【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明涉及顯示器技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種涂布頭及涂布機(jī)。
背景技術(shù):
目前,液晶顯示技術(shù)已日趨成熟,通常液晶面板是將彩色濾光片基板和陣列基板貼合,再注入液晶之后再經(jīng)過切片加上電路模塊制程得到。目前業(yè)界采用低溫多晶硅技術(shù)(ltps,lowtemperaturepoly-silicon)技術(shù)的彩色濾光片,通常由六道制程(bm/r/g/b/oc/ps)組成,每道制程包括洗凈、涂布、預(yù)烘、曝光、顯影、后烘等工藝。這六道制程的原材料全部是光阻材料,因而光阻涂布的質(zhì)量直接影響到彩色濾光片的品質(zhì)。
其中,涂布工藝具體是通過涂布機(jī)將光阻材料添加到基板上。涂布頭為涂布機(jī)的光阻吐出部件,現(xiàn)有的涂布頭如圖1所示,包括本體部11,設(shè)置在本體部11內(nèi)部的三溝槽12、排氣口13、兩個光阻注入口14、15以及噴嘴16。
外界的光阻材料通過光阻注入口14、15注入到三溝槽12中,再通過加壓將光阻由噴嘴16打出涂覆在玻璃基板上,涂布時一般噴嘴16距離玻璃基板100um左右。當(dāng)產(chǎn)線閑置或者更換不同光阻時,需要將涂布頭內(nèi)的光阻排出,然后用清洗液將涂布頭的內(nèi)部洗凈浸泡一定時間,防止殘留的光阻造成污染。此過程稱為下膠泡管(下膠耗時40min,泡管一般時間在120min),即當(dāng)更換光組時,耗時較長,極大降低了生產(chǎn)效率和產(chǎn)線稼動率。
如果有灰塵(particle)從管道流入涂布頭或者大氣中顆粒進(jìn)入涂布頭均會造成涂布不均,需要人工進(jìn)行清除,然而清理難度大,耗時長,降低了生產(chǎn)效率。
因此,有必要提供一種涂布頭及涂布機(jī),以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種涂布頭及涂布機(jī),能夠提高生產(chǎn)效率。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種涂布頭,其包括本體部和噴嘴;在所述本體部內(nèi)的兩側(cè)分別設(shè)置有光阻注入槽;所述噴嘴設(shè)置在所述本體部的下方,所述噴嘴與其中一側(cè)的光阻注入槽連通。
在本發(fā)明的涂布頭中,所述涂布頭還包括用于提供光阻材料的光阻存儲單元,所述光阻存儲單元與所述光阻注入槽連接。
在本發(fā)明的涂布頭中,所述涂布頭還包括兩個光阻注入口,所述光阻注入口與所述光阻注入槽一一對應(yīng),所述光阻存儲單元通過所述光阻注入口與對應(yīng)的光阻注入槽連接。
在本發(fā)明的涂布頭中,所述涂布頭還包括三通閥,所述三通閥包括輸入端、第一輸出端以及第二輸出端,所述輸入端與所述光阻存儲單元連接,所述第一輸出端與其中一側(cè)的光阻注入槽連接,所述第二輸出端與另一側(cè)的光阻注入槽連接。
在本發(fā)明的涂布頭中,所述涂布頭還包括控制裝置,所述控制裝置與所述噴嘴連接,所述控制裝置用于在當(dāng)前使用側(cè)的光阻注入槽出現(xiàn)故障時,控制所述噴嘴與另外一側(cè)的光阻注入槽連接。
在本發(fā)明的涂布頭中,所述涂布頭還包括兩個排氣口和兩個光阻注入口,每個光阻注入槽對應(yīng)一所述排氣口和一所述光阻注入口,所述排氣口和所述光阻注入口分別與對應(yīng)的光阻注入槽連接。
在本發(fā)明的涂布頭中,所述光阻注入口包括主注入口和子注入口,所述主注入口的口徑大于所述子注入口的口徑。
在本發(fā)明的涂布頭中,所述光阻注入槽包括三個沿相同方向排列且相互連通的溝槽。
在本發(fā)明的涂布頭中,所述光阻注入槽用于供光阻注入和滲透。
本發(fā)明還提供一種涂布機(jī),其包括上述任意一種涂布頭。
本發(fā)明的涂布頭及涂布機(jī),通過在本體部的兩側(cè)設(shè)置光阻注入槽,當(dāng)其中一側(cè)光阻注入槽的內(nèi)部掉落直徑較大顆?;蛘哳w粒位置較深時,使用另外一側(cè)光阻注入槽進(jìn)行制程,從而縮短了異常處理時間,提高了生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
圖1為現(xiàn)有的涂布頭的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明的涂布頭的第一種結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本發(fā)明的涂布頭的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為本發(fā)明的涂布頭的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
以下各實(shí)施例的說明是參考附加的圖式,用以例示本發(fā)明可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本發(fā)明所提到的方向用語,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等,僅是參考附加圖式的方向。因此,使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明,而非用以限制本發(fā)明。在圖中,結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號表示。
請參照圖2,圖2為本發(fā)明的涂布頭的結(jié)構(gòu)示意圖。
如圖2所示,本發(fā)明的涂布頭包括本體部21和噴嘴24;其中本體部21包括頂部211和底部212。在一實(shí)施方式中,該本體部21的材料為合金材料,具體為硬質(zhì)合金材料。在所述底部212內(nèi)的兩側(cè)分別設(shè)置有光阻注入槽22、23;所述光阻注入槽22、23用于供光阻注入和滲透。其中每側(cè)的光阻注入槽包括三個沿相同方向排列且相互連通的溝槽。在一實(shí)施方式中,每側(cè)的光阻注入槽包括三個上下相互連通的溝槽。左側(cè)的光阻注入槽22包括三個上下相互連通的溝槽221-223。右側(cè)的光阻注入槽23包括三個上下相互連通的溝槽231-233。
所述噴嘴24設(shè)置在所述底部212的下方,所述噴嘴24與其中一側(cè)的光阻注入槽連通。圖2中,所述噴嘴24與右側(cè)的光阻注入槽23連通。
所述涂布頭還包括兩個排氣口25、27、兩個光阻注入口26、28,每側(cè)的光阻注入槽對應(yīng)設(shè)置一個排氣口和一個光阻注入口。比如左側(cè)的光阻注入槽22對應(yīng)設(shè)置有排氣口25和光阻注入口26,且該排氣口25和該光阻注入口26與該光阻注入槽22連接。右側(cè)的光阻注入槽23對應(yīng)設(shè)置有排氣口27和光阻注入口28,該排氣口27和該光阻注入口28與該光阻注入槽23連接。
每個光阻注入口包括主注入口和子注入口。左側(cè)的光阻注入口26包括主注入口261和子注入口262,所述主注入口261的口徑大于所述子注入口262的口徑。右側(cè)的光阻注入口28包括主注入口281和子注入口282。所述主注入口281的口徑大于所述子注入口282的口徑,以使涂布更加均勻。
如圖3所示,所述涂布頭還包括用于提供光阻材料的光阻存儲單元29,所述光阻存儲單元29與兩側(cè)的光阻注入槽22、23連接。其中,所述光阻存儲單元29與每側(cè)的光阻注入口26、28連接。具體地,該光阻存儲單元29與左側(cè)的主注入口261和子注入口262連接。該光阻存儲單元29與右側(cè)的主注入口281和子注入口282連接。由于光阻注入口26與左側(cè)的光阻注入槽22連接,光阻注入口28與右側(cè)的光阻注入槽23連接,使得光阻存儲單元29內(nèi)的光阻通過光阻注入口26、28流入光阻注入槽22或23中,從而進(jìn)行光阻涂布。
所述涂布頭還包括三通閥30,所述三通閥30包括輸入端301、第一輸出端302以及第二輸出端303,所述輸入端301與所述光阻存儲單元29連接,所述第一輸出端302與左側(cè)的光阻注入槽22連接,所述第二輸出端303與右側(cè)的光阻注入槽23連接。其中所述第一輸出端302與左側(cè)的光阻注入口26連接,所述第二輸出端303與右側(cè)的光阻注入口28連接。
如圖4所示,本發(fā)明還可包括控制裝置31,該控制裝置31與噴嘴24連接,用于在當(dāng)前使用側(cè)的光阻注入槽出現(xiàn)異常(或者故障)時,控制該噴嘴24與另外一側(cè)的光阻注入槽連接。
正常使用時,僅用其中一側(cè)的光阻注入口和光阻注入槽,另一側(cè)的光阻注入口和光阻注入槽為洗凈密封狀態(tài)。以使用右側(cè)的光阻注入槽為例,正常狀態(tài)下噴嘴24與右側(cè)的光阻注入槽23連接,并通過三通閥的控制,使得光阻存儲單元29中的光阻從右側(cè)的光阻注入口28注入光阻注入槽23中。若右側(cè)的光阻注入槽23內(nèi)部掉落直徑較大的顆粒或者顆粒的跌落位置較深時,用塑料材質(zhì)刮片刮拭仍無法解決時,此時通過控制裝置31將噴嘴24由右側(cè)移動到左側(cè),以使噴嘴24與左側(cè)的光阻注入槽22連接,并通過三通閥30的控制,使得光阻存儲單元29中的光阻從左側(cè)的光阻注入口26注入光阻注入槽22中。
在將噴嘴24與另一側(cè)的光阻注入槽連接時,需要先將異常側(cè)內(nèi)部的光阻排出再用清洗液洗凈,然后再移動噴嘴24,防止異常側(cè)光阻注入槽內(nèi)殘留的光阻固化,洗凈后將連接處密封處理。該清洗液可以為丙二醇單甲醚酸酯。
本發(fā)明的涂布頭當(dāng)內(nèi)部顆粒(particle)陷入造成品質(zhì)異常時,不需要對涂布頭進(jìn)行拆解以進(jìn)行內(nèi)部清潔處理,因此縮短了異常時處理難度和時間。其次由于提供雙側(cè)光阻注入槽設(shè)計(jì),當(dāng)更換光阻材料時,直接更換至另外一側(cè)的光阻注入槽,因此可減少泡管處理時間,提高了處理效率。當(dāng)涂布頭的單側(cè)發(fā)生異常時,可先記錄使用正常側(cè)的光阻注入槽繼續(xù)生產(chǎn),待產(chǎn)線閑置時進(jìn)行維修處理,從而提高了生產(chǎn)效率。
本發(fā)明的涂布頭,通過在本體部的兩側(cè)設(shè)置光阻注入槽,當(dāng)其中一側(cè)光阻注入槽的內(nèi)部掉落直徑較大顆?;蛘哳w粒位置較深時,可以使用另外一側(cè)光阻注入槽進(jìn)行制程,縮短了異常處理時間,提高了生產(chǎn)效率。
本發(fā)明還提供一種吸氣吹氣系統(tǒng),其包括涂布頭,如圖2所示,該涂布頭包括本體部21和噴嘴24;其中本體部21包括頂部211和底部212。在一實(shí)施方式中,該本體部21的材料為合金材料,具體為硬質(zhì)合金材料。在所述底部212內(nèi)的兩側(cè)分別設(shè)置有光阻注入槽22、23;所述光阻注入槽22、23用于供光阻注入和滲透。其中每側(cè)的光阻注入槽包括三個沿相同方向排列且相互連通的溝槽。在一實(shí)施方式中,每側(cè)的光阻注入槽包括三個上下相互連通的溝槽。左側(cè)的光阻注入槽22包括三個上下相互連通的溝槽221-223。右側(cè)的光阻注入槽23包括三個上下相互連通的溝槽231-233。
所述噴嘴24設(shè)置在所述底部212的下方,所述噴嘴24與其中一側(cè)的光阻注入槽連通。圖2中,所述噴嘴24與右側(cè)的光阻注入槽23連通。
所述涂布頭還包括兩個排氣口25、27、兩個光阻注入口26、28,每側(cè)的光阻注入槽對應(yīng)設(shè)置一個排氣口和一個光阻注入口。比如左側(cè)的光阻注入槽22對應(yīng)設(shè)置有排氣口25和光阻注入口26,且該排氣口25和該光阻注入口26與該光阻注入槽22連接。右側(cè)的光阻注入槽23對應(yīng)設(shè)置有排氣口27和光阻注入口28,該排氣口27和該光阻注入口28與該光阻注入槽23連接。
每個光阻注入口包括主注入口和子注入口。左側(cè)的光阻注入口26包括主注入口261和子注入口262,所述主注入口261的口徑大于所述子注入口262的口徑。右側(cè)的光阻注入口28包括主注入口281和子注入口282。所述主注入口281的口徑大于所述子注入口282的口徑,以使涂布更加均勻。
如圖3所示,所述涂布頭還包括用于提供光阻材料的光阻存儲單元29,所述光阻存儲單元29與兩側(cè)的光阻注入槽22、23連接。其中,所述光阻存儲單元29與每側(cè)的光阻注入口26、28連接。具體地,該光阻存儲單元29與左側(cè)的主注入口261和子注入口262連接。該光阻存儲單元29與右側(cè)的主注入口281和子注入口282連接。由于光阻注入口26與左側(cè)的光阻注入槽22連接,光阻注入口28與右側(cè)的光阻注入槽23連接,使得光阻存儲單元29內(nèi)的光阻通過光阻注入口26、28流入光阻注入槽22或23中,從而進(jìn)行光阻涂布。
所述涂布頭還包括三通閥30,所述三通閥30包括輸入端301、第一輸出端302以及第二輸出端303,所述輸入端301與所述光阻存儲單元29連接,所述第一輸出端302與左側(cè)的光阻注入槽22連接,所述第二輸出端303與右側(cè)的光阻注入槽23連接。其中所述第一輸出端302與左側(cè)的光阻注入口26連接,所述第二輸出端303與右側(cè)的光阻注入口28連接。
如圖4所示,本發(fā)明還可包括控制裝置31,該控制裝置31與噴嘴24連接,用于在當(dāng)前使用側(cè)的光阻注入槽出現(xiàn)異常(或者故障)時,控制該噴嘴24與另外一側(cè)的光阻注入槽連接。
正常使用時,僅用其中一側(cè)的光阻注入口和光阻注入槽,另一側(cè)的光阻注入口和光阻注入槽為洗凈密封狀態(tài)。以使用右側(cè)的光阻注入槽為例,正常狀態(tài)下噴嘴24與右側(cè)的光阻注入槽23連接,并通過三通閥的控制,使得光阻存儲單元29中的光阻從右側(cè)的光阻注入口28注入光阻注入槽23中。若右側(cè)的光阻注入槽23內(nèi)部掉落直徑較大的顆?;蛘哳w粒的跌落位置較深時,用塑料材質(zhì)刮片刮拭仍無法解決時,此時通過控制裝置31將噴嘴24由右側(cè)移動到左側(cè),以使噴嘴24與左側(cè)的光阻注入槽22連接,并通過三通閥30的控制,使得光阻存儲單元29中的光阻從左側(cè)的光阻注入口26注入光阻注入槽22中。
在將噴嘴24與另一側(cè)的光阻注入槽連接時,需要先將異常側(cè)內(nèi)部的光阻排出再用清洗液洗凈,然后再移動噴嘴,防止異常側(cè)光阻注入槽內(nèi)殘留的光阻固化,洗凈后將連接處密封處理。該清洗液可以為丙二醇單甲醚酸酯。
本發(fā)明的涂布頭當(dāng)內(nèi)部顆粒(particle)陷入造成品質(zhì)異常時,不需要對涂布頭進(jìn)行拆解以進(jìn)行內(nèi)部清潔處理,因此縮短了異常時處理難度和時間。其次由于提供雙側(cè)光阻注入槽設(shè)計(jì),當(dāng)更換光阻材料時,直接更換至另外一側(cè)的光阻注入槽,因此可減少泡管處理時間,提高了處理效率。當(dāng)涂布頭的單側(cè)發(fā)生異常時,可先記錄使用正常側(cè)的光阻注入槽繼續(xù)生產(chǎn),待產(chǎn)線閑置時進(jìn)行維修處理,從而提高了生產(chǎn)效率。
本發(fā)明的涂布機(jī),通過在本體部的兩側(cè)設(shè)置光阻注入槽,當(dāng)其中一側(cè)光阻注入槽的內(nèi)部掉落直徑較大顆?;蛘哳w粒位置較深時,使用另外一側(cè)光阻注入槽進(jìn)行制程,縮短了異常處理時間,提高了生產(chǎn)效率。
綜上所述,雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上,但上述優(yōu)選實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),均可作各種更動與潤飾,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。