本實用新型是關(guān)于一種清潔裝置以及具有清潔裝置的高溫制程裝置。

背景技術(shù)：

傳統(tǒng)搬移玻璃基板的方式例如是透過多個并排滾輪的轉(zhuǎn)動，而將玻璃基板帶動至特定的位置，以便對玻璃基板進(jìn)行后續(xù)的處理。

然而，當(dāng)滾輪轉(zhuǎn)動并移動玻璃基板的載板時，滾輪難免因摩擦載板而于滾輪表面產(chǎn)生污染物(如微粒、摩擦生成物)，且揚起的污染物可能會掉落在玻璃基板上，導(dǎo)致玻璃基板在后續(xù)制程中造成交叉污染。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的一目的在于提供一種清潔裝置以及具有清潔裝置的高溫制程裝置，藉以解決先前技術(shù)所述的問題，意即，移除并送走污染物，減少污染物掉落在玻璃基板上的機會，進(jìn)而降低玻璃基板在后續(xù)制程中造成交叉污染的機會。

依據(jù)本實用新型的一實施方式，此種清潔裝置包含輸送平臺、吸氣模塊與刮除單元。輸送平臺包含可轉(zhuǎn)動的滾輪，滾輪具有一軸心。吸氣模塊包含抽氣泵與吸嘴頭。抽氣泵連接吸嘴頭，且吸嘴頭具有抽氣口。刮除單元位于抽氣口內(nèi)，且刮除單元介于滾輪與吸嘴頭之間。當(dāng)滾輪朝一旋轉(zhuǎn)方向轉(zhuǎn)動，刮除單元位于一區(qū)域內(nèi)，區(qū)域的第一邊界為一通過所述軸心的鉛垂面，區(qū)域的第二邊界是鉛垂面沿所述旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)45度角所形成的一通過所述軸心的邊界面。

在本實用新型一或多個實施方式中，刮除單元具有接觸面。接觸面接觸滾輪，接觸面的長軸方向平行滾輪的軸心。

在本實用新型一或多個實施方式中，刮除單元包含本體及包覆層。包覆層包覆本體，且包覆層的硬度小于滾輪的硬度。

在本實用新型一或多個實施方式中，滾輪容納于抽氣口內(nèi)，使得滾輪于其垂直方向上的投影面積位于抽氣口內(nèi)。

在本實用新型一或多個實施方式中，抽氣口為弧面，且弧面的弧度相同于滾輪的弧度。

依據(jù)本實用新型的另一實施方式，此種高溫制程裝置包含腔室、加熱器、進(jìn)氣部、排氣部及清潔裝置。腔室具有內(nèi)部空間。加熱器對內(nèi)部空間加熱。進(jìn)氣部位于內(nèi)部空間內(nèi)，且進(jìn)氣部提供氣體。排氣部位于內(nèi)部空間內(nèi)，且排氣部排出所述氣體。清潔裝置包含輸送平臺、吸氣模塊與刮除單元。輸送平臺包含可轉(zhuǎn)動的滾輪。吸氣模塊包含抽氣泵與吸嘴頭。抽氣泵連接吸嘴頭，且吸嘴頭具有抽氣口。刮除單元位于抽氣口內(nèi)，且刮除單元介于滾輪與吸嘴頭之間。刮除單元位于一區(qū)域內(nèi)，此區(qū)域的第一邊界為一通過滾輪軸心的鉛垂面，區(qū)域的第二邊界是以第一邊界為依據(jù)，而以順時針方向或逆時針方向旋轉(zhuǎn)45度角所形成的一通過所述軸心的邊界面。

在本實用新型一或多個實施方式中，滾輪以順時針方向轉(zhuǎn)動時，第二邊界以第一邊界為依據(jù)，而以順時針方向旋轉(zhuǎn)45度角形成邊界面。

在本實用新型一或多個實施方式中，滾輪以逆時針方向轉(zhuǎn)動時，第二邊界以第一邊界為依據(jù)，而以逆時針方向旋轉(zhuǎn)45度角形成邊界面。

在本實用新型一或多個實施方式中，刮除單元的硬度小于滾輪的硬度。

在本實用新型一或多個實施方式中，刮除單元為刮刀。刮刀具有本體與包覆層，且包覆層位于本體的外表面。本體為氧化鋁，包覆層為陶瓷材料。

以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對本實用新型的限定。

附圖說明

圖1繪示依據(jù)本實用新型一實施方式的清潔裝置的側(cè)視圖；

圖2繪示圖1的局部的放大示意圖；

圖3繪示圖2的側(cè)視圖；

圖4繪示依據(jù)本實用新型一實施方式的刮除單元的立體圖；

圖5繪示依據(jù)本實用新型一實施方式的高溫制程裝置的側(cè)視圖；以及

圖6繪示圖4沿AA線段的剖視圖。

其中，附圖標(biāo)記

10：清潔裝置

100：輸送平臺

110：滾輪

110A：軸心

120：端面

130：圓周面

140：底座

200：吸氣模塊

210：抽氣泵

220：管路

230：吸嘴頭

231：抽氣口

232：弧面

300：刮除單元

300A：長軸方向

310、311：第一長側(cè)面

311A：長軸方向

320、321：第二長側(cè)面

330：短端面

350：本體

360：包覆層

400：特定區(qū)域

410：鉛垂面

420：邊界面

500：第一凈空區(qū)

600：第二凈空區(qū)

700：高溫制程裝置

710：腔室

711：內(nèi)部空間

720：加熱器

730：進(jìn)氣部

740：排氣部

750：入口

760：出口

C：載板

D1：第一旋轉(zhuǎn)方向

D2：第二旋轉(zhuǎn)方向

L1、L2：長度

M：局部

P：投影面積

S：基板

X、Y、Z：軸

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的描述，以更進(jìn)一步了解本實用新型的目的、方案及功效，但并非作為本實用新型所附權(quán)利要求保護(hù)范圍的限制。

以下將以圖式揭露本實用新型的多個實施方式，為明確說明起見，許多實務(wù)上的細(xì)節(jié)將在以下敘述中一并說明。然而，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)了解到，在本實用新型部分實施方式中，這些實務(wù)上的細(xì)節(jié)并非必要的，因此不應(yīng)用以限制本實用新型。此外，為簡化圖式起見，一些習(xí)知慣用的結(jié)構(gòu)與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之。另外，為了便于讀者觀看，圖式中各元件的尺寸并非依實際比例繪示。

圖1繪示依據(jù)本實用新型一實施方式的清潔裝置10的側(cè)視圖。圖2繪示圖1的局部M的放大示意圖。圖3繪示圖2的側(cè)視圖。請參閱圖1與圖2所示，清潔裝置10包含輸送平臺100、吸氣模塊200與多個刮除單元300。輸送平臺100包含多個可獨立轉(zhuǎn)動的滾輪110。這些滾輪110彼此間隔地并列。每一滾輪110具有一穿過本身的軸心110A(即自轉(zhuǎn)軸，如Y軸)，使得滾輪110得以沿其軸心110A朝第一旋轉(zhuǎn)方向D1(圖中為順時針方向)旋轉(zhuǎn)，以依序帶動一物體(例如用以承載基板S的載板C)沿X軸的方向移動。于本實施方式中，滾輪110可透過馬達(dá)與齒輪組來帶動旋轉(zhuǎn)，但本實用新型不以此為限。

吸氣模塊200包含抽氣泵210、管路220與多個吸嘴頭230。抽氣泵210透過管路220分別連接這些吸嘴頭230，而每一吸嘴頭230的一側(cè)具有抽氣口231，且抽氣口231面對且位置對應(yīng)于滾輪110。于本實施方式中，刮除單元300位于吸嘴頭230的抽氣口231內(nèi)，并且介于滾輪110與吸嘴頭230之間。請參閱圖1與圖2，刮除單元300是定位于吸嘴頭230，且可接觸于滾輪110表面，故，當(dāng)滾輪110朝第一旋轉(zhuǎn)方向D1旋轉(zhuǎn)時，刮除單元300得以刮除滾輪110表面所附著的污染物(如微粒、摩擦生成物等)，且被刮除的污染物得以迅速從抽氣口231被抽氣泵210帶走。

更具體地，在本實施方式中，刮除單元300被配置于滾輪110與吸嘴頭230之間的一特定區(qū)域400中，此特定區(qū)域400具有相對的第一邊界與第二邊界。請參閱圖2，第一邊界為一通過所述軸心110A的鉛垂面410。第二邊界是以鉛垂面410為依據(jù)，而以第一旋轉(zhuǎn)方向D1(順時針方向)旋轉(zhuǎn)45度角所形成的一邊界面420，且邊界面420亦通過所述軸心110A。于另一實施方式中，滾輪110則以逆時針方向所轉(zhuǎn)動(未提供圖示說明)，其中第一邊界依舊為通過軸心110A的鉛垂面410。第二邊界則是以鉛垂面410為依據(jù)，而依逆時針方向旋轉(zhuǎn)45度角所形成的一邊界面，且邊界面亦通過所述軸心110A。

在本實施方式中，滾輪110與抽氣口231之間更具有第一凈空區(qū)500與第二凈空區(qū)600。特定區(qū)域400分別緊鄰于第一凈空區(qū)500與第二凈空區(qū)600，使得特定區(qū)域400位于第一凈空區(qū)500與第二凈空區(qū)600之間，且第一凈空區(qū)500大于第二凈空區(qū)600。更具體地，第一凈空區(qū)500的范圍為以上述鉛垂面410為起點，沿著相反所述第一旋轉(zhuǎn)方向D1的第二旋轉(zhuǎn)方向D2(逆時針方向)開始旋轉(zhuǎn)90度角后所形成的區(qū)域。第二凈空區(qū)600的范圍為以上述邊界面420為起點，沿著所述第一旋轉(zhuǎn)方向D1繼續(xù)旋轉(zhuǎn)45度角后所形成的區(qū)域。須了解到，上述凈空區(qū)分別意指一個其內(nèi)只有空氣的空間。

如此，透過第一凈空區(qū)500，抽氣泵210(圖1)不僅可以帶走空氣中的一部分粉塵，更可以帶走滾輪110表面尚未被刮除單元300接觸但附著力不佳的部分污染物。另外，透過第二凈空區(qū)600，抽氣泵210(圖1)亦可帶走空氣中的另一部分粉塵，更可以帶走滾輪110表面上已被刮除單元300接觸后且即將脫離滾輪110表面的污染物。

于本實施方式中，將刮除單元300配置于特定區(qū)域400為較佳區(qū)域選擇，反觀，若刮除單元300改配置于上述第一凈空區(qū)500或第二凈空區(qū)600時，將容易導(dǎo)致刮除單元300斷裂或刮除率不佳的情形。

請參閱圖2與圖3，其中圖2為從Y方向的視角來繪示出滾輪、吸氣模塊與刮除單元的側(cè)示圖，而圖3為從X方向的視角而繪示出滾輪、吸氣模塊與刮除單元的另一側(cè)示圖。在此實施方式中，刮除單元300的長軸方向300A平行滾輪110的軸向(如軸心110A)，且刮除單元300的長度L1大于滾輪110的長度L2。舉例來說，滾輪110呈圓筒狀，具有二相對端面120與圓周面130，圓周面130位于滾輪110的二相對端面120之間，且圓周面130分別圍繞且鄰接滾輪110的各個端面120。滾輪110的二相對端面120之間的最小直線距離即為上述滾輪110的長度L2。

圖4繪示依據(jù)本實用新型一實施方式的刮除單元300的立體圖。如圖4所示，刮除單元300呈片狀，且刮除單元300包含二相對的短端面330、二相對的第一長側(cè)面310、311與二相對的第二長側(cè)面320、321，第一長側(cè)面310、311與第二長側(cè)面320、321皆位于此二短端面330之間。故，此二短端面330之間的最小直線距離即為上述刮除單元300的長度L1。

當(dāng)刮除單元300的長度L1大于滾輪110的長度L2時，刮除單元300能夠依序接觸滾輪110的圓周面130的所有區(qū)域，滾輪110的圓周面130所附著的污染物便能依序被刮除單元300刮除，以提高清潔效率并縮短清潔時間。

于其他實施方式中，刮除單元的長度也可以等于滾輪的長度，使得刮除單元能夠依序接觸滾輪的圓周面的所有區(qū)域。

如圖2、圖4所示，此實施方式中，刮除單元300藉由第一長端面311作為接觸面，以部分地接觸滾輪110的圓周面130，刮除滾輪110的圓周面130所附著的污染物。第一長端面311呈長方形，且第一長端面311的長軸方向311A平行于刮除單元300的長軸方向300A。如此，刮除單元300可藉由第一長端面311部分地接觸滾輪110的圓周面130，使得刮除單元300較不容易傷害滾輪110。但本實用新型不限于此，刮除單元300可透過不同的材料或形狀設(shè)計，減少對于滾輪110的傷害，亦可使第一長端面以全面方式來接觸滾輪表面。

如圖1所示，滾輪110可部分地容納于抽氣口231內(nèi)，使得滾輪110沿一垂直方向(如Z軸)的投影面積P全部都位于抽氣口231內(nèi)。舉例來說，如圖2所示，抽氣口231為一弧面232，弧面232的弧度相同或大致相同于滾輪110的圓周面130的弧度，使得滾輪110能夠匹配地位于抽氣口231內(nèi)，提高污染物被吸入吸嘴頭230內(nèi)的效率。然而，本實用新型不限于此，抽氣口的底部不限必須具有弧面，且也不限其底部必須相同于滾輪的圓周面的弧度。

于本實施方式中，刮除單元300的硬度小于滾輪110的硬度，以保護(hù)滾輪110不致受到刮除單元300的磨損。舉例而言，滾輪110可為陶瓷材料或其他類似材料，而刮除單元300可為金屬或其他硬性材料。于本實施方式中，刮除單元300可為一刮刀結(jié)構(gòu)，助于使用于高溫的環(huán)境中。但本實用新型并不以此限，其他實施方式中，如常溫或低溫的環(huán)境中，刮除單元可依需求而選擇研磨器或毛刷。

在本實施方式中，如圖1所示，輸送平臺100包含底座140，而滾輪110可樞轉(zhuǎn)地設(shè)置于底座140上。詳言之，滾輪110的軸心110A設(shè)有軸心桿，而滾輪110可依軸心桿而進(jìn)行轉(zhuǎn)動，且軸心桿可設(shè)置或連接于底座140。如此一來，滾輪110能夠相對底座140樞轉(zhuǎn)，且底座140亦可支撐著滾輪110。但本實用新型不限于此，亦可選擇其他元件來支撐滾輪，且確保滾輪的轉(zhuǎn)動與傳送功能可以正常運作即可。

圖5繪示依據(jù)本實用新型一實施方式的高溫制程裝置700的側(cè)視圖。上述的清潔裝置可應(yīng)用于一高溫制程裝置700上，高溫制程裝置700例如為基板快速升降溫的制程(rapid thermal process，RTP)機臺。然而，本實用新型不限于高溫制程裝置的種類。

如圖5所示的實施方式中，高溫制程裝置700包含腔室710、加熱器720、進(jìn)氣部730、排氣部740、入口750、出口760及清潔裝置10。腔室710可形成內(nèi)部空間711，而加熱器720則位于內(nèi)部空間711，且可對內(nèi)部空間711加熱至一溫度(例如攝氏600度)。進(jìn)氣部730可連通于內(nèi)部空間711，用以對內(nèi)部空間711提供氣體(例如氮氣或其他)，如圖5所示，進(jìn)氣部730設(shè)置于內(nèi)部空間711的上方。排氣部740亦可連通的一端位于內(nèi)部空間711內(nèi)，用以排出內(nèi)部空間711內(nèi)所述氣體，如圖5所示，排氣部740安排于內(nèi)部空間711的下方。如此一來，當(dāng)進(jìn)氣部730與排氣部740于操作期間，則會在內(nèi)部空間711形成流場，使得內(nèi)部空間711中的微粒、污染物或摩擦生成物，于此流場中被吸進(jìn)排氣部740而離開腔室710。

于本實施方式中，清潔裝置10的滾輪110、刮除單元300、吸嘴頭230皆位于進(jìn)氣部730與排氣部740之間。高溫制程裝置700更包含載板C，用以承載基板S自入口750進(jìn)入內(nèi)部空間711，且透過滾輪110的帶動與傳送，載板C可自出口760離開內(nèi)部空間711，藉此將基板傳送至腔室710內(nèi)進(jìn)行高溫制程。載板C可為石英材料所制成，助于在高溫環(huán)境使用，亦可有足夠的支撐力能夠承載受到高溫影響而軟化的基板S，而基板S可為玻璃基板、高分子基板、軟質(zhì)或硬質(zhì)基板，但本實用新型并不特別限制其載板C與基板S的材料或形式。

如此，本實施方式的清潔裝置10可有效清除滾輪110表面的污染物，可以減少污染物因為氣流擾動而掉落在基板S上的機會，進(jìn)而降低基板S在后續(xù)制程中造成交叉污染的機會。此外，當(dāng)載板C進(jìn)入腔室710后，會影響進(jìn)氣部730與排氣部740于操作期間的流場，使得部分微?；蛭廴疚餆o法順利透過排氣部740而離開腔室710。因此，更可透過清潔裝置10將其殘留的微?；蛭廴疚锱懦谇皇?10，以提升制程良率。

更進(jìn)一步地，圖6繪示圖4沿AA線段的剖視圖?？剂颗浜细邷刂瞥萄b置的高溫環(huán)境(如攝氏600度)，如圖5與圖6的實施方式中，刮除單元300為一刮刀，且刮除單元300包含本體350及包覆層360。刮除單元300的本體350為氧化鋁或氧化鈦等金屬化合物，其中氧化鋁的材質(zhì)較輕，并得以承受至攝氏1200度的高溫，且保有些微彈性，可減少刮除單元300于操作刮除時，產(chǎn)生斷裂問題。然而，氧化鋁在高溫時會剝落而產(chǎn)生粉塵，使得設(shè)置包覆層360來包覆本體350所有表面，亦即包覆層360位于本體350的外表面，用以保護(hù)本體350不致受高溫剝落而產(chǎn)生粉塵。包覆層360可為陶瓷材料，助于使用于高溫環(huán)境，但本實用新型不限于此，包覆層360亦可受到其他考量而選擇另外的材料。于本實施方式中，包覆層360的硬度小于滾輪110的硬度，以保護(hù)滾輪110不致受到刮除單元301的磨損，而滾輪110與包覆層360可分別包含其硬度不同的陶瓷，適于高溫環(huán)境。

當(dāng)然，本實用新型還可有其它多種實施例，在不背離本實用新型精神及其實質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本實用新型作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本實用新型所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。