模塊進(jìn)行直接擦拭，而構(gòu)成一能迅速、且有效清潔的光罩清洗裝置。

所述的光罩清洗裝置，其中：該濕、干式清潔模塊分別具有兩相對(duì)的擦拭機(jī)構(gòu)，供分別清潔光罩護(hù)膜的兩側(cè)下方的相對(duì)表面。

所述的光罩清洗裝置，其中：該擦拭機(jī)構(gòu)的置料卷輪與收料卷輪于立板上分設(shè)有一第一驅(qū)動(dòng)件與一第二驅(qū)動(dòng)件，以作為置料卷輪與收料卷輪同步正逆轉(zhuǎn)的放料及收料之用。

所述的光罩清洗裝置，其中：該擦拭機(jī)構(gòu)的立板在置料卷輪的出料端設(shè)有一第一張撐輪組，且該收料卷輪的入料端設(shè)有一第二張撐輪組，使無(wú)塵布條于放料及收料時(shí)可保持平整、順暢。

所述的光罩清洗裝置，其中：該立板鄰近上緣的相對(duì)滾揉輪組的移動(dòng)后方設(shè)有一滾揉輪組，該滾揉輪組具有一具有第三驅(qū)動(dòng)件的滾輪，供帶動(dòng)無(wú)塵布條，且滾輪一側(cè)設(shè)有一可選擇性改變壓力的擠壓輪，供整平經(jīng)過(guò)的無(wú)塵布條，且濕式清潔模塊的滾揉輪組能夠進(jìn)一步擠壓含有水分的無(wú)塵布條，使無(wú)塵布條上的水分能分散均勻、且擠出多余水分。

所述的光罩清洗裝置，其中：該擦拭機(jī)構(gòu)的貼抵輪設(shè)于一頂升組上，該頂升組是在立板上設(shè)有一第一伸縮缸組，且該第一伸縮缸組能夠驅(qū)動(dòng)一供設(shè)置貼抵輪的輪座升降。

所述的光罩清洗裝置，其中：該擦拭機(jī)構(gòu)在立板對(duì)應(yīng)貼抵輪的兩側(cè)分設(shè)有一夾壓定位組，該夾壓定位組在對(duì)應(yīng)無(wú)塵布條下方設(shè)有一定位板，該定位板上形成有一對(duì)應(yīng)無(wú)塵布條寬度、且深度小于無(wú)塵布條厚度的定位槽，夾壓定位組在對(duì)應(yīng)無(wú)塵布條上方設(shè)有一由一第二伸縮缸組驅(qū)動(dòng)的壓板，使無(wú)塵布條在擦拭 時(shí)能被有效固定位置，且當(dāng)無(wú)塵布條被拉動(dòng)時(shí)能沿著固定路徑位移，避免因晃動(dòng)而位移。

所述的光罩清洗裝置，其中：該濕式清潔模塊的擦拭機(jī)構(gòu)的噴液機(jī)構(gòu)具有一可選擇性對(duì)經(jīng)過(guò)無(wú)塵布條進(jìn)行清潔液噴灑的噴水管，噴液機(jī)構(gòu)在無(wú)塵布條下方設(shè)有一回收組，供回收經(jīng)滾揉輪組擠壓的多余清潔液。

如此，通過(guò)前述技術(shù)手段的具體實(shí)現(xiàn)，使本發(fā)明的光罩清洗裝置系利用濕、干式清潔模塊的無(wú)塵布條可直接擦拭光罩表面的作法，而能迅速、且有效的去除表面附著的微塵或霧化，能提高后續(xù)制程的效率與合格率，再者本發(fā)明可進(jìn)行兩階段清潔，其能在清潔后擦干水分，而不致殘留清潔水痕或污漬，有助于提升清潔品質(zhì)；

且由于其系以含浸清潔液的濕式清潔模塊采直接擦拭方式去除微塵與污漬，不需使用到大量的有機(jī)清潔液，因此不會(huì)產(chǎn)生大量待處理廢液，可達(dá)維持環(huán)境安全性，且降低處理成本的功效，故可大幅增進(jìn)其實(shí)用性，而能增加其附加價(jià)值，并能提高其經(jīng)濟(jì)效益。

為使貴審查委員能進(jìn)一步了解本發(fā)明的構(gòu)成、特征及其他目的，以下乃舉本發(fā)明的若干較佳實(shí)施例，并配合圖式詳細(xì)說(shuō)明如后，供讓熟悉該項(xiàng)技術(shù)領(lǐng)域者能夠具體實(shí)施。

附圖說(shuō)明

圖1是應(yīng)用本發(fā)明光罩清洗裝置的設(shè)備的俯視平面示意圖。

圖2是本發(fā)明光罩清洗裝置的立體外觀示意圖，供說(shuō)明各組件于俯視的相對(duì)關(guān)系。

圖3是本發(fā)明光罩清洗裝置中擦拭機(jī)構(gòu)的立體外觀示意圖，供說(shuō)明各組件的態(tài)樣及其相對(duì)關(guān)系。

圖4是本發(fā)明光罩清洗裝置中擦拭機(jī)構(gòu)的側(cè)視平面示意圖。

圖5是本發(fā)明光罩清洗裝置中擦拭機(jī)構(gòu)于擦拭時(shí)的局部側(cè)視動(dòng)作分解示意圖。

圖6是本發(fā)明光罩清洗裝置中擦拭機(jī)構(gòu)于擦拭時(shí)的端視動(dòng)作示意圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明：1機(jī)體；10第一線性滑軌；15第二線性滑軌；18座板；2光學(xué)檢測(cè)裝置；20光罩放置載臺(tái)；30光罩夾取模塊；35夾取機(jī)構(gòu)；5A濕式清潔模塊；5B干式清潔模塊；50擦拭機(jī)構(gòu)；51立板；52置料卷輪；520第一驅(qū) 動(dòng)件；53第一張撐輪組；541轉(zhuǎn)折輪；542轉(zhuǎn)折輪；543轉(zhuǎn)折輪；544轉(zhuǎn)折輪；55第二張撐輪組；56收料卷輪；560第二驅(qū)動(dòng)件；57滾揉輪組；571滾輪；572第三驅(qū)動(dòng)件；573擠壓輪；58頂升組；581第一伸縮缸組；582輪座；59貼抵輪；60噴液機(jī)構(gòu)；61噴水管；65回收組；70夾壓定位組；71定位板；710定位槽；72壓板；75第二伸縮缸組；80無(wú)塵布條；90光罩；95護(hù)膜；96表面。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明是一種光罩清洗裝置，隨附圖例示本發(fā)明的具體實(shí)施例及其構(gòu)件中，所有關(guān)于前與后、左與右、頂部與底部、上部與下部、以及水平與垂直的參考，僅用于方便進(jìn)行描述，并非限制本發(fā)明，也非將其構(gòu)件限制于任何位置或空間方向。圖式與說(shuō)明書中所指定的尺寸，當(dāng)可在不離開本發(fā)明的申請(qǐng)專利范圍內(nèi)，根據(jù)本發(fā)明的具體實(shí)施例的設(shè)計(jì)與需求而進(jìn)行變化。

而本發(fā)明是一種供利用擦拭方式清潔光罩表面的光罩清洗裝置，尤指光罩的護(hù)膜兩側(cè)表面的清潔，系如圖1所顯示者，其可設(shè)于一設(shè)備機(jī)體1上，該設(shè)備的機(jī)體1包含有一與本發(fā)明光罩清洗裝置并排的光學(xué)檢測(cè)裝置2，供進(jìn)行一光罩90的清洗與清洗前、后的檢測(cè)比較，其中該機(jī)體1上具有一第一線性滑軌10，供一光罩放置載臺(tái)20設(shè)置滑移，且機(jī)體1于本發(fā)明光罩清洗裝置一側(cè)設(shè)有一第二線性滑軌15，供一可移至光學(xué)檢測(cè)裝置2端部的光罩夾取模塊30設(shè)置滑移，且該光罩夾取模塊30上設(shè)有一夾取機(jī)構(gòu)35(其構(gòu)成可選自如我國(guó)專利公告第M465658號(hào)的夾取裝置)，供夾取光罩90側(cè)邊緣面、且露出下方表面供進(jìn)行清潔，而本發(fā)明的光罩清洗裝置由分設(shè)于機(jī)體1上一對(duì)應(yīng)座板18的一濕式清潔模塊5A及一干式清潔模塊5B所組成，供利用前述的光罩夾取模塊30夾掣光罩90相對(duì)濕式清潔模塊5A及干式清潔模塊5B依序擦拭清潔與去除水痕、污漬；

至于，前述該濕、干式清潔模塊5A、5B的詳細(xì)構(gòu)成，則系如第2、3及4圖所示，其分別具有兩相對(duì)固設(shè)于機(jī)體1座板18的擦拭機(jī)構(gòu)50，該兩擦拭機(jī)構(gòu)50的構(gòu)成相同，供分別清潔光罩90護(hù)膜95的兩側(cè)下方的相對(duì)表面96(如第5、6圖所示)；

再者，所述的這些擦拭機(jī)構(gòu)50具有一立設(shè)于前述座板18的立板51，且該立板51于相對(duì)內(nèi)面分設(shè)有一置料卷輪52及一收料卷輪56，供卷收無(wú)塵布條80兩端，其該置料卷輪52與收料卷輪56于立板51于外側(cè)面分別設(shè)有一第一驅(qū)動(dòng)件520與一第二驅(qū)動(dòng)件560，以作為置料卷輪52與收料卷輪56同步正逆轉(zhuǎn)的放 料及收料之用，且立板51于置料卷輪52的出料端與收料卷輪56的入料端分設(shè)有一第一張撐輪組53及一第二張撐輪組55，使無(wú)塵布條80于放料及收料時(shí)可保持平整、順暢，又該立板51于置料卷輪52與收料卷輪56間設(shè)有復(fù)數(shù)轉(zhuǎn)折輪541～544，使無(wú)塵布條80于移動(dòng)過(guò)程中可平穩(wěn)經(jīng)過(guò)擦拭機(jī)構(gòu)50的上緣處；

又，該擦拭機(jī)構(gòu)50的立板51鄰近上緣的兩轉(zhuǎn)折輪542、543間設(shè)有一滾揉輪組57，該滾揉輪組57具有一具第三驅(qū)動(dòng)件572的滾輪571，供帶動(dòng)無(wú)塵布條80，且滾輪571一側(cè)設(shè)有一可選擇性改變壓力的擠壓輪573，供整平經(jīng)過(guò)的無(wú)塵布條80，且當(dāng)無(wú)塵布條80含有水分時(shí)可進(jìn)一步擠壓，使無(wú)塵布條80上的水分能分散均勻、且擠出多余水分，用以供控制無(wú)塵布條80的含水量，另立板51于無(wú)塵布條80相對(duì)滾揉輪組57的移動(dòng)后方利用頂升組58設(shè)有一貼抵輪59，供將經(jīng)過(guò)貼抵輪59的無(wú)塵布條80于擦拭前、后選擇性升降(如圖5所示)，其中頂升組58系于立板51上設(shè)有一第一伸縮缸組581，該第一伸縮缸組581可驅(qū)動(dòng)一供設(shè)置貼抵輪59的輪座582升降，供通過(guò)貼抵輪59驅(qū)動(dòng)無(wú)塵布條80升降，使無(wú)塵布條形成較高的擦拭部分；

另，擦拭機(jī)構(gòu)50的立板51于無(wú)塵布條80相對(duì)滾揉輪組57的移動(dòng)前方設(shè)有一供噴灑清潔液體的噴液機(jī)構(gòu)60(其中干式清潔模塊5B的擦拭機(jī)構(gòu)50可以不設(shè)置、又或設(shè)置但不啟動(dòng)噴灑功能)，該噴液機(jī)構(gòu)60具有一可選擇性對(duì)經(jīng)過(guò)無(wú)塵布條80進(jìn)行清潔液噴灑的噴水管61，再者噴液機(jī)構(gòu)60進(jìn)一步可于前述滾揉輪組57下方設(shè)有一回收組65，供回收經(jīng)滾揉輪組57擠壓的多余清潔液；

更甚者，如圖5所示，所述的這些擦拭機(jī)構(gòu)50進(jìn)一步可于立板51對(duì)應(yīng)貼抵輪59的兩側(cè)分設(shè)有一夾壓定位組70，該夾壓定位組70系于對(duì)應(yīng)無(wú)塵布條80下方設(shè)有一定位板71，該定位板71上形成有一對(duì)應(yīng)無(wú)塵布條80寬度、且深度略小于無(wú)塵布條80厚度的定位槽710，又夾壓定位組70于對(duì)應(yīng)無(wú)塵布條80上方設(shè)有一供由一第二伸縮缸組75驅(qū)動(dòng)的壓板72，使壓板72可選擇性將無(wú)塵布條80夾掣于夾壓定位組70的定位板71內(nèi)，使無(wú)塵布條80在擦拭時(shí)能被有效固定位位置，且當(dāng)無(wú)塵布條80被拉動(dòng)時(shí)能沿著固定路徑位移，避免因晃動(dòng)而位移，從而影響到擦拭位置的準(zhǔn)確性；

如此，可利用光罩夾取模塊30的夾取機(jī)構(gòu)35夾掣光罩90，并令光罩90兩側(cè)下表面96可相對(duì)濕式清潔模塊5A中含清潔液的無(wú)塵布條80及干式清潔模塊5B的干燥無(wú)塵布條80依序進(jìn)行擦拭清潔與去除水痕、污漬，進(jìn)而組構(gòu)成一能迅速、且有效清潔的光罩清洗裝置者。

而本發(fā)明于進(jìn)行光罩90的護(hù)膜95兩側(cè)下方表面95清潔作業(yè)時(shí)，則系如第1、4圖所示，首先令濕、干式清潔模塊5A、5B的各擦拭機(jī)構(gòu)50中的第一、二及三驅(qū)動(dòng)件520、560、572同步驅(qū)動(dòng)，使無(wú)塵布條80被卷動(dòng)、且令未使用的部分對(duì)應(yīng)貼抵輪59，此時(shí)夾壓定位組70的壓板72系相對(duì)定位板71呈開啟狀，使無(wú)塵布條80可沿定位板71的定位槽710穩(wěn)定移動(dòng)，而不致因晃動(dòng)而滑移錯(cuò)位，同時(shí)其中濕式清潔模塊5A的噴液機(jī)構(gòu)60噴水管61可對(duì)其無(wú)塵布條80進(jìn)行清潔液噴灑，且當(dāng)該無(wú)塵布條80經(jīng)過(guò)對(duì)應(yīng)的滾揉輪組57時(shí)，可經(jīng)由擠壓使該無(wú)塵布條80上的清潔液分布更為均勻、且含水量更符合擦拭需求，不致于后續(xù)擦拭時(shí)發(fā)生含水量過(guò)少而無(wú)法有效去除、又或發(fā)生含水量過(guò)多而產(chǎn)生水痕的現(xiàn)象；

接著，當(dāng)光罩夾取模塊30的夾取機(jī)構(gòu)35于夾掣光罩90后，系令其依序向濕式清潔模塊5A及干式清潔模塊5B前進(jìn)位移(如圖1所示)，則如進(jìn)一步如第4、5及6圖所示，令各該擦拭機(jī)構(gòu)50于貼抵輪59兩側(cè)夾壓定位組70的壓板72相對(duì)定位板71下壓，使無(wú)塵布條80位于貼抵輪59的兩端并夾掣固定，接著所述的這些擦拭機(jī)構(gòu)50利用頂升組58的貼抵輪59上升(如圖5所示)，使其推動(dòng)對(duì)應(yīng)的無(wú)塵布條80部分向上凸出；

如此，當(dāng)光罩90經(jīng)過(guò)濕式清潔模塊5A的兩擦拭機(jī)構(gòu)50的貼抵輪59上方無(wú)塵布條80時(shí)，可利用含有清潔液的無(wú)塵布條80直接擦拭光罩90的護(hù)膜95兩側(cè)的下方表面96(如圖6所示)，而能直接去除所述的這些表面96附著的微塵、霧化、污漬等。且當(dāng)光罩90經(jīng)過(guò)干式清潔模塊5B的兩擦拭機(jī)構(gòu)50的貼抵輪59上方無(wú)塵布條80時(shí)，可利用含有清潔液的無(wú)塵布條80直接擦拭光罩90的護(hù)膜95兩側(cè)的下方表面96(如圖6所示)，而能直接擦干所述的這些表面96清潔液，避免光罩90的所述的這些表面96殘留水痕或污漬，大幅提升其清潔效果。

又，本發(fā)明的濕、干式清潔模塊5A、5B的擦拭機(jī)構(gòu)50可設(shè)置寬度較大的無(wú)塵布條80，其也能用于清潔光罩90的上方玻璃表面。

經(jīng)由上述的說(shuō)明，本發(fā)明利用濕、干式清潔模塊5A、5B的無(wú)塵布條80可直接擦拭光罩90表面96的作法，而能迅速、且有效的去除表面96附著的微塵或霧化，能進(jìn)行有效的清潔，從而提高后續(xù)制程的效率與合格率，再者本發(fā)明可進(jìn)行兩階段清潔，其能在清潔后擦干水分，因此不會(huì)殘留清潔水痕或污漬，有助于提升清潔品質(zhì)，更重要的是由于其系以含浸清潔液的濕式清潔模塊5A采直接擦拭方式去除微塵與污漬，不需使用到大量有機(jī)清潔液，不會(huì)產(chǎn)生大量待 處理廢液，可達(dá)維持環(huán)境安全性，且降低處理成本的功效，故可大幅增進(jìn)其實(shí)用性。

以上說(shuō)明對(duì)本發(fā)明而言只是說(shuō)明性的，而非限制性的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解，在不脫離權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下，可作出許多修改、變化或等效，但都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。