本發(fā)明涉及電子半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種用于清潔高溫壓頭的磨石、清潔裝置及清潔控制方法。
背景技術(shù):
高溫壓頭在持續(xù)壓合操作過程中,其表面會(huì)粘附一層膠狀類異物。如圖1所示,目前多采取間隔一段時(shí)間,使用的長條狀或方塊狀的磨石10對(duì)高溫壓頭20的端面進(jìn)行摩擦清潔,但上述磨石10難以將摩擦作用力集中在高溫壓頭端面的待清潔區(qū)域,清潔效果較差。并且,上述磨石10反復(fù)摩擦使用后的表面會(huì)形成凹陷,高溫壓頭與磨石相互移動(dòng)時(shí)會(huì)產(chǎn)生側(cè)向摩擦作用力,減小了高溫壓頭端面的接觸壓力,難以清除黏附較為頑固的膠狀物,進(jìn)而使得高溫壓頭清潔不完全,造成產(chǎn)品異常,同時(shí)還會(huì)增加高溫壓頭的磨損。
鑒于此,有必要提供一種新的磨石、清潔裝置及清潔控制方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種磨石、清潔裝置及清潔控制方法,能夠?qū)Ω邷貕侯^端面進(jìn)行有效清潔,消除磨石與高溫壓頭側(cè)面之間的摩擦作用力,以保證正常生產(chǎn)。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明提供了一種用于清潔高溫壓頭的磨石,所述磨石與高溫壓頭前后相對(duì)往復(fù)移動(dòng)以清潔所述高溫壓頭的端面的待清潔區(qū)域。所述磨石包括基部及形成于基部表面的若干清潔部,所述清潔部沿橫向呈間隙設(shè)置并形成有第一溝槽,任一所述清潔部沿所述端面的橫向?qū)挾刃∮谒龆嗣娴膶挾?,并且,所述清潔部與所述端面的待清潔區(qū)域相接觸時(shí),所述端面沿橫向的側(cè)緣位于所述第一溝槽上方或所述磨石的外側(cè)。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述清潔部還形成有第二溝槽。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述第二溝槽沿橫向延伸并與第一溝槽相垂直。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述第二溝槽的深度小于第一溝槽的深度。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述清潔部具有形成于相鄰兩條所述第一溝槽內(nèi)并相對(duì)設(shè)置的兩個(gè)側(cè)壁及朝向高溫壓頭的頂壁,所述側(cè)壁與頂壁的連接處形成有倒角面。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述磨石呈長方塊狀或圓柱狀。
本發(fā)明還提供一種具有所述磨石的清潔裝置,所述清潔裝置還包括驅(qū)使所述高溫壓頭或磨石前后相對(duì)往復(fù)移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明還提供一種所述清潔裝置的清潔控制方法,包括:安裝磨石;
通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)磨石與高溫壓頭的橫向相對(duì)位置,使得某一既定清潔部位于高溫壓頭下方且與端面的待清潔區(qū)域沿前后方向相對(duì)齊;
調(diào)節(jié)高溫壓頭的高度,使得既定清潔部與所述端面相接觸;
啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),累計(jì)高溫壓頭或磨石往復(fù)運(yùn)行時(shí)長或往復(fù)運(yùn)行次數(shù)直至達(dá)到預(yù)設(shè)時(shí)長t或預(yù)設(shè)往復(fù)運(yùn)行次數(shù)n,完成清潔操作。
本發(fā)明的有益效果是:采用本發(fā)明磨石、清潔裝置及清潔控制方法,通過形成于基部的某一清潔部既能對(duì)高溫壓頭端面的待清潔區(qū)域進(jìn)行摩擦清潔,消除磨石與高溫壓頭側(cè)面之間的摩擦作用力,能夠?qū)Ω邷貕侯^端面進(jìn)行有效清潔,保證正常生產(chǎn)。
附圖說明
圖1是現(xiàn)有磨石與高溫壓頭表面相互摩擦作用示意圖;
圖2是本發(fā)明磨石一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是圖2中磨石與高溫壓頭表面相互摩擦作用示意圖;
圖4是圖3中磨石與高溫壓頭表面相互摩擦前后方向平面示意圖。
具體實(shí)施方式
以下將結(jié)合附圖所示的實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。但該實(shí)施方式并不限制本發(fā)明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)該實(shí)施方式所做出的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
請(qǐng)參閱圖2至圖4為本發(fā)明一較佳實(shí)施例。本發(fā)明提供的磨石100用以對(duì)高溫壓頭20的端面21進(jìn)行清潔,包括基部11及形成于基部11表面的若干清潔部12。具體地,通過將所述磨石100安裝至高溫壓頭20下方的機(jī)臺(tái)上,再與所述高溫壓頭20的端面21進(jìn)行前后相對(duì)往復(fù)摩擦,以將所述端面21的待清潔區(qū)域上粘附的膠狀物或其它雜質(zhì)去除。一般地,所述待清潔區(qū)域位于端面21的中央位置。
所述清潔部12沿橫向呈間隙設(shè)置并形成有第一溝槽13,任一所述清潔部12沿所述端面21的橫向?qū)挾刃∮谒龆嗣?1的寬度,并且,所述清潔部12與所述端面21的待清潔區(qū)域相接觸時(shí),所述端面21沿橫向的側(cè)緣位于所述第一溝槽13上方或所述磨石100的外側(cè)。藉此,所述清潔部12與端面21進(jìn)行前后相對(duì)移動(dòng)摩擦?xí)r,所述高溫壓頭20的側(cè)面22不會(huì)與磨石100相接觸,避免清潔進(jìn)程中所述側(cè)面22與磨石100進(jìn)行相互摩擦而產(chǎn)生的側(cè)向摩擦力,以保證端面21與磨石的相互作用力,保證端面21的有效清潔。
所述清潔部12具有形成于相鄰兩條所述第一溝槽13內(nèi)并相對(duì)設(shè)置的兩個(gè)側(cè)壁121及朝向高溫壓頭的頂壁122。所述側(cè)壁121與頂壁122的連接處還形成有倒角面123,以避免所述清潔部12的頂角處在工作進(jìn)程中受應(yīng)力崩壞。所述倒角面123設(shè)置為斜面或弧面。
所述清潔部12還形成有自所述頂壁122朝下凹陷設(shè)置的第二溝槽14,所述第二溝槽14用以增強(qiáng)所述頂壁122與待清潔區(qū)域之間的局部摩擦力,有效克服傳統(tǒng)磨石10由于表面較為平整而使得粘附較牢固的膠狀物難以清除的問題。
在本實(shí)施例中,所述磨石100呈長方塊狀。所述第二溝槽14沿橫向連通相應(yīng)清潔部12兩側(cè)的兩條第一溝槽13并與所述第一溝槽13相垂直。并且,由于所述清潔部12在前后方向受到的應(yīng)力較大,所述第二溝槽14的深度小于第一溝槽13的深度。為實(shí)現(xiàn)上述目的,在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中,所述第二溝槽14還可以沿偏離前后延伸的方向設(shè)置,抑或者呈非連續(xù)狀設(shè)置。
本發(fā)明還提供一種具有所述磨石100的清潔裝置,所述清潔裝置還包括驅(qū)使所述高溫壓頭20相對(duì)磨石100前后往復(fù)移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30。
本發(fā)明還提供一種所述清潔裝置的清潔控制方法,包括:安裝磨石100;
通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30調(diào)節(jié)磨石100與高溫壓頭20的橫向相對(duì)位置,使得某一既定清潔部12位于高溫壓頭20下方且與端面21的待清潔區(qū)域沿前后方向相對(duì)齊;
調(diào)節(jié)高溫壓頭20的高度,使得既定清潔部12與所述端面21相接觸;
啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30,累計(jì)高溫壓頭20或磨石100往復(fù)運(yùn)行時(shí)長或往復(fù)運(yùn)行次數(shù)直至達(dá)到預(yù)設(shè)時(shí)長t或預(yù)設(shè)往復(fù)運(yùn)行次數(shù)n,完成清潔操作。
在本發(fā)明的另一實(shí)施方式中(未圖示),所述磨石100呈圓柱狀,其軸心線呈橫向設(shè)置,所述第一溝槽13呈環(huán)形開設(shè)在所述磨石100的柱面上。相應(yīng)地,所述清潔裝置還具有驅(qū)使磨石100進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)。
綜上所述,采用本發(fā)明磨石100、清潔裝置及清潔控制方法,所述基部11便于磨石100的安裝并加強(qiáng)清潔部12的支撐結(jié)構(gòu)強(qiáng)度;所述清潔部12能夠?qū)Ω邷貕侯^20的端面21的待清潔區(qū)域進(jìn)行摩擦清潔,消除磨石100與高溫壓頭20的側(cè)面22之間的摩擦作用力,以對(duì)高溫壓頭20的端面21進(jìn)行有效清潔,保證正常生產(chǎn)。
應(yīng)當(dāng)理解,雖然本說明書按照實(shí)施方式加以描述,但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案,說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個(gè)整體,各實(shí)施方式中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合,形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
上文所列出的一系列的詳細(xì)說明僅僅是針對(duì)本發(fā)明的可行性實(shí)施方式的具體說明,它們并非用以限制本發(fā)明的保護(hù)范圍,凡未脫離本發(fā)明技藝精神所作的等效實(shí)施方式或變更均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。